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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 一种彩色光刻胶用组合物
    一种彩色光刻胶用组合物_阜阳欣奕华新材料科技股份有限公司_202511619519.2
    本申请提供一种彩色光刻胶用组合物，涉及光刻胶领域。彩色光刻胶用组合物包括：40‑45重量份的绿色颜料液、5‑10重量份的黄色颜料液、5‑8重量份的碱溶性树脂、2‑4重量份的光聚合单体、1‑2重量份的光引发剂、0.3‑0.5重量份的助剂、40...
    2026-01-10
  • 电子设备和设备模组
    电子设备和设备模组_北京小米移动软件有限公司_202520337131.2
    本公开是关于一种电子设备和设备模组。电子设备包括：第一连接器，所述第一连接器用于与相机配件电连接；电池盖，所述电池盖包括定位开口，所述定位开口与所述第一连接器一一对应设置，且所述第一连接器通过所述定位开口外露。
    2026-01-10
  • 无三聚氰胺的感光热固化显影性双组分型树脂组合物、其干膜及其固化物以及印刷电路板
    无三聚氰胺的感光热固化显影性双组分型树脂组合物、其干膜及其固化物以及印刷电路板_太阳油墨(苏州)有限公司_202480034502.8
    提供其固化物具有优异的耐酸性、金属镀覆耐性、高温保存性、耐变色性，且减少在焊接阶段有害物质的挥发，干燥管理幅度优异的无三聚氰胺的感光热固化显影性双组分型树脂组合物、其干膜及其固化物以及使用其而形成的印刷电路板。所述无三聚氰胺的感光热固化显影...
    2026-01-10
  • 感放射线性组合物、图案形成方法及鎓盐化合物
    感放射线性组合物、图案形成方法及鎓盐化合物_JSR株式会社_202480034061.1
    本发明提供一种感放射线性组合物、以及图案形成方法，其可形成能够以充分的水平发挥感度、LWR性能、图案矩形性、CDU、图案圆形性、MEEF及DOF的抗蚀剂膜。一种感放射线性组合物，包含：第一鎓盐化合物，由下述式(1)表示；第二鎓盐化合物，为选...
    2026-01-10
  • 耗材芯片认证方法、耗材芯片和打印耗材
    耗材芯片认证方法、耗材芯片和打印耗材_杭州旗捷科技有限公司_202110665350.X
    本申请涉及一种耗材芯片认证方法、耗材芯片和打印耗材，通过响应于打印机发起的认证请求，向打印机发送认证反馈；接收打印机响应于认证反馈而返回的响应消息，并判断响应消息是否携带有指示耗材芯片被锁定的第一标识；在判断到响应消息携带有指示耗材芯片被锁...
    2026-01-10
  • Micro-LED投影光学系统及其制造方法
    Micro-LED投影光学系统及其制造方法_金华觉远创智科技有限公司_202511449741.2
    本发明公开了一种Micro‑LED投影光学系统及其制造方法，涉及Micro‑LED半导体显示技术领域，包括镜片及Micro‑LED显示芯片，镜片上具有第一非球面及第一衍射面，第一衍射面置于第一非球面与Micro‑LED显示芯片之间，第一衍射...
    2026-01-10
  • 光学透镜组件、相机模块和相机系统
    光学透镜组件、相机模块和相机系统_威亚光电子控股公司_202480026583.7
    光学透镜组件(2j)，特别用于相机模块，包括透镜支架(6j)、在透镜支架(6j)内部的一个或多个透镜元件(12)的透镜布置(11j)、以及用于加热所述一个或多个透镜元件(12, 13j)中的至少一个——特别是透镜布置(11j)的物侧的前方元...
    2026-01-10
  • 一种负性光刻胶组合物及其应用
    一种负性光刻胶组合物及其应用_西安瑞联新材料股份有限公司_202511820921.7
    本发明属于光刻胶技术领域，涉及一种负性光刻胶组合物及其应用。本发明提供了一种负性光刻胶组合物，其原料中的主体成膜树脂包括双酚A型丙烯酸树脂A和双酚A型丙烯酸树脂B；所述双酚A型丙烯酸树脂A由以下反应单体经聚合反应后制得：双酚A丙烯酸酯单体、...
    2026-01-10
  • 一种酯型负性聚酰亚胺光刻胶及其制备方法和应用
    一种酯型负性聚酰亚胺光刻胶及其制备方法和应用_中国科学技术大学先进技术研究院_202511380392.3
    本发明公开一种酯型负性聚酰亚胺光刻胶及其制备方法和应用，属于光刻技术领域；制备包括将二酐、含羧酸位点的二胺和有机溶液混合搅拌反应，得到聚酰胺酸溶液；将聚酰胺酸溶液加热搅拌后，通过甲醇进行沉降提纯，并对提纯产物进行真空干燥，得到聚酰亚胺固体；...
    2026-01-10
  • 使用强化学习来确定光学系统的最优对准
    使用强化学习来确定光学系统的最优对准_ASML荷兰有限公司_202480025412.2
    对光刻设备、量测设备和/或其他设备的光学系统的校正和/或其他调整通常基于来自先前制造和/或量测操作的信息、所述光刻和/或量测系统和/或过程的用户经验、基础光学物理原理和/或其他信息。有利地，本系统和方法使用强化学习来优化数十、数百、数千或数...
