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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
浸没式光阻制备方法
本发明公开了一种浸没式光阻制备方法包括:步骤一、利用第一化合物和光致酸剂的分子自组装形成第二化合物。第一化合物具有带有羟基的柱芳烃超分子骨架。第二化合物为在柱芳烃超分子骨架的空腔中组装了各光致酸剂的分子的功能超分子。步骤二、将甲基丙烯酸衍生...
一种双面套刻精度对准及保护背孔被过刻蚀风险控制方法
本发明公开了一种双面套刻精度对准及保护背孔被过刻蚀风险控制方法,本发明涉及光刻套刻技术领域。包括以下步骤:首先,在晶圆正面形成第一层套刻图案和对准标记,建立正面坐标系;通过套刻两层正面套刻图案的坐标信息计算局部及全局偏移误差,确定综合正面套...
有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法、及表面活性剂
本发明涉及有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法、及表面活性剂。本发明提供能形成成膜性、填埋特性及隆起抑制性优异而且作为多层抗蚀剂用的有机膜时的处理裕度优异的有机膜的有机膜形成用组成物。一种有机膜形成用组成物,包含(A)有机膜形成...
Krf薄膜光刻用负性光致抗蚀剂组合物及其制备方法和应用
本发明公开了Krf薄膜光刻用负性光致抗蚀剂组合物及其制备方法和应用。本发明具体公开了一种抗蚀剂组合物在Krf薄膜光刻中的应用,所述抗蚀剂组合物由下述原料制得,所述的原料包括下列以重量份计的组分:80~150份的树脂A、5~20份的树脂B、5...
聚硅氧烷组合物
本发明提供了一种使用具有特定结构的聚硅氧烷组合物以提升金属氧化物抗蚀剂的曝光灵敏度的方法。
一种蒸汽排出效果好的涂胶显影加热盘
本实用新型公开了一种蒸汽排出效果好的涂胶显影加热盘,包括底盘,所述底盘的下端固定连接有多个连接杆二,多个所述连接杆二的一侧均固定连接有凸块,所述底盘的下方设置有圆盘外壳,所述圆盘外壳的内部设置有拆卸环,所述拆卸环的外表面滑动连接有多个安装耳...
投影组件及投影设备
本实用新型提供一种投影组件及投影设备,投影组件包括光源模组、投影片和反射件,光源模组可以用于产生出射光,反射件位于光源模组的出射光路,反射件具有第一投影区域,光源模组的出射光从反射件转折并经过反射件的第一投影区域以形成第一投影图案,反射件转...
组合物、固化物、光学滤波器及固化物的制造方法
本发明提供一种组合物,其含有染料和阳离子聚合性成分,所述阳离子聚合性成分包含具有多环式脂肪族结构的环氧化合物和脂环式环氧化合物。所述具有多环式脂肪族结构的环氧化合物优选为脂肪族环氧化合物。还优选所述具有多环式脂肪族结构的环氧化合物的含量在上...
一种液态感光树脂及其制备工艺
本发明公开一种液态感光树脂及其制备工艺,包括以下质量百分比的原材料制成:聚氨酯55~70%,甲基丙烯酸羟乙酯20~35%,光引发剂2~7%,有机硅助剂0.5~5%,余量为添加剂。通过特定配比聚氨酯、甲基丙烯酸羟乙酯、光引发剂、有机硅助剂以及...
有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法、及表面活性剂
本发明涉及有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法、及表面活性剂。本发明提供可形成成膜性、填埋特性及隆起抑制性优异而且作为有机膜使用时的处理裕度优异的有机膜的组成物。有机膜形成用组成物,包含:有机膜形成用材料、具有通式(B1)表示的...
一种立式晒版机
本实用新型涉及晒版机技术领域,具体为一种立式晒版机,包括机台,机台的上方设置有晒版箱,机台的右侧壁上安装有电源开关,晒版箱右侧壁上安装有控制盒,晒版箱前端开口,开口底部铰接有前箱盖,晒版箱的两侧壁上均铰接有一箱盖驱动伸缩杆,箱盖驱动伸缩杆末...
相机致动器
根据本发明的相机致动器包括:壳体;第一镜头组件、第二镜头组件和第三镜头组件,第一镜头组件、第二镜头组件和第三镜头组件设置在壳体内部并且沿光轴方向布置;驱动单元,该驱动单元在光轴方向上移动第二镜头组件和第三镜头组件;以及设置在第二镜头组件上的...
Krf薄膜光刻用负性光致抗蚀剂组合物及其制备方法和应用
本发明公开了Krf薄膜光刻用负性光致抗蚀剂组合物及其制备方法和应用。本发明具体公开了一种抗蚀剂组合物,所述抗蚀剂组合物由下述原料制得,所述的原料包括下列以重量份计的组分:80~150份的树脂A、5~20份的树脂B、5~15份的树脂C、3~1...
寻找光罩设计缺陷的方法
本发明提供的寻找光罩设计缺陷的方法包括如下步骤:步骤一、采用光刻工艺形成多个不同EM窗口的测试晶圆。步骤二、采用电子束扫描各测试晶圆并得到缺陷文件。步骤三、检查各缺陷文件中的所有缺陷并过滤掉的所有非光罩设计缺陷,由保留各缺陷作为过滤后缺陷。...
套刻标记组、拼接掩模组和光刻方法
一种套刻标记组、拼接掩模组和光刻方法,所述套刻标记组包括:边缘套刻标记,所述边缘套刻标记设置于第一掩模;遮掩标记,所述遮掩标记设置于第二掩模;所述第一掩模的图形和所述第二掩模的图形拼接时,所述遮掩标记位于所述边缘套刻标记对应位置。利用具有所...
一种具有LCD光阀平衡散热的投影机
本实用新型公开了一种具有LCD光阀平衡散热的投影机,投影机包括光机和机壳;光机包括光学系统、光源冷却系统、光机壳体和平衡散热装置;光学系统包括按光线行进方向依次设置的LED光源、聚光器、准直透镜、LCD光阀、场镜、反射镜和投影镜头;准直透镜...
一种基于相位评价函数的数字全息重建距离优化方法
本发明公开了一种基于相位评价函数的数字全息重建距离优化方法,属于光学显微测量技术领域。本发明包括步骤:1)获取待测微结构表面三维形貌的数字全息图的记录距离;2)设定包含数字全息图中的记录距离在内的重建距离范围,在重建距离范围内设置若干个候选...
监控光刻胶残渣缺陷的方法
本发明提供一种监控光刻胶残渣缺陷的方法,所述方法包括:提供一光罩版图,其包括光刻胶显开较小的区域;对所述光罩版图进行扫描计算以获取其具有的缺陷信息,且在扫描时仅扫描光刻胶显开较小的区域,其中,所述缺陷信息包括光刻胶的残渣缺陷信息及其他缺陷信...
一种漏液镜头保护装置
本实用新型提供一种漏液镜头保护装置,涉及镜头保护技术领域,包括基座和镜头座,所述基座的表面固定连接有防护壳,所述防护壳的表面固定连接有固定架,所述防护壳的表面活动安装有活动架,所述定位槽的内部活动安装有安装框,所述安装框的后端固定连接有密封...
有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、及图案形成方法
本发明涉及有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、及图案形成方法。本发明提供能形成基板上的成膜性、填埋特性、隆起抑制性、及作为多层抗蚀剂用的有机膜使用时的处理裕度优异的有机膜的组成物。一种有机膜形成用组成物,含有:(A)有机膜形成用材料、(B)...
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