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最新专利技术
  • 矿山管理装置以及矿山管理方法
    矿山管理装置以及矿山管理方法_日立建机株式会社_202580004436.4
    矿山管理装置具有：存储装置，其储存有矿山机械的警报数据以及保养数据；和信息处理装置，其收集警报数据以及保养数据并记录至存储装置，并且进行处理并向终端装置输出。信息处理装置以相对于矿山机械的各保养作业，使在本保养作业前的矿山机械的运转期间内发...
    2026-04-12
  • 作业机械
    作业机械_日立建机株式会社_202480057390.8
    作业机械具备：行驶体；回转体；作业装置；检测回转体以及作业装置的姿势的姿势检测装置；检测供由作业装置挖掘出的挖掘物装载的被装载机械的货斗的位置的货斗位置检测装置；和基于姿势检测装置以及货斗位置检测装置的检测结果、至少进行使回转体自动回转至成...
    2026-04-12
  • 蓄电池驱动式作业机械
    蓄电池驱动式作业机械_株式会社小松制作所_202480057525.0
    本发明抑制蓄电池驱动式作业机械的电力消耗。电动挖掘机具备：主体；蓄电池(37)，其设置于主体，并利用温度调节流体进行温度调节；电动马达(40)，其利用来自蓄电池(37)的电力进行驱动；液压泵(43)，其由电动马达(40)驱动；以及液压致动器...
    2026-04-12
  • 电动式工程机械
    电动式工程机械_日立建机株式会社_202480056010.9
    本发明以提供能够使氢气罐以及热交换器小型化的电动式工程机械为目的，该氢气罐贮留燃料电池的燃料，该热交换器对燃料电池的冷却剂的热量进行散热。为此，液压挖掘机具有：车身；作为所述车身的动力源的电动机；生成电力的燃料电池；和控制向所述电动机供给的...
    2026-04-12
  • 用于在混凝土基础中定向至少一个后张紧元件的定位装置
    用于在混凝土基础中定向至少一个后张紧元件的定位装置_恩德能源西班牙独资有限公司_202480057613.0
    本发明的目的涉及一种定位装置、定位系统、风力涡轮机的塔的混凝土基础、风力涡轮机以及制造风力涡轮机的方法，该定位装置用于在混凝土基础中定向至少一个后张紧元件、该定位系统用于在混凝土基础中定向后张紧元件。
    2026-04-12
  • 桩竖立和提升工具、桩竖立工具和支撑滑架的组件以及桩竖立工具和托架的组件
    桩竖立和提升工具、桩竖立工具和支撑滑架的组件以及桩竖立工具和托架的组件_IQIP控股公司_202480056890.X
    一种桩竖立工具(1)，包括用于安装到起重线缆的起重元件(3)；提升主体(5)，该提升主体包括用于临时固定单桩(2)的至少两个固定构件(6, 7)，其中固定构件(6, 7)彼此相距一定距离；第一连杆(8)，该第一连杆通过第一起重元件枢轴(9)...
    2026-04-12
  • 用于沿岸水库的柔性海堤
    用于沿岸水库的柔性海堤_南洋理工大学_202480056748.5
    一种海堤，包括可漂浮结构及设定于该可漂浮结构内的一个或多个水压载舱。该可漂浮结构具有相对的端部及基部，该基部的特征在于由相对的端部之间的长度设定。海堤包括一个或多个膜体。所述一个或多个膜体中的每一个包括具有第一边缘及第二边缘的不透水柔性面板...
    2026-04-12
  • 聚酯系合成纤维用处理剂、聚酯系合成纤维用第1处理剂、聚酯系合成纤维用第2处理剂及聚酯系合成纤维
    聚酯系合成纤维用处理剂、聚酯系合成纤维用第1处理剂、聚酯系合成纤维用第2处理剂及聚酯系合成纤维_竹本油脂株式会社_202480056924.5
    本发明的课题在于提供一种能够提高聚酯系合成纤维用处理剂对纤维所赋予的品质的聚酯系合成纤维用处理剂及其所获得的聚酯系合成纤维。本发明的聚酯系合成纤维用处理剂含有平滑剂(A)、抗静电剂(B)及非离子表面活性剂(C)，其特征在于：上述非离子表面活...
    2026-04-12
  • 外延片及其制造方法
    外延片及其制造方法_信越半导体株式会社_202480052963.8
    本发明提供一种外延片，其在电阻率为10Ω·cm以上且5000Ω·cm以下的单晶硅基板上依次具备硅外延膜、电介质层，所述硅外延膜的碳浓度为2×1019个原子/cm3以上且小于3×1020个原子/cm3，并且所述硅外延膜包含碳缺陷，所述硅外延膜...
    2026-04-12
  • 镀覆部件的制造方法及镀覆部件
    镀覆部件的制造方法及镀覆部件_安斯泰莫株式会社_202480057017.2
    本发明镀覆部件的制造方法具有：镀覆工序，在镀覆部件的表面上，使用以三价铬为主成分的镀覆液形成硬质镀铬膜；以及研磨工序或磨削工序，在所述镀覆工序之后，使用在采用纳米压痕法(ISO14577)的破碎试验中在580±80mN的按压负荷下破碎的磨粒...
