Document
拖动滑块完成拼图
专利交易 商标交易 积分商城 国际服务 IP管家助手 科技果 科技人才 会员权益 需求市场 关于龙图腾 更多
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索
  • 我要求购
  • 我要出售
官方微信客服

官方微信客服
官方微信客服

官方微信客服
最新专利技术
  • 一种基于螺旋锥光束轨道角动量多维度全息技术的信息加密与重建方法
    一种基于螺旋锥光束轨道角动量多维度全息技术的信息加密与重建方法_南开大学_202511857054.4
    本申请公开了一种基于螺旋锥光束轨道角动量多维度全息技术的信息加密与重建方法，涉及光学信息处理与信息加密技术领域，通过在全息加密流程中统一采用螺旋锥光束作为载体与密钥，将目标图像离散化后经相位恢复生成初始全息图，再在该全息图中嵌入由拓扑荷数l...
    2026-04-21
  • 防拆装置、防拆装置的使用方法和图像形成装置
    防拆装置、防拆装置的使用方法和图像形成装置_珠海奔图电子有限公司_202511610470.4
    本申请涉及图像形成技术领域，尤其是涉及一种防拆装置、防拆装置的使用方法和图像形成装置。防拆装置用于图像形成装置，图像形成装置包括电子装置和盖装置，防拆装置包括施力部件和发电部件，施力部件用于连接至电子装置或盖装置，发电部件包括转动单元和发电...
    2026-04-21
  • 图像形成装置
    图像形成装置_富士胶片商业创新有限公司_202510090349.7
    本发明公开了一种图像形成装置，所述图像形成装置具备：像保持体，所述像保持体以能够绕旋转轴旋转的方式设置且保持像；以及去除部，所述去除部与旋转的所述像保持体的外周面接触，去除附着在该像保持体的该外周面上的粉体，在所述图像形成装置中，设置有一组...
    2026-04-21
  • 图像形成装置
    图像形成装置_富士胶片商业创新有限公司_202510055412.3
    一种图像形成装置，其具备：清洁刮板，与图像保持体的表面接触以去除附着于该图像保持体的表面的色调剂；容纳部件，容纳由所述清洁刮板去除的所述色调剂；及供给部，配置于所述容纳部件内，并将容纳于该容纳部件中的所述色调剂供给到位于比所述清洁刮板更靠所...
    2026-04-21
  • 图像形成系统、图像形成方法及程序产品
    图像形成系统、图像形成方法及程序产品_富士胶片商业创新有限公司_202510082832.0
    本发明公开了一种图像形成系统、图像形成方法及程序产品，所述图像形成系统具备处理器，所述处理器获取从介质生成的印刷物的种类，根据所获取的所述印刷物的种类，控制使压接调色剂附着于所述介质的能力，所述压接调色剂通过由压力引起的变形来发挥粘合功能。
    2026-04-21
  • 图像形成系统、图像形成方法及程序产品
    图像形成系统、图像形成方法及程序产品_富士胶片商业创新有限公司_202510068738.X
    本发明公开了一种图像形成系统、图像形成方法及程序产品，所述图像形成系统具备处理器，所述处理器获取从介质生成的印刷物的种类，根据所获取的所述印刷物的种类，控制使压接调色剂附着于所述印刷物时的所述压接调色剂的形态，所述压接调色剂通过由压力引起的...
    2026-04-21
  • 一种显影装置及激光打印机
    一种显影装置及激光打印机_厦门汉印股份有限公司_202511874021.0
    本申请公开了一种显影装置及激光打印机，其中显影装置包括感光鼓、充电组件、墨粉分散组件和显影组件，通过使规制刮刀能够产生振动，并在规制刮刀附近设置搅拌辊，提升规制刮刀附近的墨粉流转效率，防止部分墨粉长时间滞留在规制刮刀表面而被加热融化，能够在...
    2026-04-21
  • 图像形成装置及装拆体
    图像形成装置及装拆体_富士胶片商业创新有限公司_202510171565.4
    本发明公开了一种图像形成装置及装拆体，所述图像形成装置具备：像保持体；显影装置，所述显影装置使显影剂附着于所述像保持体；以及传送装置，所述传送装置传送从所述显影装置排出的显影剂，具有作为用于从该显影装置流向该传送装置的气体的排出的开口的气体...
    2026-04-21
  • 图像形成装置
    图像形成装置_精工爱普生株式会社_202511008009.1
    本发明提供一种提高原稿边缘引导件的宽度方向上的移动的操作性的图像形成装置。图像形成装置(1)具备图像形成装置主体部(200)和图像读取部(100)，图像读取部(100)被设置在图像形成装置主体部(200)的上部处，并且具有主体托盘(111)...
    2026-04-21
  • 一种耐温稳定型碳粉及其制备方法
    一种耐温稳定型碳粉及其制备方法_唐山曹妃甸恒菱科技有限公司_202511465942.1
    本发明涉及碳粉技术领域，提出了一种耐温稳定型碳粉及其制备方法，主要包括三个步骤：首先，将炭黑与分散剂在异丙醇中超声分散30‑40min，形成均匀的炭黑悬浮液；其次，将八水合氧氯化锆溶解后滴加入悬浮液，调节pH至中性，升温至70‑90℃老化2...
    2026-04-21
