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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 一种光学低通滤波器装置
    一种光学低通滤波器装置_苏州英维铂精密机械有限公司_202422491425.9
    本实用新型公开了一种光学低通滤波器装置，涉及光学低通滤波器技术领域，包括滤波器安装箱，所述滤波器安装箱一侧的顶端表面固定安装有图像接收器，所述图像接收器的一侧顶端固定连接有图像接收头，所述滤波器安装箱的一侧内部固定安装有光学低通滤波器主体。...
    2025-09-23
  • 用于光学部件的拆分系统
    用于光学部件的拆分系统_ASML荷兰有限公司_202480013617.9
    描述了用于光学部件的拆分系统。光学部件包括安装件和在联接位置处联接到该安装件的光学器件。该系统包括导热销，该导热销被配置成在联接位置处接触光学部件并且提供定向导热，以引起光学器件与安装件在结构上分离。该系统还包括加热器和壳体，该加热器被配置...
    2025-09-23
  • 抗蚀剂顶涂层组合物和使用所述组合物形成图案的方法
    抗蚀剂顶涂层组合物和使用所述组合物形成图案的方法_三星SDI株式会社_202411965214.2
    提供了一种抗蚀剂顶涂层组合物和使用抗蚀剂顶涂层组合物形成图案的方法，抗蚀剂顶涂层组合物包括包含由化学式M‑1表示的第一结构单元和由化学式M‑2表示的第二结构单元的共聚物；光酸产生剂；和溶剂，其中光酸产生剂是非离子化合物或离子化合物，非离子化...
    2025-09-23
  • 一种光刻胶的显影质量评价方法
    一种光刻胶的显影质量评价方法_华虹集成电路(成都)有限公司_202511065387.3
    本发明属于光刻胶技术领域，具体涉及一种光刻胶的显影质量评价方法，包括以下步骤：在衬底上刻蚀出浅槽并进行填充，形成高于衬底表面的浅槽隔离结构；在所述衬底表面铺设光刻胶并曝光显影，得到光刻胶图形；以所述光刻胶图形为掩模对所述衬底进行离子注入；测...
    2025-09-23
  • 曝光方法、曝光装置及器件制造方法
    曝光方法、曝光装置及器件制造方法_株式会社尼康_202380093365.0
    曝光方法包括：利用包括第1波长的第1曝光光线和与所述第1波长不同的第2波长的第2曝光光线在内的曝光光线对第1物体进行照明；以及利用来自所述第1物体的所述曝光光线将所述第1物体的图案的像曝光在第2物体上，所述曝光包括：利用来自所述第1物体的所...
    2025-09-23
  • 一种解决大规模数据实时衍生复杂变量的分层计算方法
    一种解决大规模数据实时衍生复杂变量的分层计算方法_杭银消费金融股份有限公司_202511113469.0
    本发明提供一种解决大规模数据实时衍生复杂变量的分层计算方法，属于数据处理技术领域，具体包括：如果信贷用户中的实时计算用户的数量满足要求时，将除去实时计算用户的信贷用户作为其它用户，根据其它用户的信贷特征数据为基础，确定其它用户在信贷特征的离...
    2025-09-23
  • 护膜及使用护膜的方法
    护膜及使用护膜的方法_台湾积体电路制造股份有限公司_202510834452.8
    一种护膜包括框架、薄膜以及垫片。所述框架包括止回阀，其中所述止回阀被配置成允许气体从所述护膜的内部流至所述护膜的外部。所述框架的底表面界定出凹槽。所述薄膜延伸跨越所述框架。所述垫片被配置成配合在所述凹槽中。本发明实施例的护膜及使用所述护膜的...
    2025-09-23
  • 用于摄影器材的按压回弹复位的快速拆装装置
    用于摄影器材的按压回弹复位的快速拆装装置_中山市科曼摄影器材有限公司_202311184190.2
    本发明公开了一种用于摄影器材的按压回弹复位的快速拆装装置，包括：筒体，其具有内腔和侧通腔；操纵锁块，其置于所述侧通腔活动，所述操纵锁块具有锁舌；连接座，其为所述锁舌置入提供锁持腔，所述操纵锁块设有复位弹簧，所述操纵锁块向侧通腔的一侧移动以使...
    2025-09-23
  • 一种基于光刻胶折射率匹配的光学神经网络制备方法
    一种基于光刻胶折射率匹配的光学神经网络制备方法_上海理工大学_202510677670.5
    本发明公开了一种基于光刻胶折射率匹配的光学神经网络制备方法，包括：S1、通过双光子聚合工艺在基底上固化第一光刻胶作为第一光敏材料得到样品；S2、当曝光完成后，将样品浸泡于丙二醇甲醚乙酸酯进行显影，进行优化显影后样品的表面状态；S3、将经过上...
