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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 提供一种掩模版或掩模版坯料,所述掩模版或掩模版坯料包括低变形材料,其中,所述掩模版或所述掩模版坯料材料具有过零温度(ZCT)分布和ZCT斜率轮廓,其中,所述ZCT分布和所述ZCT斜率轮廓中的至少一种为非均一的。也提供一种减轻掩模版或掩模版坯...
  • 本申请公开了一种掩模图形确定方法、设备、介质及产品,应用于半导体技术领域。本方法中,刻蚀偏差由第一刻蚀图形和第一光刻图形确定,而第一刻蚀图形基于第一子图像和第二子图像融合得到。第一子图像由物理效应模拟单元基于第一光刻图形生成,第二子图像由神...
  • 本发明公开了一种投影机镜头结构及投影设备,涉及投影设备技术领域,投影机镜头结构包括壳体,透镜组件以及反射镜组件,壳体具有进光口以及出光口,进光口和出光口错开设置,壳体内部形成有依次连通的三个光路通道,每相邻的两个光路通道的延伸方向相交,透镜...
  • 本发明公开一种铜板显影机,涉及胶片显影技术领域,包括:显影机外壳,内部限定出容纳腔;旋转操作平台设置于所述容纳腔内并由驱动机构带动旋转;铜板能够固定在所述旋转操作平台上;喷淋机构具有超声波雾化喷头,用于向铜板喷淋显影液或去离子水。与现有技术...
  • 本发明提供了一种聚酰亚胺光阻组合物,包括:1 wt%至70 wt%的聚酰亚胺前驱物;0.1 wt%至10 wt%的光起始剂;1 wt%至10 wt%的酯类单体;以及余量溶剂,其中溶剂包括乳酸乙酯及γ戊内酯,且乳酸乙酯与γ戊内酯的重量比介于1...
  • 本发明提供了一种时变增益电路,包括增益控制启动电路和增益随时间恢复电路,所述增益控制启动电路和所述增益随时间恢复电路电信号连接,是一种低噪、低功耗、增益连续变化的时变增益电路,同时电路不受供电电压的限制,解决了现有主动声呐探测技术中在不同频...
  • 本实用新型公开了一种一体成型组合式新型相机套,包括前幅正面和后幅背面,前幅正面和后幅背面之间用于相机的放置,所述前幅正面的正面下方固定安装有弯型盖头,且弯型盖头的顶部安装有连接部,连接部与前幅正面和后幅背面的顶部相贴合,且连接部与后幅背面的...
  • 一种光学邻近修正方法,包括:提供初始版图,所述初始版图包括若干主图形;在所述主图形的外围生成若干第一辅助图形,生成中间版图;基于所述中间版图获取图形密度;根据所述图形密度,采用考虑图形密度的光学邻近修正模型进行光学邻近修正,生成修正版图。由...
  • 本发明公开了一种嵌入式防踩踏3D全息投影仪,3D全息投影与嵌入式防护罩同时嵌合安装在展示平台下,所述嵌入式防护罩的内部中间位置对应设置有电子投影设备,所述电子投影设备的上表面中间位置安装有投影显示罩;包括:驱动马达,其对称安装在所述嵌入式防...
  • 一种用于投影装置的镜头模块。镜头模块包括投影镜头、旋转调整件、重力感测器、驱动模块以及控制器。控制器经配置用以:控制驱动模块驱动旋转调整件沿第一方向旋转,使重力感测器从起始位置随旋转调整件旋转并止动于第一位置,获得第一旋转角度值;控制驱动模...
  • 公开一种半导体光刻胶组合物和使用其形成图案的方法,所述半导体光刻胶组合物包括含Sn有机金属化合物、由化学式1表示的化合物和溶剂。化学式1的描述如说明书中所述。
  • 本发明提供了一种超高感度低温光刻胶组合物、制备方法和应用,涉及光刻胶技术领域。本发明提供的超高感度低温光刻胶组合物包含酚醛树脂,感光化合物、粘附力增加剂、表面平流剂和溶剂;所述超高感度低温光刻胶组合物中,各组分的质量百分比为:酚醛树脂5‑1...
  • 本申请提供一种化学放大型正性光刻胶,涉及光刻胶领域。化学放大型正性光刻胶原料按重量份计,包括:第一树脂10份‑30份、第二树脂20份‑60份、第三树脂10份‑70份、光酸0.1份‑2份、添加剂5份‑10份和溶剂;化学放大型正性光刻胶的固含量...
  • 本实用新型提供照相机装置和切换开关。照相机装置具有将被摄体成像于照片胶片上的摄像区域的镜头和配置于镜头的前方的光圈叶片。光圈叶片构成为能够在使摄像区域的周缘部产生渐晕的光圈位置与比光圈位置靠半径方向外侧的开放位置之间移动。照相机装置还具有切...
  • 一种摄像模组(1),其包括:光学镜头(10),光学镜头(10)包括至少一光学透镜(11);光转折元件(30),光转折元件(30)包括多个反射面,从光学镜头(10)入射的光线在光转折元件(30)的多个反射面上发生多次反射;以及,感光组件(40...
  • 本申请公开了一种电动幕,包括:幕布;相对设置在所述幕布两端的安装盒和配重盒;所述安装盒包括壳体、电源位和安装座;所述壳体内部容置有卷轴,在所述卷轴的轴线方向,所述安装盒比所述幕布长;所述幕布的一端卷绕在所述卷轴上,所述卷轴用于收卷/放卷所述...
  • 本发明涉及一种光掩模版及其制备方法,所述光掩膜版包括:透光基板;位于透光基板表面上的掩膜图形;光罩保护框,所述光罩保护框一端固定在所述透光基板上,另一端连接保护膜,所述光罩保护框完全包围所述掩膜图形区域,所述保护膜为光罩功能膜,所述掩膜图形...
  • 公开一种半导体光刻胶组合物和使用其形成图案的方法,所述半导体光刻胶组合物包括:含Sn有机金属化合物;羧酸化合物;从磺酸化合物和膦酸化合物中选择的至少一种化合物;以及溶剂。
  • 本发明提供一种感光性树脂膜及其应用。该感光性树脂膜以5℃/分钟的升温速度由40℃升温至200℃、之后于200℃恒温10分钟的条件进行热重分析时,于0至40分钟的范围内的重量%对时间的一次微分的绝对值大于0.1%/分钟且不大于1.0%/分钟。
  • 本发明提供了一种抖动校正机构、摄像装置及电子设备。抖动校正机构包括:底座组件;移动座;透镜支撑体,透镜支撑体活动设置在移动座和底座组件之间;第一限位导向组件,移动座通过第一限位导向组件与底座组件连接;第二限位导向组件,移动座通过第二限位导向...
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