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最新专利技术
  • 一种光罩光学层的斜向蚀刻方法
    一种光罩光学层的斜向蚀刻方法_绍兴芯链半导体科技有限公司_202511863509.3
    本发明涉及半导体产品制备技术领域，具体提供了一种光罩光学层的斜向蚀刻方法，光阻剂膜通过电子束曝光让剩余的光阻剂膜形成全反射光学图案，再以光阻剂膜作为保护层，让全反射光学图案蚀刻到硬遮蔽膜上，最后将硬遮蔽膜作为保护层，通过斜向干式蚀刻，让光学...
    2026-04-21
  • 一种光刻机的真空控制系统
    一种光刻机的真空控制系统_松山湖材料实验室_202511529907.1
    本申请提供了一种光刻机的真空控制系统，真空控制系统包括预抽腔体、工作腔体、光刻机腔体、门阀、第一真空规、联通阀、第二真空规、机械泵、第一机械泵阀、分子泵、第一控制设备和第二控制设备，其中，工作腔体设置在预抽腔体和光刻机腔体之间，门阀设置在工...
    2026-04-21
  • 曝光参数确定方法、装置、计算机设备和存储介质
    曝光参数确定方法、装置、计算机设备和存储介质_北京超弦存储器研究院_202411018471.5
    本申请涉及一种曝光参数确定方法、装置、计算机设备和存储介质。所述方法包括：显示SEM测量源文件，所述SEM测量源文件包括多个量测点；响应于量测点选取及参数设置操作，从多个所述量测点中选取至少一个待分析量测点，并对应设置曝光参数；基于所述曝光...
    2026-04-21
  • 光刻胶图案生成方法、装置、设备、介质及产品
    光刻胶图案生成方法、装置、设备、介质及产品_北京超弦存储器研究院_202411005966.4
    本申请涉及一种光刻胶图案生成方法、装置、设备、介质及产品。方法包括：获取输入掩膜图形，以及输入掩膜图形的近场特性图像，近场特性图像为入射电磁波透过输入掩膜图形后的电磁场分布图像；根据输入掩膜图形、近场特性图像，以及训练好的目标机器学习模型，...
    2026-04-21
  • 光刻模型建立方法、装置、计算机设备、存储介质
    光刻模型建立方法、装置、计算机设备、存储介质_北京超弦存储器研究院_202411000835.7
    本申请涉及一种光刻模型建立方法、装置、旁瓣图形预测方法、光刻方法、计算机设备、存储介质和计算机程序产品。光刻模型建立方法包括：获取位于至少一组测试图形的曝光后的旁瓣图形信息，测试图形为测试相移掩膜上的透光掩膜图形且包括阵列排布的多个主图形，...
    2026-04-21
  • 一种晶圆边缘光刻胶优化方法及晶圆处理系统
    一种晶圆边缘光刻胶优化方法及晶圆处理系统_物元半导体技术(青岛)有限公司_202512001760.5
    本申请提供一种晶圆边缘光刻胶优化方法及晶圆处理系统，方法包括：在晶圆涂覆光刻胶后，检测晶圆边缘区域的光刻胶形貌参数，形貌参数至少包括光刻胶厚度分布和晶圆边缘光刻胶与晶圆的接触角；基于接触角动态确定边缘去除宽度；基于厚度分布确定厚度梯度，并基...
    2026-04-21
  • 一种涂胶显影设备
    一种涂胶显影设备_沈阳芯源微电子设备股份有限公司_202511754101.2
    本发明公开了一种涂胶显影设备，包括工艺腔室；加热件，设于工艺腔室内，用于加热晶圆；升降控制模块，包括多个升降件，多个升降件均沿加热件的轴向可移动的设于工艺腔室，用于带动晶圆移动；腔盖模块，包括盖主体，盖主体可拆卸的设于工艺腔室，以封闭工艺腔...
    2026-04-21
  • 提高光刻晶圆洗边精度的装置和方法
    提高光刻晶圆洗边精度的装置和方法_华虹集成电路(成都)有限公司_202511574226.7
    本申请提供一种提高光刻晶圆洗边精度的装置和方法，该装置包括：设置于光刻匀胶台5边缘区域上方的支杆结构1；设置于支杆结构1末端的微针喷嘴4；套设于支杆结构1下部的抽吸桶3；环绕光刻匀胶台5的多孔抽吸台10；设置于多孔抽吸台10内的光源8和光刻...
    2026-04-21
  • 基片处理装置、基片处理方法和存储介质
    基片处理装置、基片处理方法和存储介质_东京毅力科创株式会社_202511448419.8
    本发明提供能够维持生产率并且检查传送带的状态的基片处理装置和基片处理方法。基片处理装置包括：对基片实施规定处理的处理单元；输送单元，其具有保持基片的保持部及包括传送带并且通过使该传送带移动来使保持部在第1方向上移位的驱动部；能够获取与因保持...
    2026-04-21
  • 一种用于LDI干膜的阳离子自由基聚合组合物及LDI干膜
    一种用于LDI干膜的阳离子自由基聚合组合物及LDI干膜_航天智造科技股份有限公司_202410995892.7
    本发明涉及一种用于制备LDI干膜的阳离子自由基聚合组合物及LDI干膜。根据本发明的用于制备LDI干膜的阳离子自由基聚合组合物包括：碱溶性聚合物、自由基聚合性化合物和引发剂；其中，碱溶性聚合物的侧链具有脂环族环氧基团，且引发剂包括阳离子引发剂...
