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  • 本申请公开了一种太阳电池的制备方法及光伏组件,该太阳电池的制备方法包括以下步骤:在硅基底表面制备介质层和掺杂层,掺杂层的厚度为30nm~90nm;在掺杂层背离硅基底一侧制备第一氧化铝层;制备第一电极,包括:印刷电极浆料,电极浆料包括导电金属...
  • 本发明公开了一种太阳能电池的制备方法、太阳能电池及光伏组件,涉及光伏技术领域。本发明将待烧结电池片分为中间区域和边缘区域分别照射激光同时施加反向偏置电压,对电池片边缘区域进行降低电压参数,同时对电池片中间区域通过增加电压。本发明通过对激光辅...
  • 本申请公开了一种太阳电池的制备方法及光伏组件,该太阳电池的制备方法包括以下步骤:在硅基底表面制备氮化硅层,氮化硅层包括若干依次叠层设置的第一氮化硅子层至第N氮化硅子层,第一氮化硅子层位于靠近硅基底一侧,第一氮化硅子层中的硅原子与氮原子之比为...
  • 本发明公开了一种太阳电池及其制备方法,属于太阳电池技术领域。该太阳电池的制备方法包括:对N型硅衬底表面的本征非晶硅层进行HPT处理,得到氢化本征非晶硅层;于氢化本征非晶硅层的表面制备掺杂微晶硅层;HPT处理以氢气和SiH44作为反应气源,氢...
  • 本发明公开了一种异质结太阳电池及改善其铜栅线氧化的方法,属于异质结太阳电池制备技术领域。该方法包括:于异质结太阳电池蓝膜片的正面和背面分别制备铜栅线,再于各铜栅线靠近蓝膜片的边缘制备防脱落保护层,固化,随后进行光注入,再对各铜栅线的表面进行...
  • 本发明公开了一种太阳能电池制备方法及太阳能电池,涉及光伏领域。该太阳能电池制备方法包括:对黄膜片依次进行图案化处理及电镀处理,以在黄膜片的表面形成铜栅线;在铜栅线表面制备回刻保护层,得到电池半成品;对电池半成品进行去膜回刻处理后,去除回刻保...
  • 本申请提供了一种太阳电池的处理方法及光伏组件,其中处理方法包括:提供钝化接触电池初始结构,利用激光对位于第一区域的背面钝化层进行开膜处理;对开膜处理后的第一区域进行第一腐蚀处理,第一腐蚀处理后,第一区域的表面与第二区域的表面之间的高度差不大...
  • 本发明公开了一种太阳能电池制备方法及太阳能电池,涉及太阳能电池领域。该太阳能电池制备方法包括:对黄膜片依次进行涂布处理、打印处理及边缘蚀刻处理;对经过边缘蚀刻处理后的黄膜片进行边缘氧化处理,以在黄膜片的边缘形成二氧化硅层;对黄膜片依次进行显...
  • 本发明涉及太阳能电池技术领域,具体而言,涉及太阳能电池及其制备方法,该制备方法包括:在电池基体的表面、以及电池基体上设置的电极的表面涂覆SiO22纳米胶液,以形成覆盖电池基体的表面和电极的表面的SiO22纳米涂层。本发明的制备方法制得的太阳...
  • 本申请公开了一种太阳电池及其制备方法和光伏组件,涉及光伏技术领域。太阳电池的制备方法中,种子层上用于与电镀设备电连接的连接区域设置在初始电池片的边缘部分,后续会去除初始电池片的边缘部分。这样即便初始电池片因为与电镀设备连接而在连接区域处产生...
  • 本发明实施例公开了一种电池片串接机及其矫正件、矫正组件和拾取装置。其中矫正件包括矫正支架、压块和两组提拉结构,压块和提拉结构均安装在矫正支架上;压块朝下一面设有用于与电池串中的一个电池片贴合的弧形部,弧形部用于对电池片的中间位置处施加在第一...
  • 本发明公开了一种图像传感器及其制作方法,属于半导体技术领域,所述图像传感器包括:衬底;光电二极管,设置在所述衬底中,且所述光电二极管中设置有第一凹部;深沟槽隔离结构,设置在所述衬底中,且所述深沟槽隔离结构位于相邻的所述光电二极管之间,所述深...
  • 本发明公开了一种感光像素单元以及图像传感器,其中感光像素单元包括:半导体基板;电荷累积电极、传输控制电极、信号读出电极;介电层,其覆盖在电荷累积电极、传输控制电极、信号读出电极三者上方,且设有开口部;N型半导体层,位于介电层上方且通过开口部...
  • 一种图像传感器包括衬底和多个像素区。多个像素区中的至少一个包括在衬底中的光电转换部和衬底的第一表面相邻的像素电路。像素电路包括多个晶体管。多个晶体管包括包含第一栅电极的第一晶体管及包含第二栅电极的第二晶体管。第二栅电极具有与第一栅电极不同的...
  • 本发明公开了一种利用等离子体刻蚀设备的处理工艺,包含:将表面沉积了绝缘层的基片放置于等离子体刻蚀设备的反应腔内;通入刻蚀气体,在基片上表面形成凹陷结构;沉积步骤中包括多个工艺循环,每个循环包括交替进行的第一工艺步骤和第二工艺步骤,第一工艺步...
  • 本公开涉及一种背照式图像传感器及其制备方法,涉及集成电路技术领域,包括:位于P型衬底背面的相互隔离的多个N型的光敏叠层;光敏叠层包括沿背离衬底背面的方向依次层叠的第一光敏层、第二光敏层及第三光敏层;第一光敏层包括沿平行于衬底背面的第一方向交...
  • 本发明公开一种图像传感器及其制作方法,属于半导体技术领域。图像传感器至少包括:衬底,其内间隔设置第一隔离结构和第二隔离结构;光电二极管,与第一隔离结构间隔设置在衬底内;传输栅极,设置在光电二极管远离第一隔离结构的衬底上;浮动扩散区设置在传输...
  • 本发明公开了一种可调谐近红外图像传感器,所述可调谐近红外图像传感器应用于生物特征识别,所述可调谐近红外图像传感器包括多个阵列化的像素传感单元;所述像素传感单元包括:半透明的第一电极;全反射的第二电极,与第一电极相对设置,且与第一电极形成用于...
  • 一种降低线列探测器形变应力的支撑台结构制备方法,解决了现有Ⅱ类超晶格线列探测器公共电极沟槽存在高度差、倒装互连工艺困难、内部应力大的问题,属于红外探测器技术领域。制备方法包括:(1)清洗外延片;(2)使用PECVD方式,沉积SiO22硬掩模...
  • 半导体装置的半导体光学传感器结构可以包括光子吸收区域和位于光子吸收区域上方的抗反射结构(例如,抗反射膜、光栅结构)。可以针对半导体光学传感器结构调整抗反射结构以实现入射光的最小反射。具体地,可以调整诸如抗反射结构的膜厚度、折射率、光栅高度、...
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