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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 溶剂类组合物、用于去除抗蚀剂的组合物、显影剂组合物以及形成图案的方法
    溶剂类组合物、用于去除抗蚀剂的组合物、显影剂组合物以及形成图案的方法_三星SDI株式会社_202411715247.1
    提供一种溶剂类组合物、一种用于去除来自含金属抗蚀剂的边缘珠的组合物和/或一种含金属抗蚀剂的显影剂组合物以及一种使用其形成图案的方法。所述组合物包括经至少一个羧基取代的多环脂族烃化合物；和有机溶剂。
    2025-07-25
  • MEMS掩模版mura缺陷改善方法
    MEMS掩模版mura缺陷改善方法_安徽晶微科技有限公司_202510440642.1
    一种MEMS掩模版mura缺陷改善方法包括：S1，将晶圆上分布芯片的MEMS半成品测试，显示整个晶圆Map图像，确定mura纹类型；S2，如果一芯片的mura纹类型为斜纹、全部芯片为斜纹且斜纹的分布规律形成整体发散状，从工艺端调整旋涂，如果...
    2025-07-25
  • 感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀剂图案的形成方法及印刷线路板的制造方法
    感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀剂图案的形成方法及印刷线路板的制造方法_株式会社力森诺科_202280102423.7
    本发明所涉及的感光性树脂组合物含有粘合剂聚合物、光聚合性化合物、光聚合引发剂及增感剂，粘合剂聚合物具有源自丙烯酸的结构单元及源自苯乙烯或苯乙烯衍生物的结构单元，增感剂的含量相对于光聚合引发剂100质量份为1.60质量份以下。
    2025-07-25
  • 一种光学镜头
    一种光学镜头_裕精橡塑科技(扬州)有限公司_202510769187.X
    本发明提供了一种光学镜头，属于光学镜头技术领域,包括相机，所述相机外壁卡接有镜头座，所述镜头座外壁固定连接有均匀分布的卡板，所述卡板通过卡块卡接有转接环，所述转接环通过温漂自适应校准组件连接有光学镜头本体，所述镜头座外壁开设有均匀分布的滑槽...
    2025-07-25
  • 光学引擎
    光学引擎_青岛海信激光显示股份有限公司_202010328509.4
    本申请公开了一种光学引擎，属于投影技术领域。该光学引擎包括：光源、光机系统和镜头；光源包括光源壳体、发光器件和荧光轮，荧光轮包括荧光片、散热板、基板和驱动部件；发光器件和驱动部件固定在光源壳体内，基板与驱动部件的旋转轴固定连接，散热板和荧光...
    2025-07-25
  • 一种超短焦激光柔性透明显示面罩
    一种超短焦激光柔性透明显示面罩_中航华东光电有限公司_202510760463.6
    本发明提供一种超短焦激光柔性透明显示面罩，涉及激光面罩技术领域，包括光子晶体透明面罩组件，接收显示信号，用于实现透明显示功能；头盔组件，用于固定面罩并提供信号驱动；光机组件，用于投射图像至所述光子晶体透明面罩组件；结构组件，用于支撑和固定各...
    2025-07-25
  • 透镜驱动装置以及相机模块
    透镜驱动装置以及相机模块_阿尔卑斯阿尔派株式会社_202510021557.1
    本发明提供一种能够抑制构成线圈的线材的卷绕紊乱的产生的透镜驱动装置。在透镜驱动装置(101)中，前线圈支承部(14F)具有沿着Y轴方向相互分离地排列配置的右前支承突部(14FR)、左前支承突部(14FL)以及中央前支承突部(14FM)。前线...
    2025-07-25
  • 一种微型水冷装置及装配有该微型水冷装置的投影机
    一种微型水冷装置及装配有该微型水冷装置的投影机_闽南理工学院_202422077815.1
    本实用新型公开了一种微型水冷装置及装配有该微型水冷装置的投影机，涉及水冷技术领域，微型水冷装置主要包括冷凝器、进水管和出水管。其中，冷凝器包括冷凝器主体和散热机构，冷凝器主体设有连通进水管和出水管的过水腔。散热机构包括二个导热片和一个导热管...
    2025-07-25
  • 一种硅片双面曝光设备
    一种硅片双面曝光设备_深圳市先地图像科技有限公司_202510734197.X
    本申请实施例提供了一种硅片双面曝光设备，该硅片双面曝光设备是在硅片移动过程中，对硅片表面的感光涂层的进行曝光，无需频繁更换和固定硅片，节约了上下料的时间，提高了硅片上感光涂层曝光的效率。其次，第一光源模组和第二光源模组设置于硅片的对侧，且往...
    2025-07-25
  • 一种用于薄膜覆盖的透明双晶衬底的套刻对准装置和套刻对准方法
    一种用于薄膜覆盖的透明双晶衬底的套刻对准装置和套刻对准方法_青岛大学_202510622445.1
    本发明属于光刻微加工技术领域，涉及一种用于薄膜覆盖的透明双晶衬底样品的套刻对准方法和装置。本发明利用透射光实现了位于双晶衬底内部的双晶晶界线成像；而光刻机自带显微镜的反射成像系统实现了位于样品表面的光刻版图成像；通过精确调整焦平面位置，在透...
