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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 一种具有全自动复位结构的一体式硒鼓
    一种具有全自动复位结构的一体式硒鼓_珠海京天世纪科技有限公司_202422190499.9
    本实用新型提供了一种具有全自动复位结构的一体式硒鼓，包括硒鼓本体，所述硒鼓本体的齿轮端设置有驱动齿轮组，所述驱动齿轮组的一侧啮合有计数齿轮，所述计数齿轮的一侧配合有弹性结构，所述齿轮端的一侧配合有相对于所述计数齿轮前后往返位移的自动复位内顶...
    2025-07-05
  • 一体式碳粉盒及电子照相成像设备
    一体式碳粉盒及电子照相成像设备_珠海天威飞马打印耗材有限公司_202510358142.3
    本发明提供一种一体式碳粉盒及电子照相成像设备，一体式碳粉盒包括成像单元和显影单元，成像单元包括废粉仓、感光鼓和传动轮组，感光鼓转动安装在废粉仓上，感光鼓的端部设有感光鼓齿轮，感光鼓齿轮远离感光鼓的鼓体的一端成型有联接凸部，显影单元包括粉仓、...
    2025-07-05
  • 图像形成装置
    图像形成装置_兄弟工业株式会社_202380081696.2
    提供一种在通过切割器切断片材的情况下，能够抑制定影部的耐久性下降的图像形成装置。控制部(101)使加热旋转体(51)或加压旋转体(52)旋转而输送片材，使排出辊(36、37)旋转而输送通过了辊隙部(N)的片材，在片材中的切断位置到达切割器的...
    2025-07-05
  • 一种提升金属掩膜版直线度的方法
    一种提升金属掩膜版直线度的方法_浙江众凌科技有限公司_202510757922.5
    本发明涉及显示技术领域，提供了一种提升金属掩膜版直线度的方法，包括：测量多条样品掩膜版的多个指定点位的像素位置精度偏差；选择多个指定点位的X坐标作为自变量，Y坐标及Y向偏差之和作为因变量进行拟合，或者，选择多个指定点位的Y坐标作为自变量，X...
    2025-07-05
  • 一种变灰掩膜版、制备方法、应用及基于该变灰掩膜版的光刻系统、光刻方法
    一种变灰掩膜版、制备方法、应用及基于该变灰掩膜版的光刻系统、光刻方法_天府兴隆湖实验室_202510634974.3
    本发明属于掩膜版技术领域，具体公开了一种变灰掩膜版、制备方法、应用及基于该变灰掩膜版的光刻系统、光刻方法。所述掩膜版。本发明提供的变灰掩膜版，包括基片，基片上设置有微结构；微结构由若干透过率不完全相同的棱锥阵列组成，且透过率不同的棱锥对应不...
    2025-07-05
  • 形成图案的方法和光刻胶膜
    形成图案的方法和光刻胶膜_三星SDI株式会社_202411680590.7
    公开了一种形成图案的方法和光刻胶膜，该形成图案的方法包括在衬底上涂覆包含有机锡化合物的半导体光刻胶组成物；干燥和加热以形成光刻胶膜；以及曝光和显影该光刻胶膜，其中有机锡化合物具有至少一个包含Sn‑C键的有机配体和至少一个有机羰氧基，并且光刻...
    2025-07-05
  • 电子照相用清洁刮板、处理盒、和电子照相图像形成设备
    电子照相用清洁刮板、处理盒、和电子照相图像形成设备_佳能株式会社_202080084096.8
    本发明旨在提供一种电子照相用清洁刮板，其具有优异的耐碎裂性且能够提供优异的清洁性能。该清洁刮板设置有包含聚氨酯的弹性构件和支承所述弹性构件的支承构件，并且通过使所述弹性构件的一部分与移动的被清扫构件的表面接触来清扫所述被清扫构件的表面。当使...
    2025-07-05
  • 并行空间光调制器调制器
    并行空间光调制器调制器_美国科视数字系统公司_202411591690.2
    本发明涉及并行空间光调制器调制器。一种3D投影仪，该投影仪具有两个光调制器，用于调制来自单个宽带光源的光，而不会将光损失转储为热量。在实施方式中，光分裂器(例如二向色镜)用于将一个波长组合分裂到一个光调制器，将另一个波长组合分裂到另一个光调...
    2025-07-05
  • 打印机用定影排纸组件
    打印机用定影排纸组件_联想图像(北京)科技有限公司_202421882360.4
    本实用新型公开了一种打印机用定影排纸组件，涉及激光打印机技术领域，旨在解决由于纸张材质不同，导致纸张在打印机内移动时，受到的张力不同，在打印材质较差的纸张时，会因为张力过大使纸张断裂的技术问题，包括具有显影单元的激光打印机机体，所述激光打印...
