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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 本实用新型公开了一种可折叠式柔光箱卡盘,包括:第一基座,呈开放环状结构,其外周设有第一支撑件;第二基座,呈开放环状结构,其外周设有第二支撑件;锁定机构,用于锁定或解锁第一基座和第二基座;第二基座转动连接于第一基座;第一基座和第二基座至少具有...
  • 本实用新型提出一种相机转接麦克风新型热靴座,包括热靴座主体与活动部,热靴座主体的一侧设有用于容纳活动部的容纳槽,容纳槽的侧壁设有阻尼轴,活动部套设于阻尼轴上,活动部与热靴座主体之间通过阻尼轴转动连接,热靴座内设有电路板,活动部上设有与电路板...
  • 本实用新型涉及曝光机领域,具体涉及一种曝光机载台表面检测机构及曝光机。曝光机载台表面检测机构包括四个检测组件;其中,在所述载台处于零位时,四个检测组件分布于曝光机的载台四个角部的上方;所述检测组件用于在所述载台移动的过程中扫描检测所述载台表...
  • 本实用新型涉及光刻胶去除技术领域,具体为一种边缘光刻胶去除装置。包括底座、转盘、输送带设备、连接架、旋转驱动机构、清洗剂喷嘴以及氮气喷嘴;底座上开设有滚珠安装槽,滚珠安装槽的内侧安装有若干个滚珠;底座上开设有落料孔;转盘上沿环形阵列设置有多...
  • 本发明提供一种气体弹簧调相器及热声发电机,其中气体弹簧调相器包括法兰、室温侧气缸、室温侧活塞、室温侧壁面、高温侧气缸和高温侧活塞,室温侧气缸与法兰的第一端面相连,以使法兰、室温侧气缸和室温侧活塞之间形成第一室温弹簧腔;室温侧壁面与法兰的第一...
  • 一种双锥形多气口式动态气体锁装置,首次提出了双锥形管道构型,管道中心光孔通道截面形状为双锥形,分为对流段和抑制段,连通在投影物镜腔室与硅片台腔室之间,对流段大口端朝向投影物镜腔室,对流段小口端与抑制段小口端相接形成窄喉口,抑制段大口端朝向硅...
  • 本发明涉及集成电路掩模设计领域,尤其涉及尤其涉及一种适用于双重光刻技术的版图拆分方法、适用于双重光刻技术的版图拆分装置及电子设备,本方法包括如下步骤:提供包括多个掩模图形的初始版图;基于第一拆分规则将多个掩模图形拆分为有冲突图形和无冲突图形...
  • 本发明提供了一种掩模版和载物台的兼容检测装置和兼容检测方法,属于半导体检测加工领域,兼容检测装置包括相机组件、掩模版吸附框、掩模版和载物台;相机组件设置在掩模版吸附框上方,掩模版设置在掩模版吸附框处。本申请的相机组件上下占用空间小,景深范围...
  • 本申请涉及一种金属线和通孔布图的光学临近效应修正方法及相关设备,该方法包括:获取原始金属线和通孔布图,在互连金属线所在层的平面内与互连金属线的延伸方向相垂直的方向为宽度方向,金属线图层中与互连金属线在宽度方向上相邻的金属线为影响金属线,影响...
  • 一种光蚀刻系统,用于控制极紫外光微影光源中的电浆位置,此系统可包括真空腔室;液滴产生器,用以将液滴流分配至真空腔室中,其中液滴是由金属材料形成;激光光源,用以将包括至少第一脉冲及第二脉冲的多个激光脉冲发射至真空腔室中;感测器,用以侦测腔室内...
  • 一种高灵敏度光纤光栅加速度传感器,包括基座、通纤块、中间横梁与质量块,所述通纤块的顶部开设有一号纤槽,通纤块的底部与基座的顶部相连接,基座的底部与待测物体固定连接,基座的中部与中间横梁的尾端固定连接,中间横梁的自由端与质量块的中部固定连接,...
  • 本发明提供能够抑制在将图案形成用的薄膜或具有转印图案的薄膜剥离之后透光性基板的主表面的形状劣化、且能够有助于再循环时的制造成品率的提高的掩模坯料。该掩模坯料具备透光性基板、和设置于透光性基板的主表面上的图案形成用的薄膜,薄膜含有金属、硅及氮...
  • 本发明涉及金融科技技术领域,尤其为一种基于动态规则集的资金路由系统及方法,包括以下步骤:接收待路由的资金交易请求,所述请求至少包含交易金额、客户标识、产品模块标识和其他业务参数;从规则管理平台获取针对该产品模块的动态规则集,所述规则集包括若...
  • 一种光源组件和投影设备,光源组件(10)包括:激光器(101),其中第一发光区域(Y1)出射第一激光,第二发光区域(Y2,Y21,Y22)出射发散角度小于第一激光的第二激光;第一合光镜片组(102),将第一激光反射至光源组件(10)的出光口...
  • 本申请实施例涉及光刻技术领域,提供了一种光刻掩模多目标鲁棒优化方法、系统、计算机设备和介质,其中方法包括:基于光刻仿真模型确定初始掩模版在N种工艺参数下分别获得的晶圆图案,N为大于1的整数;基于各种所述工艺参数获得的所述晶圆图案和目标图案之...
  • 一种基于法向力控制的大范围纳米结构表面压印方法,属于纳米结构表面加工技术领域。方法如下:进行结构化压头表面与工件表面的调平;进行法向力控制压印;进行原位检测,评估本次压印加工的质量;若评估质量误差超值,则重复上述步骤直至误差在规定的范围内后...
  • 本发明提供光刻设备操作控制方法、装置、存储介质及设备,包括:获取用户端发送的光刻任务,所述光刻任务包括需操作的衬底参数和工艺参数;将所述光刻任务中衬底参数与预设的衬底参数阈值比较、所述光刻任务中工艺参数与预设的工艺参数阈值比较;若所述衬底参...
  • 本申请公开了一种基于超表面的太赫兹计算全息图像的处理方法及系统,涉及太赫兹技术领域,其中,基于超表面的太赫兹计算全息图像的处理方法,包括如下步骤:S1:基于二氧化钒和光敏硅构建太赫兹反射超表面;S2:根据所需的成像数据和构建的太赫兹反射超表...
  • 本实用新型公开一种封装基板的显影喷淋结构,设置在垂直显影设备的显影处理段,包括:沿竖直方向平行排列的多根第一喷管和多根第二喷管,所述第一喷管和所述第二喷管均具有多个喷嘴,多根所述第一喷管与多根所述第二喷管由上至下交替排布,且多根所述第一喷管...
  • 本发明公开一种真空磁力辅助纳米压印装置,包括支撑单元、定位单元、真空磁力单元,支撑单元包括支撑台和固定块,用于调节压印时下基板的位置;定位单元包括导轨、定位块和滑块,用于调节压印时上软膜基板的位置和保证压印准确度;真空磁力单元包括真空箱及其...
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