    2026-01-10
  • 一种双LCD投影仪光学装置
    一种双LCD投影仪光学装置_江西轰天炮光电科技有限公司_202511497279.3
    本发明提供了一种双LCD投影仪光学装置，涉及投影显示的技术领域，包括有第一光路模组和第二光路模组，所述第一光路模组和第二光路模组结构相同，均包括沿光路传播方向依次设置的光源、用于光束整形的菲尼尔透镜组、上偏光片和LCD。本发明采用双LCD，...
    2026-01-10
  • 星载光学成像载荷
    星载光学成像载荷_上海卫星工程研究所_202411372532.8
    本发明提供了一种星载光学成像载荷，包括短波相机，所述短波相机与星上处理单元、数传固存单元、综合电子单元连接；长波相机，所述长波相机与所述星上处理单元、所述数传固存单元、所述综合电子单元连接；仪器管理与电源箱，所述仪器管理与电源箱与所述短波相...
    2026-01-10
  • 图案检查装置以及图案检查方法
    图案检查装置以及图案检查方法_纽富来科技股份有限公司_202480037823.3
    本发明的一个方式的图案检查装置，其特征在于，具备：光学图像取得机构，其取得形成有图案的被检查试样的光学图像；参数范围设定电路，其根据与过去的检查条件参数的一致度，设定参照图像生成参数的范围；滤波函数生成电路，其使用所设定的所述参照图像生成参...
    2026-01-10
  • 压印系统和方法
    压印系统和方法_莫福托尼克斯控股有限公司_202480035356.0
    本发明涉及一种压印系统、特别是纳米压印系统，该系统包括 : 大体上柔性的至少一个印模，被构造成用于压印、特别是纳米压印；至少一个辊，其被构造成用于向大体上柔性的至少一个印模和/或待压印的至少一个基材施加压力；以及至少一个载物台，其被构造成用...
    2026-01-10
  • 一种基于圆盘承载重力主动形成杠杆结构的动力源装置
    一种基于圆盘承载重力主动形成杠杆结构的动力源装置_刘以胜_202511474426.5
    本发明技术属于重量形成的动力源领域，提供了一种基于圆盘承载重力主动形成杠杆结构的动力源装置，旨在解决传统圆盘扭矩调节依赖固定配重、功效低且无法动态控力的问题，其核心创新点在于：通过创新设计的重力块本体杠杆排列方式，以圆盘框架机构为载体，搭载...
    2026-01-10
  • 多重传感技术融合的双刀塔双主轴机床控制系统及方法
    多重传感技术融合的双刀塔双主轴机床控制系统及方法_浙江川上智能科技有限公司_202511403110.7
    本发明公开有多重传感技术融合的双刀塔双主轴机床控制系统及方法，属于机床控制技术领域，是通过识别双主轴多刀塔机床加工两个不同工件时双工件工序参数，分解独立子任务划分刀具分配，完成刀塔匹配及双路径无交叉优化，基于多重传感技术实时感知机床加工状态...
    2026-01-10
  • 一种对批量基底进行双面曝光的方法及系统
    一种对批量基底进行双面曝光的方法及系统_源能智创(江苏)半导体有限公司_202111161072.0
    一种对批量基底进行双面曝光的方法及系统，在第一工位对基底的正面曝光，并在基底的背面获取模板图像，在第二工位对基底的背面进行曝光，并通过模板图像对基底进行对位，按照在第一工位获取的模板图像的顺序进行索引号存储，得到调取序列，在第二工位按照调取...
    2026-01-10
  • 一种玻璃曝光机温度均衡控制装置
    一种玻璃曝光机温度均衡控制装置_江苏特纳马智能制造有限公司_202520439208.7
    本实用新型涉及玻璃曝光机技术领域，具体地说，涉及一种玻璃曝光机温度均衡控制装置。其包括曝光机本体，曝光机本体内部设置有安装座，安装座顶端安装有工作台，工作台内部开设有腔体，腔体内部转动连接有支撑轴，支撑轴外壁安装有若干个扇叶，曝光机本体内部...
    2026-01-10
  • 一种透光率连续可调的宽谱半色调掩模坯料及其制备方法
    一种透光率连续可调的宽谱半色调掩模坯料及其制备方法_湖南普照信息材料有限公司_202511731111.4
    本发明涉及一种透光率连续可调的宽谱半色调掩模坯料及其制备方法，其中，所述透光率连续可调的宽谱半色调掩模坯料包括从下往上依次层叠设置的基底、遮光层和半透明膜层，所述遮光层间隔设置在基底上，所述半透明膜层设置在遮光层以及未覆盖遮光层的基底表面上...
    2026-01-10
  • 逻辑芯片掩模版缺陷检测方法
    逻辑芯片掩模版缺陷检测方法_中科卓芯半导体科技(苏州)有限公司_202511537263.0
    本发明公开了逻辑芯片掩模版缺陷检测方法，涉及集成电路制造技术领域，包括以下步骤：S1，构建掩模表面亚波长无机微粒的散射响应模型，在设定多角度偏振光入射条件下，模拟不同粒径无机微粒在各入射偏振态下对反射光相位的非线性扰动影响，生成包含标准相位...
    2026-01-10
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