    2026-04-12
  • 用于C2H4选择性CEM型CO2电解器的新型膜电极组件设计
    用于C2H4选择性CEM型CO2电解器的新型膜电极组件设计_西门子能源国际公司_202480053868.X
    本发明涉及一种用于零间隙电解池中CO2电解的膜组件，特别是用于零间隙电解池中CO2电解的膜电极组件，以及对应的零间隙电解池和用于生产这种膜组件的方法。因此，提出了一种用于在零间隙池电解器中支持CO2电解的膜组件(10)，其包括阴离子交换离聚...
    2026-04-12
  • 用于控制电解槽的气液分离器的系统和方法
    用于控制电解槽的气液分离器的系统和方法_约翰考克利尔氢气比利时公司_202480055917.3
    本发明提出了一种用于电解槽的气液分离器(GLSan，GLSca)的操作的系统和方法，该电解槽包括堆(10)，沿碱液液位(，)将电解液和气体分离开的阳极和阴极气液分离器，氧气和氢气通过气体控制阀(，)从它们各自的腔室流出，其特征在于，该调节使...
    2026-04-12
  • 通过非均相催化电解生产和储存氢气的方法以及用于该方法的装置
    通过非均相催化电解生产和储存氢气的方法以及用于该方法的装置_L·M·托雷西利亚·罗德里格斯_202480054513.2
    本发明涉及一种通过非均相催化电解生产和储存氢气的方法以及用于该方法的装置。本发明具体地涉及使用电极(6、7)通过直流电电解淡水或海水(H2O), 所述电极的结构由多孔基材(8)(优选活性炭)和由过渡金属的氧化物、氮化物或氢氧化物(优选二氧化...
    2026-04-12
  • 作为金属腐蚀抑制剂的硫化合物的碱性盐
    作为金属腐蚀抑制剂的硫化合物的碱性盐_阿科玛法国公司_202480057011.5
    本发明涉及硫化合物的碱性盐作为金属腐蚀抑制剂的用途，特别是在石油、天然气和/或采矿业领域中作为金属腐蚀抑制剂的用途，所述硫化合物特别是具有硫醇官能团的氨基酸，例如半胱氨酸或同型半胱氨酸。本发明还涉及包含硫化合物的碱性盐的抗腐蚀配制物，以及其...
    2026-04-12
  • 用于具有钢表面的部件的防腐蚀涂覆的多阶段方法
    用于具有钢表面的部件的防腐蚀涂覆的多阶段方法_汉高股份有限及两合公司_202480057156.5
    本发明涉及多阶段方法，其中一系列各自具有钢表面的部件最初被提供基于元素Zr和/或Ti的转化层，并且随后被浸涂，其中转化处理阶段后面是冲洗阶段，在所述冲洗阶段中，使各部件的至少钢表面与含有过氧化氢的含水组合物接触。在根据本发明的方法中，即使在...
    2026-04-12
  • 基于电极区域的选择性衬底处理
    基于电极区域的选择性衬底处理_朗姆研究公司_202480057266.1
    提出了用于基于电极区域的选择性衬底处理的装置和方法。在一些实施方案中，选择性地处理半导体衬底可包括：施加第一量的功率至电极的至少第一区域，使得半导体衬底的至少第一对应区域经历基于至少一种处理气体的第一沉积处理；及施加第二量的功率至电极的至少...
    2026-04-12
  • 基板处理装置
    基板处理装置_韩华赛米科技株式会社_202480055298.8
    本发明提供一种基板处理装置，包括：处理室，在内部形成有工艺处理空间；扩散盖，提供供应到所述处理室的处理气体的扩散空间；喷头，结合到所述扩散盖并在所述扩散空间中喷射处理气体；以及，基板支撑部，在所述处理室内部升高及降低基板，其中，所述扩散盖包...
    2026-04-12
  • 金属基材上含硅电介质的固有区域选择性沉积
    金属基材上含硅电介质的固有区域选择性沉积_盖列斯特有限公司_202480057318.5
    一种用于在金属层上沉积含硅电介质层的固有选择性工艺，包括利用含硅和硫的化学前驱体以及氧化剂的原子层沉积或化学气相沉积。在金属层与选择性沉积薄膜之间可选地存在缓冲层。
    2026-04-12
  • 静电吸盘系统、成膜装置、吸附方法、成膜方法以及电子器件的制造方法
    静电吸盘系统、成膜装置、吸附方法、成膜方法以及电子器件的制造方法_佳能特机株式会社_202480053410.4
    一种静电吸盘系统，其特征在于，具有：静电吸盘，所述静电吸盘用于吸附被吸附体，所述静电吸盘设置有从吸附被吸附体的吸附面贯通至相反侧的面的至少一个切口部；拍摄构件，所述拍摄构件能够经由切口部对被吸附体进行拍摄；以及判定构件，所述判定构件基于由拍...
    2026-04-12
  • 溅射靶、包括溅射靶的溅射装置及使用溅射靶制造显示装置的方法
    溅射靶、包括溅射靶的溅射装置及使用溅射靶制造显示装置的方法_三星显示有限公司_202580004303.7
    根据实施方案的溅射装置包括：提供溅射空间的腔室；安装在所述腔室中并且包含溅射物质的溅射靶；以及面向所述溅射靶的靶基板。所述溅射靶包括设置在第一部分中的第一分段材料和设置在第二部分中的第二分段材料，并且所述第一分段材料中的所述溅射物质的组成比...
    2026-04-12
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