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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 本发明涉及一种光刻胶用剥离液及其制备方法,剥离液按照重量份数计算,包括:32‑58份有机胺、0.5‑2.5份螯合剂、0.2‑2份表面活性剂和50‑80份有机溶剂;其中,所述有机胺为2‑羟基吡啶‑N‑氧化物和单乙醇胺经过酯化反应结合后的反应产...
  • 本申请涉及半导体器件制造领域,具体为一种防溅射装置、清洁装置及基板处理设备。防溅射装置用于阻挡喷嘴喷射至基板上的药液溅射至腔室内,具体包括第一保护罩,所述喷嘴设置在所述第一保护罩内;第二保护罩,当喷嘴向基板喷射药液时围设在所述基板和所述第一...
  • 本发明公开了一种曝光参数快速整定方法、系统及数字曝光机,方法包括:控制数字曝光机的曝光头投射图案处于静态全投射状态;以给定的初始曝光头光功率、初始曝光静态扫描速度对曝光头投射图案进行曝光尺标定曝光;根据曝光尺的标定曝光结果调节曝光静态扫描速...
  • 本说明书涉及一种光刻曝光控制方法及装置,方法包括:获取样品台底座的当前速度和当前加速度;将所述样品台底座的当前速度和当前加速度输入预先训练的相对位移预测模型中,以输出掩模和样品之间的当前相对位移;基于掩模和样品之间的当前相对位于以及历史相对...
  • 本实用新型涉及一种热成像快门,包括安装座,所述安装座上设置有安装座通光孔,所述安装座上转动设置有叶片组件,所述叶片组件上设置有滑槽,所述滑槽内滑设有滑柱,所述滑柱的侧壁上可拆装设置有软垫,所述安装座上设置有驱动滑柱的驱动机构,驱动机构驱动滑...
  • 一种晶圆曝光方法、装置、存储介质以及电子设备,其中方法包括:提供晶圆;在晶圆上形成光刻胶;基于晶圆和曝光区域信息,将光刻胶划分为有效区域和无效区域;根据有效区域的位置信息进行曝光,根据有效区域的位置信息进行曝光的步骤中,对有效区域的光刻胶进...
  • 本实用新型公开了一种外加热除雾镜头,包括镜筒,镜筒上设置有处理组件,镜筒的外部设置有固定组件,固定组件的部分设置在处理组件的内部,通过设置处理组件,能够在对镜头上出水雾时,对镜头均匀去除水雾,并且还可以保证水雾去除的效率,同时还可以快速的进...
  • 本申请实施例公开了一种激光直写设备,包括:竖直立板、上水平导轨组件、下水平导轨组件、竖直导轨部件、激光器部件和控制模块;所述上水平导轨组件和所述下水平导轨组件水平平行设置在所述竖直立板的同侧的上、下两端;所述激光器部件包括底座,所述底座上安...
  • 一种预对准系统,所述预对准系统包括被配置成收集来自图案形成装置的衍射束的公共物镜组,其中公共物镜组还被配置成在预对准系统的物空间中产生远心度。预对准系统还包括具有至少一个图像透镜系统的多路径传感阵列,其中至少一个图像透镜系统包括远心转换器透...
  • 一种调节电路,包括:运算放大器、第一调节单元、第二调节单元、第一电阻和第二电阻。所述第一调节单元的输入端适于输入斜坡信号,所述第一调节单元输出端连接所述第二调节单元的输入端和所述运算放大器的负相输入端。所述第二调节单元的输出端连接所述运算放...
  • 本发明公开了一种集成限幅阈值调控与能量回收功能的射频防护电路,属于反射型限幅器技术领域,包括射频输入端、环形器、分支线定向耦合器、偏置及限幅网络、能量回收单元、负载端和射频输出端,所述能量回收单元包括高功率整流器和直通滤波器;环形器和分支线...
  • 一种用于确定图案化过程的性能的方法,该方法包括:接收衬底的一部分的图像,衬底的该部分包括第一区域和至少第二区域,第一区域包括与第一图案化过程相关联的第一特征,第二区域包括与第二图案化过程相关联的第二特征,其中,第一特征和第二特征在被辐射照射...
  • 本发明提供一种紧凑型深海旋转相变驱动器,通过石蜡相变膨胀驱动‑液压传递‑机械转换三阶段实现深海旋转运动输出:陶瓷加热片通电后加热乙二醇导热介质,间接使相变微单元群内的石蜡‑膨胀石墨复合材料熔融膨胀。膨胀石墨显著提升石蜡热导率,确保快速均匀相...
  • 提供不会对操作面施加大的压力从而也能够对可折叠终端安心地使用并且能够合适地检测笔压的电子笔。轴部(52)、芯体保持构件(53)、活塞弹簧(54)、缸部(55)收纳于单元壳体(51)而构成的芯体单元(5)构成笔压传递部,将向芯体(4)施加的笔...
  • 本实用新型属于曝光灯技术领域,具体涉及一种曝光机用紫外曝光灯,本新型包括:灯芯,用于提供紫外线光源;设在灯芯外侧的灯杯,用于容纳并反射灯芯发出的光线,其包括:厚度依次增大的第一边缘部、第二边缘部、第三边缘部和第四边缘部;其中所述第一边缘部、...
  • 本实用新型涉及一种快门机构及成像设备,其包括:第一快门叶片,其开设有第一导向结构;第二快门叶片,其开设有第二导向结构;连杆,其具有第一端部以及第二端部;第一连接件,其一端连接所述连杆的第一端部,另一端与所述第一导向结构配合;第二连接件,其一...
  • 本发明提供一种气浴装置和光刻机,通过在气浴装置的本体内设置对应进气口设置且朝向远离进气口方向延伸的分流板,以使得从进气口流入的气流能够经气流通道重新分配,以均匀的从出气口流出。而分流板远离进气口弯折设置,从而可以调整气流的流体直径和方向,有...
  • 本申请公开了一种多光束干涉曝光系统、相位锁定方法、装置及存储介质,涉及光栅制造技术领域,系统包括干涉曝光子系统、相位探测子系统和相位控制子系统,干涉曝光子系统用于发出多束相干光,相位探测子系统从相干光中分光引出用于锁相的子相干光并形成锁相图...
  • 本发明实施例提供了一种光刻胶组合物及其制备方法,该光刻胶组合物包括以下原料:0.1‑10重量组分的光致酸产生剂、10‑30重量组分的成膜树脂、0.1‑5重量组分的酸扩散抑制剂以及55‑89.8重量组分的有机溶剂A;其中所述光致酸产生剂为含双...
  • 本发明公开了一种光刻胶剥离液组合物,包括:质子性溶剂58wt%‑90wt%;非质子亲质子性溶剂9wt%‑45wt%;有机碱化合物0.9wt%‑10wt%;添加剂0.01wt%‑1wt%;辅助添加剂0.01wt%‑3wt%;余量为去离子水。本...
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