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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 一种光子筛设计方法及基于光子筛的极紫外光刻掩模缺陷检测系统与方法
    一种光子筛设计方法及基于光子筛的极紫外光刻掩模缺陷检测系统与方法_中国科学院上海光学精密机械研究所_202510701606.6
    本发明提出了一种基于光子筛的极紫外光刻掩模缺陷检测方法与系统。设计专用光子筛，使用所述的光子筛替代现有极紫外光刻掩模缺陷检测系统中使用的菲涅尔波带片，构建极紫外光刻掩模缺陷检测方法与系统。所述系统采用来自同步辐射的静态窄发散极紫外光源。所述...
    2025-07-22
  • 光学元件驱动机构
    光学元件驱动机构_台湾东电化股份有限公司_202421624796.3
    本公开提供一种光学元件驱动机构。光学元件驱动机构包括固定部、第一活动部及驱动组件。第一活动部用以连接第一光学元件，并且可相对固定部运动。第一驱动组件用以驱动第一活动部相对固定部运动。
    2025-07-22
  • 一种手摇发电机
    一种手摇发电机_无锡市东舟船舶设备股份有限公司_202510563911.3
    本发明属于手摇发电机技术领域，具体的说是一种手摇发电机，包括盒体，所述盒体的上方设置有盒盖，所述盒体的内部设置有发电机，所述盒盖的下方设置有过渡板，所述过渡板的下方设置有增速齿轮箱，所述增速齿轮箱与过渡板之间转动连接有飞轮，所述飞轮的上方固...
    2025-07-22
  • 一种投影机LED光源的水冷头固定装置
    一种投影机LED光源的水冷头固定装置_深圳亮仔光电科技有限公司_202422318160.2
    本实用新型公开了一种投影机LED光源的水冷头固定装置，包括底座、LED光源、水冷头、板簧压片和连接组件；底座上设有避让面，并由避让面向内凹设有安装面；底座在安装面上设有穿透底座的透光窗口；安装面上设有定位柱；LED光源包括金属基板和LED发...
    2025-07-22
  • 柔光箱及摄影灯光系统
    柔光箱及摄影灯光系统_深圳市神牛摄影器材有限公司_202422380026.5
    本申请属于摄影设备技术领域，具体涉及柔光箱及摄影灯光系统，柔光箱的框架主体包括支撑杆、第一框架和第二框架，支撑杆的第一端与第一框架和第二框架中的其中一者连接，支撑杆的第二端与另一者以可拆接的方式连接，以固定第一框架和第二框架之间的间距，或使...
    2025-07-22
  • 基于底层三维结构可见的OPC模型的光刻图形预测方法
    基于底层三维结构可见的OPC模型的光刻图形预测方法_珠海市睿晶聚源科技有限公司_202510555890.0
    本申请公开了一种基于底层三维结构可见的OPC模型的光刻图形预测方法，方法包括：获取具有目标光刻胶的目标晶圆的不包含底层效应的第一wafer数据、光刻工艺参数、光罩数据、底层三维数据和底层材料光学性质参数；基于光学成像算法结合光刻工艺参数和光...
    2025-07-22
  • 浸没式光阻制备方法
    浸没式光阻制备方法_上海华力集成电路制造有限公司_202510572407.X
    本发明公开了一种浸没式光阻制备方法包括：步骤一、利用第一化合物和光致酸剂的分子自组装形成第二化合物。第一化合物具有带有羟基的柱芳烃超分子骨架。第二化合物为在柱芳烃超分子骨架的空腔中组装了各光致酸剂的分子的功能超分子。步骤二、将甲基丙烯酸衍生...
    2025-07-22
  • 一种双面套刻精度对准及保护背孔被过刻蚀风险控制方法
    一种双面套刻精度对准及保护背孔被过刻蚀风险控制方法_合肥芯谷微电子股份有限公司_202510247804.X
    本发明公开了一种双面套刻精度对准及保护背孔被过刻蚀风险控制方法，本发明涉及光刻套刻技术领域。包括以下步骤：首先，在晶圆正面形成第一层套刻图案和对准标记，建立正面坐标系；通过套刻两层正面套刻图案的坐标信息计算局部及全局偏移误差，确定综合正面套...
    2025-07-22
  • 有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法、及表面活性剂
    有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法、及表面活性剂_信越化学工业株式会社_202510046697.4
    本发明涉及有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法、及表面活性剂。本发明提供能形成成膜性、填埋特性及隆起抑制性优异而且作为多层抗蚀剂用的有机膜时的处理裕度优异的有机膜的有机膜形成用组成物。一种有机膜形成用组成物，包含(A)有机膜形成...
    2025-07-22
  • Krf薄膜光刻用负性光致抗蚀剂组合物及其制备方法和应用
    Krf薄膜光刻用负性光致抗蚀剂组合物及其制备方法和应用_上海新阳半导体材料股份有限公司_202111245412.8
    本发明公开了Krf薄膜光刻用负性光致抗蚀剂组合物及其制备方法和应用。本发明具体公开了一种抗蚀剂组合物在Krf薄膜光刻中的应用，所述抗蚀剂组合物由下述原料制得，所述的原料包括下列以重量份计的组分：80～150份的树脂A、5～20份的树脂B、5...
