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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 一种升降幕布
    一种升降幕布_亿立影视科技(惠州)有限公司_202520891700.8
    本实用新型涉及一种升降幕布，包括：底壳、转动设置在所述底壳上转轴、以及可卷绕于所述转轴上的幕布，所述幕布的一端连接于所述转轴，另一端设置有固定杆，所述底壳上至少设置一组升降支撑组件，所述升降支撑组件包括气压撑杆、第一连杆、两个平行设置的第二...
    2026-03-27
  • 用于无掩模板直写光刻曝光机的吸盘电势监控系统及直写光刻曝光机
    用于无掩模板直写光刻曝光机的吸盘电势监控系统及直写光刻曝光机_合肥芯碁微电子装备股份有限公司_202520419485.1
    本实用新型公开了一种用于无掩模板直写光刻曝光机的吸盘电势监控系统及直写光刻曝光机，该系统包括：吸盘装置、电势传感器、开关组件、离子发生器和控制器，其中，控制器用于通过发送吸真空指令或破真空指令来控制开关组件的通断状态，以控制风道的气流方向，...
    2026-03-27
  • 压印设备
    压印设备_奇景光电股份有限公司_202210644771.9
    本发明公开一种压印设备，包括压印平台、压印滚轮、转印模块以及升降加压机构。压印滚轮设置于压印平台上。转印模块包括转印膜，转印膜位于压印滚轮与压印平台之间。升降加压机构与压印滚轮连动，其中升降加压机构驱动压印滚轮沿压印平台的法线方向移动，且选...
    2026-03-27
  • 使用多变量信号的剩余使用寿命估计
    使用多变量信号的剩余使用寿命估计_ASML荷兰有限公司_202480052951.5
    公开了一种预测一设备或其部件的剩余使用寿命的计算机实现的方法，所述方法包括：接收与所述设备或其部件的操作参数相对应的高维数据；将所述高维数据转换为健康指示器数据，所述健康指示器数据包括指示所述设备或其部件的健康状态的低维数据；确定所述健康指...
    2026-03-27
  • 一种自动平行光曝光机
    一种自动平行光曝光机_深圳市鸿超精密机械设备有限公司_202520889059.4
    本实用新型公开了一种自动平行光曝光机，涉及曝光机技术领域，包括曝光机本体，所述曝光机本体的顶部内壁设置有冷却组件，所述曝光机本体的左侧散气口固定连接有滤网，所述曝光机本体的左侧固定连接有清理组件，所述冷却组件包括左右两个电动伸缩杆，左右两个...
    2026-03-27
  • 自动更换垂直注射器与下液球冠的纳米球掩膜制备装置
    自动更换垂直注射器与下液球冠的纳米球掩膜制备装置_东华理工大学_202520920461.4
    本实用新型提供自动更换垂直注射器与下液球冠的纳米球掩膜制备装置，包括安装支架，安装支架的下端固定连接有制备台，制备台的前端方槽内固定连接有第一电动推杆，第一电动推杆的伸缩端固定连接有培养皿，安装支架的前端设置有更换组件，该设计解决了原有装置...
    2026-03-27
  • 减小寄生力和/或力矩对投射曝光设备的成像质量的影响的方法以及具有模块的投射曝光设备
    减小寄生力和/或力矩对投射曝光设备的成像质量的影响的方法以及具有模块的投射曝光设备_卡尔蔡司SMT有限责任公司_202480053359.7
    本发明涉及一种投射曝光设备(1、101)，其具有至少一个模块(40、50)，‑其中，所述模块(40、50)包括流体通道(41、51)，所述流体通道(41、51)至少暂时地容纳加压流体(42、52)，以及‑其中，所述流体通道(41、51)连接...
    2026-03-27
  • 检查装置
    检查装置_株式会社斯库林集团_202511057292.7
    本发明提供一种可对被检查物照射更均匀的光的检查装置。检查装置(1)包括：光源(11)、第一光导(12)、均化器(14)、傅立叶变换透镜部(13)、照明光学系统(17)、测定台、成像光学系统(21)、以及图像传感器(25)。光源(11)射出光...
    2026-03-27
  • 一种双面卷对卷光刻设备
    一种双面卷对卷光刻设备_深圳市鑫浩自动化技术有限公司_202511994848.5
    本发明涉及一种双面卷对卷光刻设备，包括曝光机构和位于其两侧的放卷机构和收卷机构，曝光机构包括第一曝光平台和第二曝光平台，且两个曝光平台的入膜方向相反，曝光平台下方设置有平台导膜装置，平台导膜装置包括平行走向的第一平台导膜棍组和第二平台导膜棍...
    2026-03-27
  • 一种电动幕布
    一种电动幕布_东莞市澳星视听器材有限公司_202520885076.0
    本实用新型公开了一种电动幕布，包括机壳组件，所述机壳组件包括壳体，壳体的两端均固定连接有安装座，安装座的一侧外壁上卡接固定有端盖，安装座另一侧外壁上固定连接有支架，且支架固定连接于壳体内，壳体内设置有收卷辊，且收卷辊的两端分别转动连接于两个...
