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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 一种涂胶显影设备
    一种涂胶显影设备_芯达半导体设备(苏州)有限公司_202510651673.1
    本发明提供一种涂胶显影设备，涉及涂胶显影设备技术领域，包括SPIN单元、涂胶装置和显影装置，SPIN单元包括承载平台，用于承载晶圆并控制晶圆旋转，晶圆上具有光刻胶，使晶圆旋转后，光刻胶在晶圆的上方形成光刻胶层，其中涂胶装置位于SPIN单元的...
    2025-07-25
  • 用于形成半导体图案结构的方法及半导体器件的加工方法
    用于形成半导体图案结构的方法及半导体器件的加工方法_中国科学院微电子研究所_202110212715.3
    本公开提供了用于形成半导体图案结构的方法及半导体器件的加工方法，用于形成半导体图案结构的方法包括如下步骤。执行对准操作，以将具有第一预设图案的掩膜版与底部对准层对准，并获取对准参数。利用读取的偏移参数补正对准参数，以使掩膜版的对准位置发生偏...
    2025-07-25
  • 一种防倒塌的光刻胶冲洗液和形成光刻胶图案的光刻方法
    一种防倒塌的光刻胶冲洗液和形成光刻胶图案的光刻方法_苏州润邦半导体材料科技有限公司_202510607413.4
    本发明公开了一种防倒塌的光刻胶冲洗液和形成光刻胶图案的光刻方法，包括非离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、有机碱和溶剂，所述非离子表面活性剂为：
    2025-07-25
  • 基于反馈前馈模拟的Overlay数据分析与预测系统
    基于反馈前馈模拟的Overlay数据分析与预测系统_上海芯无双仿真科技有限公司_202510519866.1
    本发明提供基于反馈前馈模拟的Overlay数据分析与预测系统，涉及半导体对准优化与智能控制领域，包括主体系统，主体系统中包含数据采集模块、数据处理与存储模块、分析模拟模块和预测与校正模块；数据采集模块设置于光刻设备关键位置的传感器，包含部署...
    2025-07-25
  • 一种改善显影缺陷的工艺方法
    一种改善显影缺陷的工艺方法_重庆芯联微电子有限公司_202510505861.3
    本发明提供一种改善显影缺陷的工艺方法，包括提供待显影处理的晶圆，晶圆表面形成有光刻胶层；对晶圆进行第一次预湿处理，在光刻胶层表面形成第一预湿液膜；对晶圆进行第二次预湿处理，在光刻胶层表面形成第二预湿液膜；对晶圆进行显影处理。本申请采用了两次...
    2025-07-25
  • 基于多目视觉的光刻机标定方法、装置及设备
    基于多目视觉的光刻机标定方法、装置及设备_深圳市四元数半导体有限公司_202510625522.9
    本申请涉及光刻机标定技术领域，公开了一种基于多目视觉的光刻机标定方法、装置及设备，该方法包括：通过四路光学分光系统对掩模平面和晶圆平面进行成像和相位敏感探测分析，得到四组掩模‑晶圆初始对准位置信息；进行扫描白光干涉边缘增强处理，得到三维表面...
    2025-07-25
  • 抗蚀剂材料及图案形成方法
    抗蚀剂材料及图案形成方法_信越化学工业株式会社_202510054244.6
    本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供正型或负型皆高感度，且LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。本发明的解决手段是一种抗蚀剂材料，包含：双鎓盐，其含有具有经碘原子取代的苯氧化物阴离子结构及和该苯氧化物...
    2025-07-25
  • 一种感光性树脂组合物及其应用
    一种感光性树脂组合物及其应用_安徽拉瓦锡科技有限公司_202510523958.7
    本发明公开了一种感光性树脂组合物及其应用，包括如下质量份的原料组分：30～50份树脂、30～50份单体化合物、1～10份引发剂、0.1～5份交联剂、0.01‑1份界面活性剂；所述树脂包括脂肪族聚酯型聚氨酯丙烯酸酯和环氧丙烯酸树脂。本发明提供...
    2025-07-25
  • 保护膜形成方法、保护膜形成装置以及基板处理系统
    保护膜形成方法、保护膜形成装置以及基板处理系统_东京毅力科创株式会社_202510028762.0
    本发明提供一种保护膜形成方法、保护膜形成装置以及基板处理系统，能够在表面具有多层图案化层的基板的周缘部适当地形成保护膜。保护膜形成方法包括：工序(A)，一边使基板旋转，一边从位于基板的表面侧的表面侧涂布部向基板的表面供给用于形成保护膜的涂布...
    2025-07-25
  • 用于将表膜安装在光掩模上的框架组合件
    用于将表膜安装在光掩模上的框架组合件_思而施技术株式会社_202411582602.2
    本发明公开了一种用于将表膜安装在光掩模上的框架组合件。所述框架组合件包含所述表膜附接到的框架、附接到所述光掩模的立柱以及插入到所述框架的下侧中的固定装置。所述立柱和所述固定装置彼此磁性地接合，且通过所述固定装置下方的所述立柱在所述光掩模与所...