    2025-07-22
  • 聚硅氧烷组合物
    聚硅氧烷组合物_默克专利有限公司_202380082937.5
    本发明提供了一种使用具有特定结构的聚硅氧烷组合物以提升金属氧化物抗蚀剂的曝光灵敏度的方法。
    2025-07-22
  • 一种蒸汽排出效果好的涂胶显影加热盘
    一种蒸汽排出效果好的涂胶显影加热盘_苏州实钧芯微电子有限公司_202422368130.2
    本实用新型公开了一种蒸汽排出效果好的涂胶显影加热盘，包括底盘，所述底盘的下端固定连接有多个连接杆二，多个所述连接杆二的一侧均固定连接有凸块，所述底盘的下方设置有圆盘外壳，所述圆盘外壳的内部设置有拆卸环，所述拆卸环的外表面滑动连接有多个安装耳...
    2025-07-22
  • 投影组件及投影设备
    投影组件及投影设备_深圳智岩科技股份有限公司_202421815806.1
    本实用新型提供一种投影组件及投影设备，投影组件包括光源模组、投影片和反射件，光源模组可以用于产生出射光，反射件位于光源模组的出射光路，反射件具有第一投影区域，光源模组的出射光从反射件转折并经过反射件的第一投影区域以形成第一投影图案，反射件转...
    2025-07-22
  • 组合物、固化物、光学滤波器及固化物的制造方法
    组合物、固化物、光学滤波器及固化物的制造方法_株式会社艾迪科_202080048137.8
    本发明提供一种组合物，其含有染料和阳离子聚合性成分，所述阳离子聚合性成分包含具有多环式脂肪族结构的环氧化合物和脂环式环氧化合物。所述具有多环式脂肪族结构的环氧化合物优选为脂肪族环氧化合物。还优选所述具有多环式脂肪族结构的环氧化合物的含量在上...
    2025-07-22
  • 一种液态感光树脂及其制备工艺
    一种液态感光树脂及其制备工艺_绍兴芮意森新材料科技有限公司_202510430741.1
    本发明公开一种液态感光树脂及其制备工艺，包括以下质量百分比的原材料制成：聚氨酯55～70％，甲基丙烯酸羟乙酯20～35％，光引发剂2～7％，有机硅助剂0.5～5％，余量为添加剂。通过特定配比聚氨酯、甲基丙烯酸羟乙酯、光引发剂、有机硅助剂以及...
    2025-07-22
  • 有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法、及表面活性剂
    有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法、及表面活性剂_信越化学工业株式会社_202510047535.2
    本发明涉及有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法、及表面活性剂。本发明提供可形成成膜性、填埋特性及隆起抑制性优异而且作为有机膜使用时的处理裕度优异的有机膜的组成物。有机膜形成用组成物，包含：有机膜形成用材料、具有通式(B1)表示的...
    2025-07-22
  • 一种立式晒版机
    一种立式晒版机_上海颢汉数字技术有限公司_202422387901.2
    本实用新型涉及晒版机技术领域，具体为一种立式晒版机，包括机台，机台的上方设置有晒版箱，机台的右侧壁上安装有电源开关，晒版箱右侧壁上安装有控制盒，晒版箱前端开口，开口底部铰接有前箱盖，晒版箱的两侧壁上均铰接有一箱盖驱动伸缩杆，箱盖驱动伸缩杆末...
    2025-07-22
  • 相机致动器
    相机致动器_LG伊诺特有限公司_202380083163.8
    根据本发明的相机致动器包括：壳体；第一镜头组件、第二镜头组件和第三镜头组件，第一镜头组件、第二镜头组件和第三镜头组件设置在壳体内部并且沿光轴方向布置；驱动单元，该驱动单元在光轴方向上移动第二镜头组件和第三镜头组件；以及设置在第二镜头组件上的...
    2025-07-22
  • Krf薄膜光刻用负性光致抗蚀剂组合物及其制备方法和应用
    Krf薄膜光刻用负性光致抗蚀剂组合物及其制备方法和应用_上海新阳半导体材料股份有限公司_202111245430.6
    本发明公开了Krf薄膜光刻用负性光致抗蚀剂组合物及其制备方法和应用。本发明具体公开了一种抗蚀剂组合物，所述抗蚀剂组合物由下述原料制得，所述的原料包括下列以重量份计的组分：80～150份的树脂A、5～20份的树脂B、5～15份的树脂C、3～1...
    2025-07-22
  • 寻找光罩设计缺陷的方法
    寻找光罩设计缺陷的方法_上海华力集成电路制造有限公司_202510499214.6
    本发明提供的寻找光罩设计缺陷的方法包括如下步骤：步骤一、采用光刻工艺形成多个不同EM窗口的测试晶圆。步骤二、采用电子束扫描各测试晶圆并得到缺陷文件。步骤三、检查各缺陷文件中的所有缺陷并过滤掉的所有非光罩设计缺陷，由保留各缺陷作为过滤后缺陷。...
    2025-07-22
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