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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 一种高功率光纤放大器的控制方法及系统
    一种高功率光纤放大器的控制方法及系统_无锡市德科立光电子技术股份有限公司_202510840698.6
    本发明公开了一种高功率光纤放大器的控制方法及系统，涉及光纤放大器技术领域，所述高功率光纤放大器包括沿光的传输方向依次设置的第一级增益单元以及第二级增益单元；所述高功率光纤放大器的控制方法包括：根据先开启第一级增益单元再开启第二级增益单元的开...
    2025-08-19
  • 光调制器及使用了该光调制器的光发送装置
    光调制器及使用了该光调制器的光发送装置_住友大阪水泥股份有限公司_201911054185.3
    本发明提供一种光调制器及使用了该光调制器的光发送装置。在具备中继基板的光调制器中，能够有效地降低在中继基板或者其周围产生的电信号的反射、放射、泄漏等的影响，实现良好的光调制特性。光调制器具备：光调制元件，具备多个信号电极；外壳，收容光调制元...
    2025-08-19
  • 一种光学模组及应用其的投影设备
    一种光学模组及应用其的投影设备_成都九天画芯科技有限公司_202280102831.2
    一种光学模组及投影设备，光学模组包括：第一光学组件(1)及与第一光学组件(1)结构一致的第二光学组件(2)，第一光学组件(1)与所述第二光学组件(2)抵接且呈镜像对称设置，第一光学组件(1)包括：第一准直光源(11)、第二准直光源(12)及...
    2025-08-19
  • 用于表征微光刻掩模的方法和设备
    用于表征微光刻掩模的方法和设备_卡尔蔡司SMT有限责任公司_202111054459.6
    本发明涉及用于表征微光刻掩模的方法和设备。在根据本发明的方法中，多个单独成像过程以由检测器单元指定的像素分辨率实行，其中这些单独成像过程在位于成像光学单元中的至少一个偏振光学元件的位置方面彼此不同，其中在评估单元中评估由检测器单元记录的图像...
    2025-08-19
  • 多人统一授信在信贷风控领域的管理办法
    多人统一授信在信贷风控领域的管理办法_杭银消费金融股份有限公司_202510623258.5
    本发明提供一种多人统一授信在信贷风控领域的管理方法，属于金融管理技术领域，具体包括：基于信息关联用户的信贷支用数据以及信贷支用过程中的图像识别结果，确定信息关联用户中的关联风险用户，获取关联风险用户的数量，并结合不同的关联风险用户的信息关联...
    2025-08-19
  • 基于双层永磁结构的踏板式发电系统
    基于双层永磁结构的踏板式发电系统_中铁第一勘察设计院集团有限公司_202510627406.0
    本发明公开了一种基于双层永磁结构的踏板式发电系统，通过双层永磁发电模块和单向轴承锁定技术的应用，发电效率大幅提升，能够更充分地利用人体踩踏产生的机械能；智能材料自修复系统的引入，有效地解决了机械部件的磨损问题，装置机械寿命显著延长，降低了维...
    2025-08-19
  • 一种一体化成型的空间相机框架支撑结构及其成型方法
    一种一体化成型的空间相机框架支撑结构及其成型方法_长光卫星技术股份有限公司_202510956228.6
    本发明提出了一种一体化成型的空间相机框架支撑结构及其成型方法，属于空间遥感相机技术领域。解决了现有大尺寸空间相机框架支撑结构容易失效，使用寿命短的问题。所述支撑结构为一体式框架结构构型，所述支撑结构按面板所处位置和结构功能可以分为前框架、后...
    2025-08-19
  • 一种自动调焦装置、曝光装置、光刻装置及曝光方法
    一种自动调焦装置、曝光装置、光刻装置及曝光方法_上海微电子装备(集团)股份有限公司_202011632381.7
    本发明提供了一种自动调焦装置、曝光装置、光刻装置及曝光方法，自动调焦装置包括运动单元、承片台、位移传感器检测装置和控制系统；承片台设置于运动单元上，承片台被配置为承载基底；运动单元被配置为带动承片台在垂直方向上做上下升降运动、以及沿承片台轴...
    2025-08-19
  • 焦距量测方法和相关联的量测装置
    焦距量测方法和相关联的量测装置_ASML荷兰有限公司_202380091498.4
    公开了一种确定诸如焦距和/或剂量之类的至少一个曝光参数的方法。所述方法包括获得多个结构的生产量测数据；将所述生产量测数据分组成多个相邻组，每个相邻组描述所述结构的不同布置；获得所述多个相邻组中的每个相邻组或所述多个相邻组的不同组合的经预校准...
    2025-08-19
  • 图像处理方法、图像处理装置
    图像处理方法、图像处理装置_京瓷办公信息系统株式会社_202180069941.9
    本发明提供图像处理方法、图像处理装置，其目的在于通过简易的处理从测试图像按种类提取图像不良。处理器(80)将所述测试图像的横向以及纵向分别作为处理方向执行主滤波处理，由此生成第一前处理图像以及第二前处理图像。所述主滤波处理是将从所述测试图像...
