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最新专利技术
  • 一种近红外波段MIM结构完美吸收器及其设计方法
    一种近红外波段MIM结构完美吸收器及其设计方法_南宁师范大学_202511501839.8
    本发明涉及纳米光子学与光电子超材料器件技术领域，具体涉及一种近红外波段MIM结构完美吸收器及其设计方法：包括底部金属反射层、介质层和复合谐振层，复合谐振层由周期性排列的单元结构组成，当入射光照射在复合谐振层时，方形环与圆环分别激发不同波段的...
    2026-03-23
  • 一种超薄二向分色镜及其制备方法
    一种超薄二向分色镜及其制备方法_江苏集萃智能感知科技有限公司_202511252048.6
    本发明公开了一种超薄二向分色镜及其制备方法，该超薄二向分色镜通光口径区域无基底，仅一层膜系结构，薄膜总厚度3.1‑3.2 μm，薄膜材料由二氧化钛(TiO2)和二氧化硅(SiO2)组成，在450nm‑800nm波长范围内，工作角度45°时，...
    2026-03-23
  • 一种消光元件及其制备方法和车辆用摄像头总成
    一种消光元件及其制备方法和车辆用摄像头总成_福耀玻璃工业集团股份有限公司_202511180563.8
    本发明公开了一种消光元件及其制备方法和车辆用摄像头总成，属于消光元件技术领域。该消光元件包括：基底以及设置于基底的表面的消光涂层，该消光涂层含有第一碳材料；该消光元件的红外线吸收率为98％以上，可见光吸收率为98％以上。该消光元件的制备方法...
    2026-03-23
  • 一种光路转折元件的表面处理方法以及光路转折元件
    一种光路转折元件的表面处理方法以及光路转折元件_宁波舜宇光电信息有限公司_202511685411.3
    本申请提供了一种光路转折元件的表面处理方法以及光路转折元件，其中，所述表面处理方法包括：反射层形成步骤，在所述第一侧面和所述第二侧面形成反射层；抗反射层形成步骤，在所述第一表面形成抗反射层；反射区形成步骤，去除所述第一侧面的边缘的反射层和所...
    2026-03-23
  • 一种高透光率、高雾度扩散膜的制备方法
    一种高透光率、高雾度扩散膜的制备方法_西南科技大学_202511427308.9
    本发明公开了一种高透光率、高雾度扩散膜的制备方法，包括如下步骤：S1涂覆：在透明塑料基材表面涂覆一层光固化涂料并烘干；S2贴合：将具有直径10‑100μm微凹坑结构的硅胶阴模覆盖于所述光固化涂料表面；S3固化与脱模：对所述光固化涂料进行紫外...
    2026-03-23
  • 一种钙钛矿量子点扩散板的制备方法
    一种钙钛矿量子点扩散板的制备方法_常州奥智高分子集团股份有限公司_202510793173.1
    本发明公开了一种钙钛矿量子点扩散板的制备方法，涉及扩散板技术领域。本发明中的钙钛矿量子点扩散板，利用涂布或丝网印刷技术在透明基板上制造微球的光学结构，使光线经过时发生散射和扩散，从而实现光线的均匀分布。对于短OD直下式模组有较好的光学均匀性...
    2026-03-23
  • 光控膜
    光控膜_株式会社LMS_202511517165.0
    本说明书公开了光控膜。所述光控膜包括百叶窗层和哑光层，所述百叶窗层包括交替地布置在第一表面和第二表面之间的吸光部和透光部，并且所述哑光层布置在所述第一表面上，在该结构中，所述第一表面的开口率大于所述第二表面的开口率，所述哑光层的雾度在30%...
    2026-03-23
  • 一种反射式遮光罩
    一种反射式遮光罩_中国科学院西安光学精密机械研究所_202511244775.8
    本发明公开了一种反射式遮光罩，主要解决现有的一体化反射式遮光罩研制较为困难，且难以实现高效杂散光抑制效果的技术问题。本发明包括遮光筒和位于遮光筒内的若干个挡光环；若干个挡光环沿轴向依次安装在遮光筒的内壁上，且所有挡光环通光孔的中心轴线均与遮...
    2026-03-23
  • 吸光装置及激光器
    吸光装置及激光器_大族激光科技产业集团股份有限公司_202511169845.8
    本申请适用于激光器技术领域，提供一种吸光装置及激光器，该吸光装置包括第一座体、内芯和第二座体，内芯设置于第一座体的正面，内芯的截面尺寸自远离第一座体正面的方向逐渐减小；第二座体内设置有进光孔和吸光腔，进光孔的开口位于第二座体的正面，吸光腔的...
    2026-03-23
  • 一种实现相干完美吸收的复合介质及其调控方法
    一种实现相干完美吸收的复合介质及其调控方法_南通大学_202511153519.8
    本发明公开了一种实现相干完美吸收的复合介质及其调控方法，复合介质包括基底介质和填充介质，填充介质填充在基底介质内部；所述基底介质为各向异性材料；所述填充介质为非局域金属纳米颗粒。本发明运用有效媒质理论，计算出复合介质的有效介电常数和有效磁导...