    2025-07-25
  • 多肽芯片制备方法及用于多肽芯片曝光对准的监测方法
    多肽芯片制备方法及用于多肽芯片曝光对准的监测方法_珠海碳云晶芯智能科技有限公司_202410039840.2
    本发明公开了一种多肽芯片制备方法及用于多肽芯片曝光对准的监测方法。所述监测方法包括：提供用于制备多肽芯片的光刻胶，光刻胶中分散有光致变色物质，且光致变色物质为变色微粒；将光刻胶在用于制备多肽芯片的基片表面形成前体胶膜，并对前体胶膜进行图案化...
    2025-07-25
  • 一种用于室内设计的可变布景展示装置
    一种用于室内设计的可变布景展示装置_长春电子科技学院_202510325291.X
    本发明涉及室内布景展示设备技术领域，尤其涉及一种用于室内设计的可变布景展示装置，包括有支撑架和安装于支撑架上的电动升降架，支撑架与电动升降架上均滑动式插接有导向板，下方导向板内侧卡接有投影仪。本发明通过拉动伸缩活动杆使得幕布向右移动展开，启...
    2025-07-25
  • 溶剂类组合物、用于去除抗蚀剂的组合物、显影剂组合物以及形成图案的方法
    溶剂类组合物、用于去除抗蚀剂的组合物、显影剂组合物以及形成图案的方法_三星SDI株式会社_202411715247.1
    提供一种溶剂类组合物、一种用于去除来自含金属抗蚀剂的边缘珠的组合物和/或一种含金属抗蚀剂的显影剂组合物以及一种使用其形成图案的方法。所述组合物包括经至少一个羧基取代的多环脂族烃化合物；和有机溶剂。
    2025-07-25
  • 感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀剂图案的形成方法及印刷线路板的制造方法
    感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀剂图案的形成方法及印刷线路板的制造方法_株式会社力森诺科_202280102423.7
    本发明所涉及的感光性树脂组合物含有粘合剂聚合物、光聚合性化合物、光聚合引发剂及增感剂，粘合剂聚合物具有源自丙烯酸的结构单元及源自苯乙烯或苯乙烯衍生物的结构单元，增感剂的含量相对于光聚合引发剂100质量份为1.60质量份以下。
    2025-07-25
  • 一种光学镜头
    一种光学镜头_裕精橡塑科技(扬州)有限公司_202510769187.X
    本发明提供了一种光学镜头，属于光学镜头技术领域,包括相机，所述相机外壁卡接有镜头座，所述镜头座外壁固定连接有均匀分布的卡板，所述卡板通过卡块卡接有转接环，所述转接环通过温漂自适应校准组件连接有光学镜头本体，所述镜头座外壁开设有均匀分布的滑槽...
    2025-07-25
  • 光学引擎
    光学引擎_青岛海信激光显示股份有限公司_202010328509.4
    本申请公开了一种光学引擎，属于投影技术领域。该光学引擎包括：光源、光机系统和镜头；光源包括光源壳体、发光器件和荧光轮，荧光轮包括荧光片、散热板、基板和驱动部件；发光器件和驱动部件固定在光源壳体内，基板与驱动部件的旋转轴固定连接，散热板和荧光...
    2025-07-25
  • 一种超短焦激光柔性透明显示面罩
    一种超短焦激光柔性透明显示面罩_中航华东光电有限公司_202510760463.6
    本发明提供一种超短焦激光柔性透明显示面罩，涉及激光面罩技术领域，包括光子晶体透明面罩组件，接收显示信号，用于实现透明显示功能；头盔组件，用于固定面罩并提供信号驱动；光机组件，用于投射图像至所述光子晶体透明面罩组件；结构组件，用于支撑和固定各...
    2025-07-25
  • 透镜驱动装置以及相机模块
    透镜驱动装置以及相机模块_阿尔卑斯阿尔派株式会社_202510021557.1
    本发明提供一种能够抑制构成线圈的线材的卷绕紊乱的产生的透镜驱动装置。在透镜驱动装置(101)中，前线圈支承部(14F)具有沿着Y轴方向相互分离地排列配置的右前支承突部(14FR)、左前支承突部(14FL)以及中央前支承突部(14FM)。前线...
    2025-07-25
  • 一种硅片双面曝光设备
    一种硅片双面曝光设备_深圳市先地图像科技有限公司_202510734197.X
    本申请实施例提供了一种硅片双面曝光设备，该硅片双面曝光设备是在硅片移动过程中，对硅片表面的感光涂层的进行曝光，无需频繁更换和固定硅片，节约了上下料的时间，提高了硅片上感光涂层曝光的效率。其次，第一光源模组和第二光源模组设置于硅片的对侧，且往...
    2025-07-25
  • 一种用于薄膜覆盖的透明双晶衬底的套刻对准装置和套刻对准方法
    一种用于薄膜覆盖的透明双晶衬底的套刻对准装置和套刻对准方法_青岛大学_202510622445.1
    本发明属于光刻微加工技术领域，涉及一种用于薄膜覆盖的透明双晶衬底样品的套刻对准方法和装置。本发明利用透射光实现了位于双晶衬底内部的双晶晶界线成像；而光刻机自带显微镜的反射成像系统实现了位于样品表面的光刻版图成像；通过精确调整焦平面位置，在透...
    2025-07-25
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