    2025-07-05
  • 一种水平推入在位检测装置
    一种水平推入在位检测装置_北京高德品创科技有限公司_202311150366.2
    本发明公开了一种水平推入在位检测装置，通过设置硒鼓装置、导电弹压装置和粉盒装置，所述导电弹压装置包括弹压头，所述弹压头设置在所述导电弹压装置的顶部，深入至所述粉仓槽内部，工作时通过推动把手将粉盒装置推入硒鼓装置的粉仓槽中，粉盒装置推动时挤压...
    2025-07-05
  • 一种显影盒
    一种显影盒_珠海鼎绘科技有限公司_202421731305.5
    本实用新型涉及一种显影盒，可拆插装在图像形成设备中，图像形成设备中形成有安装槽，安装槽中转动设有感光鼓，图像形成设备所在的第一侧上设置有可转动的门盖，显影盒插放在安装槽内,对显影盒施加外力或显影盒与图像形成设备相互配合作用，以使显影盒能够逐...
    2025-07-05
  • 抗蚀剂顶涂层组合物以及使用所述组合物形成图案的方法
    抗蚀剂顶涂层组合物以及使用所述组合物形成图案的方法_三星SDI株式会社_202411680584.1
    抗蚀剂顶涂层组合物和使用抗蚀剂顶涂层组合物形成图案的方法，抗蚀剂顶涂层组合物包括共聚物和溶剂，共聚物包括由化学式M‑1表示的第一结构单元、由化学式M‑2表示的第二结构单元、以及由化学式M‑3A、化学式M‑3B或化学式M‑3C中至少一种表示的...
    2025-07-05
  • 粉筒及显影装置
    粉筒及显影装置_珠海鼎绘科技有限公司_202421740393.5
    本申请公开了一种粉筒及显影装置。实施例的粉筒能够与设置有显影辊的显影盒一起形成显影装置，显影装置安装于电子成像设备，电子成像设备包括用于检测显影装置的显影室中色粉量的检测部；显影盒包括具有显影室的壳体；其中，粉筒包括粉筒本体，安装于壳体；粉...
    2025-07-05
  • 一种显影盒
    一种显影盒_珠海市拓佳科技有限公司_202510533250.X
    本发明公开了一种显影盒，包括：基座；第一识别件，设置在基座上，第一识别件能够与成像装置的检测机构电连接；开关装置，设置在基座上；第二识别件，设置在基座上，第二识别件能够与检测机构电连接；第一识别件、开关装置，第二识别件和检测机构能够依次回路...
    2025-07-05
  • 半导体光刻胶组合物和使用所述组合物形成图案的方法
    半导体光刻胶组合物和使用所述组合物形成图案的方法_三星SDI株式会社_202411688302.2
    公开了一种半导体光刻胶组合物和使用所述组合物形成图案的方法，所述半导体光刻胶组合物包括：含Sn有机金属化合物；由化学式1表示的羧酸化合物；以及溶剂。
    2025-07-05
  • 一种处理盒
    一种处理盒_朱雨_202380076827.8
    本发明提供一种处理盒，可拆卸地安装到设置有电力部件的电子照相成像设备中，处理盒包括感光鼓、显影辊以及用于向感光鼓充电的充电部件；处理盒还包括：电力供应件，能够与电力部件接触以接收电力，电力供应件能够向显影辊供应电力；接地构件，能够在与显影辊...
    2025-07-05
  • 半导体光刻胶组合物和使用所述组合物形成图案的方法
    半导体光刻胶组合物和使用所述组合物形成图案的方法_三星SDI株式会社_202411680594.5
    公开了一种半导体光刻胶组合物和使用组合物形成图案的方法，半导体光刻胶组合物包括含Sn有机金属化合物、由化学式1表示的羧酸化合物和溶剂。
    2025-07-05
  • 一种磁辊导电结构
    一种磁辊导电结构_赣州硕普科技有限公司_202421629635.3
    本实用新型公开一种磁辊导电结构，包括辊体和边盖，所述辊体内设置有磁芯，在所述边盖上设置有定位柱，所述定位柱插接在所述辊体内，所述边盖上固定设置有导电片，所述导电片上设置有延伸片，所述延伸片延伸至所述辊体内且与所述辊体内壁贴合导电。本实用新型...
    2025-07-05
  • 抗蚀剂的干式显影
    抗蚀剂的干式显影_朗姆研究公司_201980085227.1
    抗蚀剂的干式显影可使用于例如在高分辨率图案化中形成图案化掩模。干式显影可有利地通过半导体衬底的处理方法来实现，该方法包括：在处理室中将已光图案化的抗蚀剂提供至半导体衬底上的衬底层上；以及通过以下方式对所述已光图案化的抗蚀剂进行干式显影：通过...
    2025-07-05
  • 掩模版及其制备方法
    掩模版及其制备方法_中国科学院光电技术研究所_202510744318.9
    本公开提供一种掩模版及其制备方法，涉及半导体制造技术领域和光刻技术领域，制备方法包括：在基底上形成依次层叠的掩模吸收层、硬掩蔽层以及光刻胶层；基于掩模版图对光刻胶层进行曝光及显影，在光刻胶层中形成目标图形；以形成有目标图形的光刻胶层为掩蔽层...
    2025-07-05
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