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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 光学部件驱动装置、照相机装置以及电子设备
    光学部件驱动装置、照相机装置以及电子设备_新思考电机有限公司_202010998659.6
    本发明提供一种光学部件驱动装置、照相机装置以及电子设备，其中能够进行精细抖动校正。光学部件驱动装置(100)在XYZ正交坐标系中，具备：AF模块(3)，其作为光学部件，具有以Z方向为光轴(O)的方向的透镜体(130)、将经由透镜体(130)...
    2025-07-16
  • 一种颜料分散组合物及其制备方法、光刻胶组合物、光刻胶和滤光片
    一种颜料分散组合物及其制备方法、光刻胶组合物、光刻胶和滤光片_阜阳欣奕华新材料科技股份有限公司_202510509627.8
    本申请提供一种颜料分散组合物及其制备方法、光刻胶组合物、光刻胶和滤光片，涉及光刻胶领域。颜料分散组合物的原料按重量份计，包括：第一硅氧烷化合物3份‑7份、颜料50份‑120份、分散剂50份‑160份、第一碱溶性树脂50份‑150份和有机溶剂...
    2025-07-16
  • 光学部件驱动装置、照相机装置以及电子设备
    光学部件驱动装置、照相机装置以及电子设备_新思考电机有限公司_202010998654.3
    本发明提供一种光学部件驱动装置、照相机装置以及电子设备，其中能够进行精细抖动校正控制。光学部件驱动装置，在XYZ正交坐标系，具备：AF模块，其作为光学部件，具有透镜体、透镜驱动装置以及图像传感器；以及固定部，其包围AF模块倾斜活动自由支撑。...
    2025-07-16
  • 反射屏幕、反射屏幕单元以及影像显示装置
    反射屏幕、反射屏幕单元以及影像显示装置_大日本印刷株式会社_202180035867.9
    本发明提供一种提高了与支承板的紧密贴合性的反射屏幕。反射屏幕(10)使从影像源投射的影像光反射而以能够被观察到的方式显示，其具备：排列有多个单位透镜(111)的菲涅耳透镜形状的透镜层(11)；以及形成于透镜层(11)的单位透镜(111)并对...
    2025-07-16
  • 体全息元件的制备方法、体全息元件及增强现实3D显示装置
    体全息元件的制备方法、体全息元件及增强现实3D显示装置_苏州苏大维格科技集团股份有限公司_202410042109.5
    本申请提供一种体全息元件的制备方法、体全息元件及增强现实3D显示装置。该制备方法包括：提供像素化的衍射透镜阵列和与像素化的衍射透镜阵列邻近或邻接设置的体全息材料；其中，像素化的衍射透镜阵列包括阵列分布的目标衍射透镜子单元；实施至少一个记录步...
    2025-07-16
  • 一种用于极片检测的高速前馈系统及方法
    一种用于极片检测的高速前馈系统及方法_凌云光技术股份有限公司_202211474191.6
    本申请属于工业视觉技术领域，尤其涉及一种用于极片检测的高速前馈系统及方法。本申请的用于极片检测的高速前馈方法，根据前馈式参数信息调整液态远心镜头的屈光度；获得了较佳成像分辨率和成像信噪比的极片端面图像；再通过视觉算法即完成极片的毛刺缺陷检测...
    2025-07-16
  • 一种大型玻璃框体自动提升翻转装置
    一种大型玻璃框体自动提升翻转装置_杭州欣俊哲微电子有限公司_202510796181.1
    本发明涉及一种大型玻璃框体自动提升翻转装置，包括支撑台、用于固定上玻璃的上玻璃框、用于固定下玻璃的下玻璃框、用于驱动上玻璃框升降的升降驱动机构以及用于驱动上玻璃框翻转的翻转驱动机构，下玻璃框安装于支撑台，上玻璃位于下玻璃的上方。该提升翻转装...
    2025-07-16
  • 微型投影仪
    微型投影仪_深圳市东方蓝通讯科技有限公司_202411427427.X
    本申请涉及投影技术领域，具体涉及一种微型投影仪，该微型投影仪包括壳体、投影模块、散热块、鼓风机以及电路板，壳体内设有散热腔，散热腔具有装配敞口、入风通道、出风通道；投影模块设置于壳体内并位于散热腔的外侧；散热块设置于壳体内，散热块与投影模块...
    2025-07-16
  • 一种无掩膜光刻工艺的自动化控制系统
    一种无掩膜光刻工艺的自动化控制系统_中国矿业大学_202510621924.1
    本发明涉及物理学及微电子技术领域，且公开了一种无掩膜光刻工艺的自动化控制系统，包括采集模块、后处理模块、光学分析模块、光学系统模块、运动监控模块、操作控制模块、用户交互模块、系统封装与防护模块，采集模块提供详细投影光路元件参数及位置细节，同...
    2025-07-16
  • 晶圆干法去胶设备、去胶方法
    晶圆干法去胶设备、去胶方法_上海积塔半导体有限公司_202510442816.8
    本公开涉及一种晶圆干法去胶设备、去胶方法，晶圆干法去胶设备包括：去胶机台，用于执行晶圆去胶工艺；预热装置，与去胶机台相连，预热装置用于对去胶机台进行预热处理；吹扫装置，与去胶机台相连，吹扫装置用于向去胶机台内通入第一气体，吹扫去除去胶机台内...