    2026-04-21
  • 含硅的膜形成用组成物、膜形成方法、及覆板
    含硅的膜形成用组成物、膜形成方法、及覆板_信越化学工业株式会社_202511014778.2
    本发明涉及含硅的膜形成用组成物、膜形成方法、及覆板。本发明目的为提供在喷墨适应性平坦化所使用的覆板中，用以使接触面平坦化，并借由等离子处理而提供适当的接触角的透明的含硅的膜形成用组成物及使用该组成物的膜的形成方法与覆板本体。该课题的解决手段...
    2026-04-21
  • 有机膜形成用组成物、有机膜形成方法及图案形成方法
    有机膜形成用组成物、有机膜形成方法及图案形成方法_信越化学工业株式会社_202511000410.0
    本发明涉及有机膜形成用组成物、有机膜形成方法及图案形成方法。本发明的课题为提供兼具填埋/平坦化特性的有机膜形成用组成物，其特征为含有(A)含有芳香族环的树脂、(B)含有下式(1)表示的含有β二酮结构的重复单元的聚合物、(C)溶剂。上式(1)...
    2026-04-21
  • 一种在曲面衬底上制备3D纳米结构的方法及曲面衬底
    一种在曲面衬底上制备3D纳米结构的方法及曲面衬底_湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)_202511478884.6
    本发明公开了一种在曲面衬底上制备3D纳米结构的方法及曲面衬底，属于微纳制造技术领域。本发明通过衬底准备、涂胶、转印、叠加重复涂胶、转印的步骤，在曲面衬底表面获得依次堆叠的光刻胶薄膜，接着经过曝光、显影得到具有3D纳米结构的曲面衬底，使溶剂不...
    2026-04-21
  • 一种掩模版检测装置及方法
    一种掩模版检测装置及方法_上海御微半导体技术有限公司_202511609097.0
    本发明公开了一种掩模版检测装置及方法。掩模版检测装置包括掩模版版盒、开盒组件和控制器；掩模版版盒包括底座和盒盖，底座用于承载掩模版，盒盖盖设在底座和掩模版上；开盒组件包括盒体、与盒体连接的运动模组以及固定在盒体上的第一光电传感器、第二光电传...
    2026-04-21
  • 一种方式增加光阻覆膜厚度均匀性的装置
    一种方式增加光阻覆膜厚度均匀性的装置_绍兴芯链半导体科技有限公司_202511401784.3
    本发明公开了一种方式增加光阻覆膜厚度均匀性的装置，涉及光罩加工技术领域。本发明具体包括转台、温度检测模块、控制器和若干加热模块，所述温度检测模块和加热模块分别设置于转台上侧，所述转台用于固定基片并带动基片转动，所述温度检测模块用于检测基片上...
    2026-04-21
  • 一种光掩模的制造方法以及光掩模
    一种光掩模的制造方法以及光掩模_株式会社SK电子_202510929873.9
    本发明提供一种与以往的光掩模的制造方法相比，能够实现光掩模的进一步高精细化的光掩模的制造方法以及光掩模。该光掩模具备：第一功能膜4，形成在透明基板2之上；第二功能膜3，以与第一功能膜4的至少一部分的边缘接触并沿着第一功能膜4的至少一部分的边...
    2026-04-21
  • 测试版图生成方法及装置、反向光刻技术模型的建立方法
    测试版图生成方法及装置、反向光刻技术模型的建立方法_北京超弦存储器研究院_202411017262.9
    本申请涉及一种测试版图生成方法及装置、反向光刻技术模型的建立方法、测试掩膜版、计算机设备、存储介质和计算机程序产品。测试版图生成方法包括：获取第一版图，第一版图包括直线图形；对第一版图进行平滑处理，形成测试版图。采用本方法能够进一步提高反向...
    2026-04-21
  • 基于规则和模型的SRAF图形生成方法、系统及终端
    基于规则和模型的SRAF图形生成方法、系统及终端_华芯程(杭州)科技有限公司_202512002188.4
    本申请提供了一种基于规则和模型的SRAF图形生成方法、系统及终端，基于预定义的SRAF插入规则，在光刻掩膜设计版图的每个光刻图案周边插入多个初始SRAF图形，并基于预定义的SRAF清理规则以及基于光刻工艺模型，联合对插入的多个初始SRAF图...
    2026-04-21
  • 金属层图形的辅助图形添加方法及版图
    金属层图形的辅助图形添加方法及版图_重庆芯联微电子有限公司_202511550764.2
    本发明提供了一种金属层图形的辅助图形添加方法及版图，属于半导体领域。该金属层图形的辅助图形添加方法包括提供一原始版图，所述原始版图至少包括金属层图形和孔洞层图形。在所述金属层图形的尾端设置辅助图形，所述辅助图形的参数满足设定的要求，所述辅助...
    2026-04-21
  • 一种生成曲线化掩模图形的方法及装置
    一种生成曲线化掩模图形的方法及装置_弈芯科技(杭州)有限公司_202512001938.6
    本申请公开了一种生成曲线化掩模图形的方法及装置，每次边移动处理后的曼哈顿版图均对应唯一的等效曲线版图，在优化迭代过程中，该等效曲线版图用于替代曼哈顿版图进行光刻成像仿真。当优化收敛后，是对当前分段边移动处理后的曼哈顿版图执行曲线化处理，生成...
    2026-04-21
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