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最新专利技术
  • 非规则图形的拆分方法、可读存储介质
    非规则图形的拆分方法、可读存储介质_上海华力集成电路制造有限公司_202511786074.7
    本发明提供一种非规则图形的拆分方法、可读存储介质，包括：提供原始版图，根据光刻能力设计图形拆分规则与图形设计规则；根据图形设计规则添加虚拟填充图形，将非规则图形整形为规则图形；根据图形拆分规则，对规则图形进行拆分分析，以得到拆分通解；根据拆...
    2026-02-24
  • 基于自适应曲率分割与区域拟合的高保真数字光刻方法
    基于自适应曲率分割与区域拟合的高保真数字光刻方法_安徽工程大学_202511539919.2
    本发明涉及基于自适应曲率分割与区域拟合的高保真数字光刻方法，包括：获取待处理曝光图像，对待处理曝光图像进行曲率分析以及自适应分割，获取若干子图像；根据子图像的曲率特征对子图像进行拟合，拟合包括：线性拟合、多项式拟合和局部拟合；基于拟合结果，...
    2026-02-24
  • 一种纳米级光谱深度编码的激光直写系统及其实现方法
    一种纳米级光谱深度编码的激光直写系统及其实现方法_北京大学_202511457422.6
    本发明公开了一种纳米级光谱深度编码的激光直写系统及其实现方法，属于激光加工领域。本发明解决了传统工艺中因加工与表征分离导致的系列问题，通过光谱仪实时采集光轴分层扫描数据，与激光直写共享物镜光路，将光的颜色信息编码成样品深度信息，实现纳米级探...
    2026-02-24
  • 偏置预存表的生成方法、减少OPC迭代次数的方法
    偏置预存表的生成方法、减少OPC迭代次数的方法_上海华虹宏力半导体制造有限公司_202511286203.6
    本发明公开了一种减少光学邻近效应校正迭代次数的方法。该方法首先通过对历史校正数据进行统计学习，建立一个偏置预存表。该表将不同类型的图形片段及其局部几何特征(如线宽和间距)映射至一个优化的特征偏置值。在进行校正时，首先对待校正版图的各片段查找...
    2026-02-24
  • 分析用于光刻的掩模的方法
    分析用于光刻的掩模的方法_卡尔蔡司SMT有限责任公司_202510988879.3
    本文描述的公开内容涉及一种用于分析用于光刻的掩模的方法，包括：对准所述掩模的空间像(I)和所述掩模的掩模设计(ML)，以形成所述空间像(I)和所述掩模设计(ML)的叠加；其中CD阈值确定区域(501)和CD测量区域位于所述空间像(I)内；使...
    2026-02-24
  • 决定方法、信息处理装置、曝光装置、曝光方法及物品的制造方法
    决定方法、信息处理装置、曝光装置、曝光方法及物品的制造方法_佳能株式会社_202510969264.6
    提供决定方法、信息处理装置、曝光装置、曝光方法及物品的制造方法。一种决定方法，决定表示经由将来自原版的光投影到基板的投影光学系统检测标志的第1测量仪的光轴与不经由所述投影光学系统检测标志的第2测量仪的光轴之间的距离的基线的基线校正量，具有：...
    2026-02-24
  • 引导模板的制备方法及制备系统
    引导模板的制备方法及制备系统_张江国家实验室_202410963511.7
    本发明提供一种引导模板的制备方法，是基于衍射曝光工艺的双重曝光方法，作为一个示例，其将花生状图案拆分成两个圆形图案分别进行曝光，即通过调整两次曝光时的晶圆台的位置，组合形成花生状图案；同时通过调整两次曝光间晶圆台移动的距离，可实现花生状图案...
    2026-02-24
  • 光刻胶匀胶方法及电子设备
    光刻胶匀胶方法及电子设备_苏州苏纳光电有限公司_202511801370.X
    本发明公开了一种光刻胶匀胶方法及电子设备，光刻胶匀胶方法包括：采用涂胶头在晶圆表面按预设螺旋轨迹涂布光刻胶胶液；驱动所述晶圆旋转，以使所述胶液均匀分布于晶圆表面；其中，在涂布过程中获取胶液的粘度值η，并根据胶液的粘度值η控制涂胶头移动速度v...
    2026-02-24
  • 一种光感组合物及其应用
    一种光感组合物及其应用_珠海基石科技有限公司_202511924922.6
    本申请实施例提供了一种光感组合物及其应用。该光感组合物同时引入了光引发剂、可交联单体热交联剂、硅烷偶联剂、填料，并控制特定物质的活性官能团量的物质的量的关系在一定的范围内，使该光感组合在光交联和热交联后可实现较高且较为合适的交联密度，且填料...
    2026-02-24
  • 光固化组合物及其配置方法与应用
    光固化组合物及其配置方法与应用_衢州市信安湖先进材料创新研究院_202511825872.6
    本发明涉及化学领域，具体涉及光固化组合物及其配置方法与应用，该光固化组合物包括硅烷水解单体、膨胀单体、光致产酸剂、质子酸及溶剂；所述硅烷水解单体包括至少两种的结构通式为RnSiL4‑n(1≤n＜4)的化合物且一定包括甲基三甲氧基硅烷和四甲氧...