    2025-09-23
  • 感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀剂图案的形成方法及印刷线路板的制造方法
    感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀剂图案的形成方法及印刷线路板的制造方法_株式会社力森诺科_202480011248.X
    本发明的一个方式所涉及的感光性树脂组合物含有粘合剂聚合物、光聚合性化合物、光聚合引发剂及增感剂，所述粘合剂聚合物具有源自丙烯酸的结构单元，所述增感剂包含蒽化合物。
    2025-09-23
  • 标记测量方法、测量装置、曝光装置、运算装置、程序及存储介质
    标记测量方法、测量装置、曝光装置、运算装置、程序及存储介质_株式会社尼康_202380092558.4
    本发明的目的在于，提供一种用于缩小重合标记、加快测量速度或提高测量精度的、改善后的重合标记测量方法。标记测量方法包括：获取第一图案(LS1)与第二图案(LS2)重叠而形成的重合标记(OM1、OM2)的图像，所述第一图案(LS1)由线和间隔在...
    2025-09-23
  • 一种多焦点平移交错密接式并行激光直写快速加工方法
    一种多焦点平移交错密接式并行激光直写快速加工方法_浙江大学杭州国际科创中心_202510831930.X
    本发明公开了一种多焦点平移交错密接式并行激光直写快速加工方法，包括：搭建多焦点模块和激光直写扫描装置，多焦点模块产生并行排布的多光束阵列，经激光直写扫描装置聚焦后，在焦平面处形成并行等间距排布的多焦点激光阵列；设计多焦点平移交错扫描策略，该...
    2025-09-23
  • 一种用于半导体设备上的相机密封装置
    一种用于半导体设备上的相机密封装置_苏州镁伽科技有限公司_202422680179.1
    本实用新型提供的用于半导体设备上的相机密封装置，包括第一隔板和第二隔板，第一隔板上设置有第一定位件，第二隔板上设置有第二定位件，第一定位件和第二定位件配合将第一隔板和第二隔板连接为一体，以实现对相机的密封。和现有技术相比，该密封装置所采用的...
    2025-09-23
  • 快门装置的运动控制方法、快门装置及其光刻机设备
    快门装置的运动控制方法、快门装置及其光刻机设备_深圳稳顶聚芯技术有限公司_202510764479.4
    本申请公开了一种快门装置的运动控制方法、快门装置及其光刻机设备，快门装置包括叶片，快门装置还具有对应叶片设置的通光孔，叶片转动进而实现对通光孔的遮挡、半遮挡以及暴露，以对应形成通光孔的非通光区、过渡区以及通光区；在非通光区中，叶片的角速度以...
    2025-09-23
  • 一种防焊油墨的曝光方法
    一种防焊油墨的曝光方法_源能智创(江苏)半导体有限公司_202110176948.2
    一种防焊油墨的曝光方法，曝光镜头的空间光调制元件的投影图形区域经成像镜头在基板上形成成像区域，曝光镜头和所述基板在扫描方向上相对运动，所述成像区域在扫描方向上形成条带，在垂直于扫描方向上相邻的所述成像区域交叠或者具有间隔。有效解决拼接痕迹明...
    2025-09-23
  • 辐射源测试
    辐射源测试_西默有限公司_202080076759.1
    一种生成用于辐射源的测试的方法，该辐射源用于光刻设备，该方法包括以下步骤：接收与辐射源的多个发射图案相对应的数据。该方法还包括以下步骤：分析数据以确定用于配置一个或多个另外的发射图案的参数，该一个或多个另外的发射图案用于测试辐射源。参数被确...
    2025-09-23
  • 一种基于干涉式空间相位成像的近场光刻纳米图形加工系统
    一种基于干涉式空间相位成像的近场光刻纳米图形加工系统_中国石油大学(华东)_202510958906.2
    本发明公开了一种基于干涉式空间相位成像的近场直写纳米图形加工系统。首先制备光刻头，在透明基底上沉积由多组金属和介质薄膜组成的双曲色散腔，然后在双曲色散腔上溅射一层金属薄膜充当激发层，在激发层表面制备用于聚束入射光的表面等离子体透镜和用于干涉...
    2025-09-23
  • 量测方法和相关联的量测装置
    量测方法和相关联的量测装置_ASML荷兰有限公司_202480012496.6
    公开了一种衬底，包括至少一个目标，所述目标包括：在顶层中的参考子结构；和在位于所述顶层下方的掩埋层中的掩埋子结构。所述掩埋子结构包括在至少一个方向上的非恒定节距，如波带板，所述非恒定节距促使作为对所述目标的测量的结果的被从所述子结构反射的反...
    2025-09-23
  • 光源装置、曝光装置以及物品的制造方法
    光源装置、曝光装置以及物品的制造方法_佳能株式会社_202111008083.5
    本发明涉及光源装置、曝光装置以及物品的制造方法。降低反射镜内的温度梯度。光源装置具有：发光部；反射镜，反射来自所述发光部的光；保持部件，保持所述反射镜；以及基座，固定所述保持部件，所述保持部件与所述基座接触的接触面积小于所述保持部件与所述反...
    2025-09-23
  • 用于YIELDSTAR的第二照射模式选择器（IMS）
    用于YIELDSTAR的第二照射模式选择器（IMS）_ASML荷兰有限公司_202480010303.3
    本文所公开的实施例涉及使用并行传感器概念并行测量多个标记的量测装置和方法，该并行传感器概念在空间中几何布置传感器，以允许并行获取。选择器可以被配置为阻挡标记的象限，以便生成图像。可以比较所获取的图像之间的强度差并将其平衡，使得非相干内部串扰...
    2025-09-23
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