    2025-07-25
  • 收折支架及快折柔光罩
    收折支架及快折柔光罩_金钟石_202510698777.8
    本发明公开收折支架及快折柔光罩，收折支架包括连接座、第一支撑架、第二支撑架；第一支撑架设置于连接座一侧；第二支撑架设置于连接座另一侧，并与第一支撑架相对设置，且与第一支撑架可相对翻折；第一支撑架包括第一支撑件及左端与第一支撑件右端转动连接的...
    2025-07-25
  • 风险防范方法、装置、设备、介质和程序产品
    风险防范方法、装置、设备、介质和程序产品_中国工商银行股份有限公司_202210308420.0
    本公开提供了一种风险防范方法，可以应用于大数据技术领域或金融领域。该风险防范方法包括：获取历史风险记录以及风险行为集，其中，所述风险行为集包含与套现行为关联的消费行为类型集合；基于所述历史风险记录以及所述风险行为集提取风险行为关联规则；基于...
    2025-07-25
  • 一种固态光源投影机
    一种固态光源投影机_苏州佳世达光电有限公司_202410073145.8
    本发明提供一种固态光源投影机，包含多个光源、第一匀化装置、第一镜片模组、第二匀化装置、收光模组及反射模组。该多个光源用以产生多种颜色光。该第一匀化装置设置于该多个光源的一侧，用以分散该多种颜色光，以产生多道散射光。该第一镜片模组用以混合该多...
    2025-07-25
  • 目标结构的形成方法
    目标结构的形成方法_中芯集成电路(宁波)有限公司上海分公司_202011642033.8
    一种目标结构的形成方法，包括：提供用于形成目标结构的待刻蚀基底层，待刻蚀基底层包括多个区域，目标结构的顶面在多个区域上构成曲面轮廓，且待刻蚀基底层能够利用半导体刻蚀工艺进行图形化；在待刻蚀基底层上形成凸立于待刻蚀基底层上的多个刻蚀阻挡结构，...
    2025-07-25
  • 投影设备
    投影设备_青岛海信激光显示股份有限公司_202010537748.0
    本申请实施例公开了一种投影设备，属于投影技术领域。该投影设备包括：投影主机和投影屏幕，投影屏幕包括基座、卷曲机构、幕布和升降机构，升降机构包括第一支撑杆、第二支撑杆、弹性拉紧机构和横梁，基座、第一支撑杆、第二支撑杆和横梁之间可旋转连接，幕布...
    2025-07-25
  • 组合物、全息光学元件、投影装置、显示设备及交通工具
    组合物、全息光学元件、投影装置、显示设备及交通工具_华为技术有限公司_202410071852.3
    本申请实施例公开了组合物、全息光学元件、投影装置、显示设备及交通工具，主要目的在于解决全息光致聚合物的原材料在高温/高压处理过程中，出现光敏剂失效、发雾和/或单体提前热聚合的问题。该组合物的可见光光敏剂采用如花菁类、酚噻嗪、苯并噻吩、蒽醌、...
    2025-07-25
  • 对准偏差的补偿方法
    对准偏差的补偿方法_中芯南方集成电路制造有限公司_202011566641.5
    一种对准偏差的补偿方法，包括：根据第一对准模型和第二对准模型，获取对准模型偏差信息；在对初始第二光刻层进行初始光刻对准后，根据对准模型偏差信息对初始第二光刻层进行补偿光刻对准，以图形化初始第二光刻层，形成第二光刻层。从而，在光刻工艺中，提高...
    2025-07-25
  • 基于物理模型的紧凑型光刻仿真系统
    基于物理模型的紧凑型光刻仿真系统_上海芯无双仿真科技有限公司_202510519869.5
    本发明提供基于物理模型的紧凑型光刻仿真系统，涉及光刻仿真工具与物理建模技术领域，包括模型构建模块、内核可视化模块、仿真计算模块、结果评估与优化模块、模型库管理模块、实时仿真模块、误差补偿模块、仿真结果验证模块；模型构建模块，根据光刻设备中的...
    2025-07-25
  • 用于确定掩模版变形的方法和系统
    用于确定掩模版变形的方法和系统_ASML荷兰有限公司_202380088634.4
    本文中公开一种计算机系统，所述计算机系统被配置成使用掩模版加热模型来确定掩模版的形状和/或变形并依赖于所建模的形状和/或变形来控制使用所述掩模版的光刻过程的操作。所述计算机系统被配置成依赖于所生成的掩模版过程数据和所述掩模版的已知热性质来确...
    2025-07-25
  • 基于掩模版形状测量来推断和估计掩模版温度的方法
    基于掩模版形状测量来推断和估计掩模版温度的方法_ASML荷兰有限公司_202380087174.3
    本文中的实施例描述了用于基于掩模版形状测量来确定掩模版温度的系统、方法和装置。系统可以包括：照射路径，所述照射路径被配置成将辐射引导到图案形成装置上；和检测路径，所述检测路径被配置成在所述辐射的一部分与所述图案形成装置相互作用之后将所述辐射...
    2025-07-25
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