    2025-08-19
  • 重力（发动）机
    重力（发动）机_罗耀文_202510740524.2
    重力(发动)机是一种使用再生能源的动力机械。园盘形的主体。其内腔曲线为渐开线。整体内腔可以是一段渐开线，也可以是两段或者更多段同样的渐开线，前一段渐开线的尾端与后一段的首端由径向台阶连接。腔内有一重力滚动体，其半径r＝11h(h为台阶高度)...
    2025-08-19
  • 一种多功能杯垫
    一种多功能杯垫_福建省德化县优派艺品有限公司_202422371249.5
    本申请提供了一种多功能杯垫，属于杯垫技术领域。该多功能杯垫包括连接组件和吸水组件，所述连接组件包括连接垫和滑动连接头，所述滑动连接头滑动设置于所述连接垫一侧，所述连接垫另一侧开设有连接槽，所述滑动连接头和所述连接槽相适配，所述吸水组件包括盒...
    2025-08-19
  • 电子笔及电子笔主体部
    电子笔及电子笔主体部_株式会社和冠_202180034308.6
    本发明涉及将电子笔盒安装于书写工具壳体而构成的电子笔，提供一种具备能够适当且可靠地操作的侧开关的电子笔。电子笔主体部(1)的主体部壳体(11a)收纳有形成为棒状的芯体(12)和搭载有设为按钮开关的结构的侧开关(18a)的电路基板(18)，芯...
    2025-08-19
  • 光刻胶剥离液组合物
    光刻胶剥离液组合物_合肥盛剑微电子有限公司_202510912840.3
    本发明公开了一种光刻胶剥离液组合物，包括：质子性溶剂58wt％‑90wt％；非质子亲质子性溶剂9wt％‑45wt％；有机碱化合物0.9wt％‑10wt％；添加剂0.01wt％‑1wt％；辅助添加剂0.01wt％‑3wt％；余量为去离子水。本...
    2025-08-19
  • 多光束干涉曝光系统、相位锁定方法、装置及存储介质
    多光束干涉曝光系统、相位锁定方法、装置及存储介质_深圳光峰科技股份有限公司_202410156795.9
    本申请公开了一种多光束干涉曝光系统、相位锁定方法、装置及存储介质，涉及光栅制造技术领域，系统包括干涉曝光子系统、相位探测子系统和相位控制子系统，干涉曝光子系统用于发出多束相干光，相位探测子系统从相干光中分光引出用于锁相的子相干光并形成锁相图...
    2025-08-19
  • 一种光刻胶组合物及其制备方法
    一种光刻胶组合物及其制备方法_宁波南大光电材料有限公司_202110089814.7
    本发明实施例提供了一种光刻胶组合物及其制备方法，该光刻胶组合物包括以下原料：0.1‑10重量组分的光致酸产生剂、10‑30重量组分的成膜树脂、0.1‑5重量组分的酸扩散抑制剂以及55‑89.8重量组分的有机溶剂A；其中所述光致酸产生剂为含双...
    2025-08-19
  • 一种光刻胶剥离液及其使用方法
    一种光刻胶剥离液及其使用方法_广州微纳芯材料科技有限公司_202510909303.3
    本发明涉及半导体技术领域，具体的，涉及一种光刻胶剥离液及其使用方法。按重量百分比计，组分包括：非质子极性溶剂70‑90％、有机烷醇胺10‑30％、金属抑制剂0.01‑1.5％、界面活性剂0.05‑0.3％；所述金属抑制剂包括四氮唑类衍生物和...
    2025-08-19
  • 光刻监测图形及掩膜版图形
    光刻监测图形及掩膜版图形_重庆芯联微电子有限公司_202510785196.8
    本发明提供一种光刻监测图形及掩膜版图形，通过将邻近效应测试图形、线端间距测试图形和线端与圆形结构间距测试图形合并为一个光刻监测图形，所述邻近效应测试图形的子图形位于所述线端间距测试图形和所述线端与圆形结构间距测试图形之间，且所述线端间距测试...
    2025-08-19
  • 感光性树脂组合物、感光干膜及其应用
    感光性树脂组合物、感光干膜及其应用_杭州福斯特电子材料有限公司_202510693714.3
    本发明提供了一种感光性树脂组合物、感光干膜及其应用。感光性树脂组合物包括：碱溶性树脂、光聚合性单体和光引发剂；其中，碱溶性树脂具有如下式(I)所示结构。本发明采用含有环烯酮缩醛类化合物单体开环形成的碱溶性树脂，具有较好的疏水性、较低的玻璃化...
    2025-08-19
  • 掩膜版偏移量测量方法
    掩膜版偏移量测量方法_上海仪电显示材料有限公司_202510746750.1
    一种掩膜版偏移量测量方法，包括：第一掩膜版上具有第一标识，第二掩膜版上具有第二标识，对基板的同一曝光区域，先采用第一掩膜版进行第一次曝光，而后采用第二掩膜版进行第二次曝光，从而在基板上产生相互重叠的第一标识和第二标识；根据基板上的第一标识和...
    2025-08-19
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