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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 一种用于涂胶显影机的废液收集装置
    一种用于涂胶显影机的废液收集装置_盛合晶微半导体(江阴)有限公司_202520759599.0
    本实用新型提供一种用于涂胶显影机的废液收集装置，包括第一收集杯、第二收集杯及蜂窝状格栅，第一收集杯包括杯体，杯体围成一收容空间，且杯体设有顶部开口与底部开口，第二收集杯包括依次连接的外层侧壁、环形底板与内层侧壁，杯体的底部与外层侧壁的顶部活...
    2026-03-28
  • 投影屏幕及投影系统
    投影屏幕及投影系统_青岛海菲新材料有限公司_202411329012.9
    本申请提供一种投影屏幕及投影系统，投影屏幕包括：扩散层、着色层以及微结构层，沿着入射光线的方向，扩散层、着色层以及微结构层依次设置，着色层包括着色基材；其中，扩散层和微结构层中的一者与着色基材为一体成型结构。本申请简化了制程工序，且提升了材...
    2026-03-28
  • 账户信息的处理方法和装置
    账户信息的处理方法和装置_中国建设银行股份有限公司_202211534883.5
    本发明公开了一种账户信息的处理方法和装置，涉及金融信息服务技术领域。该方法的一具体实施方式包括：接收风险排查请求，获取所述风险排查请求对应的至少一个待排查账户；分别获取各所述待排查账户对应的贷款信息；根据各所述待排查账户对应的贷款信息，从所...
    2026-03-28
  • 一种幕布的结构
    一种幕布的结构_深圳市中科创激光技术有限公司_202111143326.6
    本发明适用于放映设备领域，提供了一种幕布的结构，包括：多块幕布，幕布具有与其相邻的幕布相连的拼接结构，拼接结构为相互配合的第一拼接部或第二拼接部，第一拼接部与第二拼接部拼接后固定在一起，以使多块幕布连接为一体；第一条带，第一条带固定于幕布靠...
    2026-03-28
  • 用于极紫外(EUV)光刻系统的方法和EUV光刻系统
    用于极紫外(EUV)光刻系统的方法和EUV光刻系统_台湾积体电路制造股份有限公司_202310093587.4
    本发明提供了用于极紫外(EUV)光刻系统的方法，该极紫外光刻系统包括具有激光器件的辐射源，该激光器件配置有用以产生EUV辐射的机构。该方法包括：以3维(3D)模式收集来自激光器件的激光束的激光束轮廓；以3D模式收集由激光束产生的EUV辐射的...
    2026-03-28
  • 投影屏幕及投影系统
    投影屏幕及投影系统_青岛海菲新材料有限公司_202411332510.9
    本申请提供一种投影屏幕及投影系统，投影屏幕包括：基板，设置于入射光线的光路上，基板用于引导入射光线沿特定方向出射形成出射光线；反射结构件，反射结构件设置在基板的一侧，且位于出射光线的光路上，反射结构件具有反射部，反射部用于将至少部分出射光线...
    2026-03-28
  • 一种套刻误差补偿方法
    一种套刻误差补偿方法_重庆芯联微电子有限公司_202511966230.8
    一种套刻误差补偿方法，包括：提供形成有套刻标记图形的晶圆，套刻标记图形包括三组十字套刻标记，分别对应第一结构层、第二结构层以及第三结构层，三组十字套刻标记均形成于第一结构层。通过量测三组十字套刻标记的中心在第一方向以及第二方向的偏移量，得出...
    2026-03-28
  • 一种无人机地面站鲁棒自重构显示控制方法
    一种无人机地面站鲁棒自重构显示控制方法_中国航空无线电电子研究所_202511805090.6
    本申请提供了一种无人机地面站鲁棒自重构显示控制方法，所述方法应用于无人机控制席位，所述方法包括：步骤1、软硬件损坏时，平台软件能够按照预设的映射策略，自动关闭和打开对应软件，发送RS422信号给相应的显示器，驱动相应显示通道的打开和关闭，进...
    2026-03-28
  • 建立光学邻近校正模型的方法及光学邻近校正的方法
    建立光学邻近校正模型的方法及光学邻近校正的方法_中国科学院微电子研究所_202111034437.3
    本申请公开了一种建立光学邻近校正模型的方法及光学邻近校正的方法。该建立光学邻近校正模型的方法，包括：针对设计好的各图案，根据各图案之间的密切系数来划分图案组；分别为划分好的每个图案组建立相匹配的光学邻近校正模型；其中，密切系数包括图案形状异...
    2026-03-28
  • 用于商用航空发动机试验验证的气源系统控制架构
    用于商用航空发动机试验验证的气源系统控制架构_中国航发商用航空发动机有限责任公司_202310929590.5
    本发明提供了一种用于商用航空发动机试验验证的气源系统控制架构，其包括：依次由上至下连接的第一层控制架构、第二层控制架构和第三层控制架构，第一层控制架构包括工程师站、至少一个操作员站和至少一个上位机网络交换机组成的上位机系统，上位机系统放置在...