    2026-03-27
  • 一种单项轴机械式加速度计及测量方法
    一种单项轴机械式加速度计及测量方法_成都中科智成科技有限责任公司_202511896677.2
    本发明公开了一种单项轴机械式加速度计及测量方法，涉及加速度计测量设备技术领域，包括底座和安装在底座上的穹顶外壳，所述底座内部开设有第一腔体，所述第一腔体安装有可轴向滑动的工形配重块，所述工形配重块与第一腔体的腔底之间安装有第一弹簧；所述穹顶...
    2026-03-27
  • 确定纳米光刻技术工艺窗口的方法
    确定纳米光刻技术工艺窗口的方法_中国科学院微电子研究所_202211532593.7
    本发明提供一种确定纳米光刻技术工艺窗口的方法，所述方法包括：依据预定第一关键尺寸的单沟槽或单线条成像模型进行成像，获取多个聚焦值对应的第一光强分布曲线；依据预定第二关键尺寸的多线条成像模型进行成像，获取多个聚焦值对应的第二光强分布曲线；依据...
    2026-03-27
  • 一种光源装置及照明系统与投影系统
    一种光源装置及照明系统与投影系统_深圳市绎立锐光科技开发有限公司_202520544707.2
    本申请公开了一种光源装置及照明系统与投影系统，属于照明及投影技术领域。本申请的光源装置包括第一发光元件，用于发出第一光；扩散元件，设置在所述第一光的光路上，用于扩散所述第一光；第二发光元件，用于发出第二光；波长转换元件，设置在所述第二光的光...
    2026-03-27
  • 一种跨尺度极限精密制造技术方法及其应用
    一种跨尺度极限精密制造技术方法及其应用_西湖大学_202210891224.0
    本发明属于表面加工领域，尤其涉及一种跨尺度极限精密制造技术方法及其应用。所述方法包括：分别预制加工面含有纳米阵列结构、微米阵列结构和毫米阵列结构的压印模板，对具有加工硬化效应的载体依次进行纳米压印、微米压印、毫米压印，控制在后进行的压印处理...
    2026-03-27
  • 音频信号处理方法及装置、电子设备、存储介质
    音频信号处理方法及装置、电子设备、存储介质_珠海楠欣半导体科技有限公司_202511855517.3
    本申请涉及音频信号处理技术领域，尤其涉及一种音频信号处理方法及装置、电子设备、存储介质；音频信号处理方法包括，首先接收当前输入的第一音频信号，当确定第一音频信号的幅值大于或等于第一信号阈值时，首先调小第一音频信号中的数字增益得到第二音频信号...
    2026-03-27
  • 光刻胶涂覆工艺及晶圆
    光刻胶涂覆工艺及晶圆_颀中科技(苏州)有限公司_202610163196.9
    本发明揭示一种光刻胶涂覆工艺，包括步骤：向晶圆的第一表面喷涂光刻胶，第一表面具有边缘区域；停止喷涂光刻胶，控制晶圆保持第一高速，所述光刻胶铺展并覆盖第一表面；将晶圆的转速自第一高速提高至第一速度；对所述晶圆进行减速洗边处理，开启洗边液喷头，...
    2026-03-27
  • 一种投影仪的侧投方法、装置、投影仪及介质
    一种投影仪的侧投方法、装置、投影仪及介质_天津一数光电科技有限公司_202511992431.5
    本申请实施例提供了一种投影仪的侧投方法、装置、投影仪及介质，涉及投影仪技术领域，技术方案包括：在投影仪向投影屏幕投影的过程中确定目标侧投角，目标侧投角为投影仪的光轴与投影屏幕的法线之间的夹角。然后依据各侧投角与旋转角之间的预设匹配关系，确定...
    2026-03-27
  • 期限错配风险评估方法、装置、设备、介质及产品
    期限错配风险评估方法、装置、设备、介质及产品_中国建设银行股份有限公司_202310272429.5
    本申请公开了一种期限错配风险评估方法、装置、设备、介质及产品。该期限错配风险评估方法包括：针对多个业务指标中的每个业务指标，获取多个企业在每个业务指标下分别对应的业务数据，其中，业务指标为用于评估企业的期限错配风险的备选指标；根据多个企业在...
    2026-03-27
  • 模拟前端装置
    模拟前端装置_瑞昱半导体股份有限公司_202110820739.7
    本发明提供一种模拟前端装置，其包括放大器电路、第一增益控制电路以及追踪电路。放大器电路用于根据一第一输入信号产生一第一输出信号。第一增益控制电路用于根据一第一增益控制信号设定一第一电性元件，并经由该第一电性元件将该第一输入信号传输至该放大器...
    2026-03-27
  • 用于全方位实时检测光刻特性的系统和方法
    用于全方位实时检测光刻特性的系统和方法_台湾积体电路制造股份有限公司_202210158885.2
    本公开总体涉及用于全方位实时检测光刻特性的系统和方法。一种极紫外(EUV)光刻系统通过用激光照射液滴来生成EUV光。该系统包括收集器以及耦合到收集器的多个振动传感器。振动传感器生成指示来自激光脉冲的冲击波和来自碎片的撞击的传感器信号。该系统...
    2026-03-27
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