    2026-03-23
  • 透镜结构
    透镜结构_安特永(苏州)光电科技有限公司_202511636343.1
    本发明揭示了一种透镜结构，包括至少一个第一透镜和基板，所述基板包括相对的第一表面和第二表面，所述第一表面为入光面，所述第一表面包括间隔设置的第一区域和第二区域，所述第一透镜设置于所述第一区域，所述基板包括吸光部，所述吸光部设置于所述第二区域...
    2026-03-23
  • 一种制作硅透镜的方法
    一种制作硅透镜的方法_无锡京蓝微纳科技有限公司_202511629250.6
    本发明公开了一种制作硅透镜的方法，包括以下步骤：包括以下步骤：步骤1：载片晶圆光刻胶图形化；步骤2：熔融光刻胶；步骤3：电镀种子层制作；步骤4：电镀压印模具；步骤5：研磨抛光压印模具；步骤6：释放压印模具；步骤7：压印、刻蚀形成硅透镜。本发...
    2026-03-23
  • 一种增强光学显微镜分辨能力的二氧化硅微球阵列制备方法、微球阵列的应用
    一种增强光学显微镜分辨能力的二氧化硅微球阵列制备方法、微球阵列的应用_合肥工业大学_202511271271.5
    本发明公开了一种增强光学显微镜分辨能力的二氧化硅微球阵列制备方法、微球阵列的应用，方法中将二氧化硅微球溶液滴在具有亲水性的玻片上；然后进行旋涂，由此在玻片上形成大面积均匀紧密排列的单层二氧化硅微球阵列；制备的二氧化硅微球阵列应用在光学显微镜...
    2026-03-23
  • 制造光学器件的方法、以及光学器件结构
    制造光学器件的方法、以及光学器件结构_台湾积体电路制造股份有限公司_202511162068.4
    在衬底的第一侧上方形成牺牲组件。牺牲组件具有第一弯曲轮廓。从第一侧对牺牲组件和衬底实施第一蚀刻工艺，第一蚀刻工艺去除牺牲组件，并且将牺牲组件下方的衬底的第一部分限定为微透镜。微透镜具有第二弯曲轮廓。在衬底的第一侧上方形成掩模层，以围绕微透镜...
    2026-03-23
  • 光学层叠体及图像显示装置
    光学层叠体及图像显示装置_富士胶片株式会社_202511462630.5
    本发明的课题在于提供一种耐久性优异的光学层叠体及使用光学层叠体的图像显示装置。本发明的光学层叠体依次具有粘合剂层(1)、相互相邻地具有树脂层及光吸收各向异性层的特定层叠体、以及粘合剂层(2)，所述光学层叠体中，光吸收各向异性层含有二色性物质...
    2026-03-23
  • 保护膜、内折叠显示模组和电子设备
    保护膜、内折叠显示模组和电子设备_荣耀终端股份有限公司_202410733913.8
    本申请实施例提供了一种保护膜、内折叠显示模组和电子设备。保护膜应用于内折叠显示模组。保护膜包括：依次层叠设置的透明胶层、基膜层和表层；基膜层中靠近表层的上表面具有基膜层凹陷部；表层的部分位于基膜层凹陷部内，表层中远离基膜层的上表面具有表层凹...
    2026-03-23
  • 使用激光减少透明固体的反射、采用透明固体的涂层和设备
    使用激光减少透明固体的反射、采用透明固体的涂层和设备_仿生私人公司_202511698818.X
    本公开涉及使用激光减少透明固体的反射、采用透明固体的涂层和设备。公开了使用激光减少透明固体在光谱中的反射的方法和设备、使用透明固体的涂层和设备。激光用于通过将材料的温度升高至熔融温度附近使透明固体材料的表面成形，从而在表面上生成期望的目标纳...
    2026-03-23
  • 干法AR膜、组件、显示器以及电子设备
    干法AR膜、组件、显示器以及电子设备_浙江日久新材料科技有限公司_202511356075.8
    本发明公开了一种干法AR膜、组件、显示器以及电子设备，其中AR膜包括顺次设置的基材、加硬层、高折层、低折层以及防护层，其中高折层的靶材选自 : 氧化铌、氧化锆、氮化硅、氧化钛、氧化锡；低折层的靶材选自：氟化镁、二氧化硅、氧化铝，所述高折层的...
    2026-03-23
  • 防眩膜、以及其制造方法及用途
    防眩膜、以及其制造方法及用途_株式会社大赛璐_202511377670.X
    本发明制备了漫光镜面反射强度R相对于漫反射强度的总和V之比R/V为0.01~0.12、且透射光的色度b＊的绝对值为3以下的防眩膜。该防眩膜包含透明基材层、和形成于该透明基材层的至少一面的防眩层，上述防眩层可以是含有一种以上聚合物成分及一种以...
    2026-03-23
  • 硅化锆在极紫外波段分束镜中的应用、膜系结构及其制备方法、极紫外波段分束镜
    硅化锆在极紫外波段分束镜中的应用、膜系结构及其制备方法、极紫外波段分束镜_苏州宏策光电科技有限公司_202511399818.X
    本发明属于分束镜元件技术领域，具体涉及硅化锆在极紫外波段分束镜中的应用、膜系结构及其制备方法、极紫外波段分束镜。本发明提供了硅化锆在极紫外波段分束镜中的应用。本发明提供了一种膜系结构，包括自支撑基底层和设置在所述自支撑基底层表面的反射多层膜...
    2026-03-23
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