    2025-07-16
  • 一种光刻机取片装置
    一种光刻机取片装置_安徽国芯光刻技术有限公司_202422345404.6
    本实用新型公开了一种光刻机取片装置，属于光刻机技术领域，包括定位台，所述定位台顶面开设有滑槽，所述滑槽内设有滑块以及驱动滑块移动的第一驱动组件，所述滑块顶面固定连接有供硅片放置的放置板，所述滑槽一端两侧的定位台上均设有安装槽，所述定位台内部...
    2025-07-16
  • 投影设备及投影系统
    投影设备及投影系统_青岛海信激光显示股份有限公司_202410033323.4
    本申请提供一种投影设备及投影系统，涉及投影技术领域，投影设备包括：发热件，具有相对设置的第一面和第二面，发热件上设置有待避让件和避让槽，避让槽的槽口位于第一面上，至少部分待避让件位于避让槽中，待避让件背离第二面的端部不凸出于槽口；散热组件，...
    2025-07-16
  • 采用狭缝供胶匀胶集成结构的晶圆片匀胶处理方法
    采用狭缝供胶匀胶集成结构的晶圆片匀胶处理方法_青岛天仁微纳科技有限责任公司_202510737588.7
    本发明涉及晶圆加工技术领域，尤其涉及采用狭缝供胶匀胶集成结构的晶圆片匀胶处理方法，包括以下步骤：预处理、自主定心固定、狭缝供胶和余胶收集与二次匀胶，本发明中，先通过定心固定组件对晶圆片实现多级式定心固定处理，确保晶圆片中心与旋转点的重合，后...
    2025-07-16
  • 面曝光激光直写系统及方法
    面曝光激光直写系统及方法_北京工业大学_202510656138.5
    本申请提供一种面曝光激光直写系统及方法。其中系统包括：激光输出模块，用于输出第一激光；准直扩束模块，设置在第一激光的光路上，用于将第一激光的光斑原始直径扩束至预设直径，得到第二激光；空间光调制模块，设置在第二激光的光路上，用于对第二激光进行...
    2025-07-16
  • 一种胶片干燥箱
    一种胶片干燥箱_山东一帆检测技术有限公司_202422353914.8
    本实用新型公开了一种胶片干燥箱，涉及胶片生产技术领域，包括箱体，箱体前端铰接有箱门，箱体底部固定连接有多个支腿，箱体内设置有对称的滑动槽，滑动槽上设置有承载机构，承载机构上设置有限位机构，承载机构包括轮子，轮子滚动连接在滑动槽内，轮子的一侧...
    2025-07-16
  • 一种涂胶显影设备
    一种涂胶显影设备_上海积塔半导体有限公司_202422350187.X
    本申请属于半导体设备技术领域，提供一种涂胶显影设备，包括显影腔室以及位于显影腔室内的承载组件、喷洒组件和遮挡组件，承载组件包括放置基片的承载基座和支撑承载基座的旋转轴，喷洒组件包括喷洒显影液的喷嘴，遮挡组件套设于旋转轴的外周，包括第一遮罩、...
    2025-07-16
  • 踩压发电装置
    踩压发电装置_李德振_202422546497.9
    本实用新型公开了踩压发电装置，包括铺设在人行道上的踩压发电机构以及设置在路边的设备箱，所述设备箱内设有蓄力罐、储蓄罐、液压马达和发电机；所述踩压发电机构包括埋在路面上的预埋箱，所述预埋箱内设有沿预埋箱内腔移动的伸缩架，所述伸缩架与预埋箱之间...
    2025-07-16
  • 具有气囊结构的上压印装置、真空纳米压印设备及方法
    具有气囊结构的上压印装置、真空纳米压印设备及方法_苏州光舵微纳科技股份有限公司_202510728216.8
    本发明公开一种具有气囊结构的上压印装置、真空纳米压印设备及方法，包括：上压印模架、气囊组件、气囊驱动装置、气囊抽真空装置、型腔抽真空装置，上压印模架与上模架驱动装置传动连接，且上压印模架具有上型腔；气囊组件置于上型腔内，其包括：上锁紧环板、...
    2025-07-16
  • 一种声折射纹影显示装置
    一种声折射纹影显示装置_南京工业大学_202510449967.6
    本发明公开了一种声折射纹影显示装置，包括频闪光源，反射式纹影系统和声折射系统。本发明中无盖透明方盒3中充入CO2气体，盒口处形成CO2与空气界面；利用声透镜7将超声头5发射的球面波转化为平面波，便...
    2025-07-16
  • 一种涂胶显影机平整涂胶的装置
    一种涂胶显影机平整涂胶的装置_宇弘研科技(苏州)有限公司_202510533678.4
    本发明提供一种涂胶显影机平整涂胶的装置，涉及晶圆加工技术领域，包括：光刻涂匀胶台，所述光刻涂匀胶台下方安装有匀胶电机，所述光刻涂匀胶台上方侧边安装有光刻胶滴加器，晶圆通过机械手或人工摆放后，可以精准调节晶圆的位置，保持晶圆圆心与匀胶台轴心同...
    2025-07-16
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