    2026-02-24
  • 抗蚀剂组合物、光产酸剂的制备方法及图案形成方法
    抗蚀剂组合物、光产酸剂的制备方法及图案形成方法_湖北鼎龙芯盛科技有限公司_202511747023.3
    本发明公开了一种抗蚀剂组合物，包括式(1)所示的第一光产酸剂，基础树脂、含氟树脂、淬灭剂和0~1.0质量份的式(2)所示的第二光产酸剂，并公开了图案形成方法，最终得到了改善的感光度和LWR的抗蚀剂图案。
    2026-02-24
  • 改善光刻胶图案底部内切的组合物及光刻工艺
    改善光刻胶图案底部内切的组合物及光刻工艺_上海华力集成电路制造有限公司_202511695338.8
    本申请提供一种改善光刻胶图案底部内切的组合物及光刻工艺，该组合物包含80wt％‑95wt％的光刻胶树脂、1wt％‑5wt％的光酸生成剂、0.1wt％‑5wt％的碱性添加剂和余量溶剂，其中，碱性添加剂的分子量为200Da‑5000Da，分解温...
    2026-02-24
  • 一种用于引线框架、载板、PCB和RDL封装的电镀光刻胶树脂及其制备方法和应用
    一种用于引线框架、载板、PCB和RDL封装的电镀光刻胶树脂及其制备方法和应用_金芯光刻胶材料(深圳)有限公司_202511474921.6
    本申请涉及电镀光刻胶的领域，具体公开了一种用于引线框架、载板、PCB和RDL封装的电镀光刻胶树脂及其制备方法和应用。一种用于引线框架、载板、PCB和RDL封装的电镀光刻胶树脂，按重量份计，所用原料包括以下组分：丙烯酸酯类单体90‑110份；...
    2026-02-24
  • 用于制备太阳能电池的复合感光胶、剥离液和太阳能电池及其制备方法
    用于制备太阳能电池的复合感光胶、剥离液和太阳能电池及其制备方法_通威太阳能(成都)有限公司_202511460778.5
    本发明涉及太阳能电池技术领域，具体而言，涉及用于制备太阳能电池的复合感光胶、剥离液和太阳能电池及其制备方法；该制备方法包括：在黄膜片上涂布复合感光胶，打印曝光；利用ITO蚀刻液进行边缘刻蚀；用剥离液进行清洗；显影、电镀形成铜栅线；复合感光胶...
    2026-02-24
  • 着色固化性树脂组合物、滤色器、显示装置及固体摄像器件
    着色固化性树脂组合物、滤色器、显示装置及固体摄像器件_住友化学株式会社_202510970587.7
    本发明涉及着色固化性树脂组合物、滤色器、显示装置及固体摄像器件。关于课题，本发明的目的是提供能够制作与绿色光的颜色分离性得以提高的滤色器的着色固化性树脂组合物。关于解决手段，本发明的着色固化性树脂组合物的特征在于，其含有着色剂、树脂、聚合性...
    2026-02-24
  • 着色固化性树脂组合物、滤色器、显示装置及固体摄像器件
    着色固化性树脂组合物、滤色器、显示装置及固体摄像器件_住友化学株式会社_202510970538.3
    本发明涉及着色固化性树脂组合物、滤色器、显示装置及固体摄像器件。关于课题，本发明的目的是提供能够制作与绿色光的颜色分离性得以提高的滤色器的着色固化性树脂组合物。关于解决手段，本发明的着色固化性树脂组合物的特征在于，其含有着色剂、树脂、聚合性...
    2026-02-24
  • 一种纳米压印用基板定位装置
    一种纳米压印用基板定位装置_璞璘科技(杭州)有限公司_202511575541.1
    本发明公开了一种纳米压印用基板定位装置属于纳米压印技术领域，包括定位机构，用以对基板中心点位置进行定位调节，吸附机构，用以对定位调节后的基板进行吸附定位，切换机构，用以对完成定位调节后的定位盘进行复位并切换吸盘二位置；本发明通过设置切换机构...
    2026-02-24
  • 光罩的缺陷修复方法
    光罩的缺陷修复方法_合光光掩模科技(安徽)有限公司_202511948234.3
    本发明提供一种光罩的缺陷修复方法，涉及半导体技术领域，包括：先确定光罩上的缺陷的位置；然后，在缺陷表面形成阻胶层，阻胶层覆盖缺陷；接着，形成光刻胶层，光刻胶层围绕阻胶层分布，且光刻胶层与阻胶层之间具有非粘附性；接着，以光刻胶层为掩模，对阻胶...
    2026-02-24
  • 掩模版表面缺陷的修复方法
    掩模版表面缺陷的修复方法_中国科学院光电技术研究所_202511943978.6
    本公开提供了一种掩模版表面缺陷的修复方法，包括：在掩模版的正面涂覆感光材料，形成感光层；基于掩模版的版图，从掩模版的背面照射掩模版，使光线穿过掩模版掩蔽层缺陷所在区域，对掩蔽层缺陷所在区域的感光材料进行曝光；对感光层进行显影，去除掩模版的缺...
    2026-02-24
  • 一种用于正投与吊装相结合的中长焦抗光投影屏幕
    一种用于正投与吊装相结合的中长焦抗光投影屏幕_上海莫蓝雨商贸有限公司_202511650761.6
    本申请涉及投影屏幕技术领域，提供一种用于正投与吊装相结合的中长焦抗光投影屏幕，包括在基体上阵列排布的多个光学结构单元，光学结构单元通过横截面呈三角形的横向分隔部和纵向分隔部进行界定。横向分隔部形成抗光脊，其第一斜面和第二斜面分别用于将投影光...
    2026-02-24
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