  • 调色剂
    调色剂_佳能株式会社_202511011293.8
    本发明涉及一种调色剂。一种调色剂，其包含各自含有粘结剂树脂和着色剂的调色剂颗粒以及钛酸锶细颗粒。钛酸锶细颗粒具有5.65eV至7.00eV的功函数。
    2026-04-21
  • 电子照相感光体、处理盒及图像形成装置
    电子照相感光体、处理盒及图像形成装置_富士胶片商业创新有限公司_202510527773.3
    一种电子照相感光体、处理盒及图像形成装置，所述电子照相感光体，其具备导电性基体和配置于所述导电性基体上的感光层，最表面层含有电荷传输材料、两种以上的树脂及酚化合物，外周面的RzJIS为0.1nm以上且100nm以下。
    2026-04-21
  • 光源的确定方法、装置及计算机可读存储介质
    光源的确定方法、装置及计算机可读存储介质_深圳市鹏芯微集成电路制造有限公司_202411003369.8
    本公开提供了一种光源的确定方法、装置及计算机可读存储介质，涉及光刻技术领域，所述方法包括：获取在粗对准COWA过程中被晶圆的对准标记反射的多种光源的信号质量值，多种光源彼此的波长范围不同；根据多种光源的信号质量值，确定用于进行细对准FIWA...
    2026-04-21
  • 一种负性光阻剥离液及其制备方法
    一种负性光阻剥离液及其制备方法_惠州达诚微电子材料有限公司_202511464048.2
    本申请涉及电子化学品领域，更具体的涉及了一种负性光阻剥离液及其制备方法。一种负性光阻剥离液，以质量百分比计，原料包括：主碱剂4~7%，有机胺10~20%，有机介质35~50%，组合功能剂2~6%，润湿渗透剂0.3~0.6%，消泡剂0.2~0...
    2026-04-21
  • 用于移除来自含金属的抗蚀剂的边缘珠粒的组合物以及使用其形成图案的方法和系统
    用于移除来自含金属的抗蚀剂的边缘珠粒的组合物以及使用其形成图案的方法和系统_三星SDI株式会社_202510543757.3
    一种用于移除来自含金属的抗蚀剂的边缘珠粒的组合物包括有机溶剂、至少一种从二醇化合物和环状醇化合物中选出的醇类化合物以及具有1.0 ≤ pKa1 ≤ 4.5的酸化合物。此外，还提供了使用所述组合物形成图案的方法和系统。
    2026-04-21
  • 一种减少显影气泡缺陷的静态显影方法
    一种减少显影气泡缺陷的静态显影方法_重庆中科渝芯电子有限公司_202511579791.2
    本发明公开一种减少气泡缺陷的静态显影方法，包括以下步骤：1)对已完成涂胶、曝光晶圆进行预处理；2)采用多组喷嘴组合的喷头在距离晶圆较近的位置以稳定而缓慢的方式喷涂，以此在晶圆上形成均匀、平整的显影液膜；3)喷显影液完成后，晶圆静止一段时间+...
    2026-04-21
  • 一种曝光机焦点补偿方法及曝光机焦点补偿系统
    一种曝光机焦点补偿方法及曝光机焦点补偿系统_合肥晶合集成电路股份有限公司_202512016732.0
    本发明提供一种曝光机焦点补偿方法及曝光机焦点补偿系统，曝光机焦点补偿方法通过旋转获得多组旋转后GRP形变校正映射图和旋转后Z向波动量，并将其与第一Z向波动量进行计算得到Z向波动差异值，并通过Z向波动差异值识别出晶圆表面是否异常，并在异常时中...
    2026-04-21
  • 一种基于R树建图的集成电路版图热点检测方法
    一种基于R树建图的集成电路版图热点检测方法_浙江大学_202512003620.1
    本发明公开一种基于R树建图的集成电路版图热点检测方法，首先将集成电路版图文件中每一个独立且连续的多边形创建为图结构中的节点，运用R树建立空间邻接关系，并采用多边形轮廓扩张技术判定节点连接性，当扩张后的多边形存在面积重叠时即建立连接边，进而构...
    2026-04-21
  • 一种激光成像曝光机
    一种激光成像曝光机_江苏源康电子有限公司_202511906829.2
    本发明公开的一种激光成像曝光机，属于激光成像曝光机技术领域，包括激光成像曝光机本体、第一固定板和第二固定板，所述第一固定板和第二固定板分别设于激光成像曝光机本体的两端，所述第一固定板上安装有放松组件，所述第二固定板上安装有收卷组件，放松组件...
    2026-04-21
  • 一种光罩光学层的斜向蚀刻方法
    一种光罩光学层的斜向蚀刻方法_绍兴芯链半导体科技有限公司_202511863509.3
    本发明涉及半导体产品制备技术领域，具体提供了一种光罩光学层的斜向蚀刻方法，光阻剂膜通过电子束曝光让剩余的光阻剂膜形成全反射光学图案，再以光阻剂膜作为保护层，让全反射光学图案蚀刻到硬遮蔽膜上，最后将硬遮蔽膜作为保护层，通过斜向干式蚀刻，让光学...
    2026-04-21
首页 上一页 20 下一页
技术分类

专利交易买卖与高校科技成果转化平台

主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务

Copyright ©龙图腾网 版权所有  营业执照  | 皖ICP备12007331号-2 lotut.com 皖公网安备 34010402703815号 中华人民共和国增值电信业务经营许可证