    2026-03-28
  • 屏幕框架及投影屏幕
    屏幕框架及投影屏幕_青岛海信激光显示股份有限公司_202520823211.9
    本申请公开了一种屏幕框架及投影屏幕，属于投影技术领域。屏幕框架包括：沿第一方向相对设置的两个第一边框，以及沿第二方向相对设置的两个第二边框；对于第一边框与第二边框中的任意一个边框，边框包括：多个呈条形的金属型材；其中，在同一个边框中，多个金...
    2026-03-28
  • 套刻标记和套刻误差量测方法
    套刻标记和套刻误差量测方法_重庆芯联微电子有限公司_202511929831.1
    本发明提供了一种套刻标记和套刻误差量测方法，包括：依次位于第一膜层、第二膜层和第三膜层上的第一套刻图形、第二套刻图形和第三套刻图形，第一膜层、第二膜层和第三膜层依次堆叠设置，第一套刻图形、第二套刻图形和第三套刻图形均为矩形环状结构，矩形环状...
    2026-03-28
  • 光源模块的控制系统、方法及放映机设备
    光源模块的控制系统、方法及放映机设备_深圳市中科创激光技术有限公司_202110923279.0
    本申请涉及一种光源模块的控制系统、方法及放映机设备。光源模块的控制系统包括：光源模块、温度检测模块和控制器，光源模块包括发光组件，发光组件用于提供光源；温度检测模块包括第一温度传感器和第二温度传感器，第一温度传感器用于检测光源模块内的环境温...
    2026-03-28
  • 一种等离子体光刻成像方法及装置
    一种等离子体光刻成像方法及装置_中国科学院微电子研究所_202211405494.2
    本申请实施例提供一种等离子体光刻成像方法及装置，包括：获取等离子体光刻成像的目标成像结构，目标成像结构包括呈周期性变化的目标掩模图形，将目标掩模图形输入快速成像模型，得到目标掩模图形对应的目标等离子体光刻成像，快速成像模型是利用目标成像结构...
    2026-03-28
  • 模拟方法、模拟设备、成膜设备、物品制造方法和非暂时性存储介质
    模拟方法、模拟设备、成膜设备、物品制造方法和非暂时性存储介质_佳能株式会社_202110854290.6
    本发明提供了一种模拟方法，其在使布置在第一构件上的可固化组分的多个液滴与第二构件接触并在第一构件和第二构件之间的空间中形成可固化组分的膜的过程中预测可固化组分的行为，所述方法包括对于可固化组分的多个液滴中的每一个液滴，基于液滴是否与相邻液滴...
    2026-03-28
  • 利用两次光刻和两次负显影实现纳米孔加工的方法
    利用两次光刻和两次负显影实现纳米孔加工的方法_中国科学院光电技术研究所_202510290715.3
    本公开提供了一种利用两次光刻和两次负显影实现纳米孔加工的方法，涉及光刻技术领域，包括：在衬底上形成依次层叠的待刻蚀膜层、第一感光膜层、介质层和第二感光膜层，待刻蚀膜层靠近衬底；利用纳米孔图形掩模对第二感光膜层进行一次曝光，之后进行一次负显影...
    2026-03-28
  • 一种建筑智能化集成控制系统及方法
    一种建筑智能化集成控制系统及方法_城信科技股份有限公司_202511914718.6
    本发明公开了一种建筑智能化集成控制系统及方法，涉及建筑技术领域，其技术方案要点包括以下步骤：根据建筑各功能分区的场景需求参数和智能化设备的历史运行反馈数据得到建筑智能化系统的场景控制标准指标和场景指标类型；将场景控制标准指标和场景指标类型进...
    2026-03-28
  • 一种旋涂收集杯
    一种旋涂收集杯_盛合晶微半导体(江阴)有限公司_202520759610.3
    本实用新型提供一种旋涂收集杯，包括上层收集杯、环形挡板及下层收集杯，其中，上层收集杯包括杯体，杯体围成一收容空间，且杯体设有顶部开口与底部开口，底部开口的边缘上设有第一连接部，杯体的内壁沿周向等间距设置有多个三棱柱，环形挡板位于收容空间内，...
    2026-03-28
  • 胶片冲洗罐翻转架、胶片冲洗机构以及胶片冲洗系统
    胶片冲洗罐翻转架、胶片冲洗机构以及胶片冲洗系统_深圳市神牛摄影器材有限公司_202520975023.8
    本实用新型涉及一种胶片冲洗罐翻转架、胶片冲洗机构以及胶片冲洗系统；属于摄影设备技术领域。胶片冲洗罐翻转架包括底座、驱动件和夹持架。驱动件其一端固定在底座上，驱动件的另一端上设有驱动轴，驱动件可带动驱动轴绕自身轴线转动；夹持架设置在驱动轴上，...
    2026-03-28
  • 一种改进型光刻胶旋涂胶盘
    一种改进型光刻胶旋涂胶盘_苏州森丸电子技术有限公司_202520845293.7
    本实用新型公开了一种改进型光刻胶旋涂胶盘，属于光刻胶旋涂胶盘技术领域，包括胶盘本体，所述胶盘本体上设有环形凹槽，所述环形凹槽的底面包括第一曲面与第二曲面，所述第一曲面与所述第二曲面呈对称设置，且形成所述环形凹槽内的最高点与最低点，所述环形凹...
    2026-03-28
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