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最新专利技术
  • 不织布、及其制造方法、以及层叠不织布、卫生材料
    不织布、及其制造方法、以及层叠不织布、卫生材料_东丽株式会社_202480027517.1
    本发明提供一种兼顾优异的柔软性与力学物性的不织布、及其制造方法、以及层叠不织布、卫生材料。而且，本发明涉及一种不织布，其为包含以聚丙烯系树脂为主成分的复合纤维的不织布，所述复合纤维中，丙烯分率为98.5%以上且100.0%以下，全同立构五元...
    2025-11-27
  • 成型体、净水过滤器、净水滤筒和净水器
    成型体、净水过滤器、净水滤筒和净水器_大阪燃气化学有限公司_202480009057.X
    谋求兼顾高去除性能和低压损化。一种包含活性碳纤维的成型体，所述活性碳纤维的纤维长度的个数分布满足：第1条件，纤维长度小于100μm的活性碳纤维为14.87％以上且28％以下；第2条件，纤维长度100μm以上且小于1000μm的活性碳纤维为7...
    2025-11-27
  • 多层层叠复合剖面纤维
    多层层叠复合剖面纤维_东丽株式会社_202480019320.3
    本发明提供一种具有防透性、汗渍抑制、UV截止性、柔软的手感、抑制绒毛的产生、且高阶通过性优异的多层层叠复合纤维。本发明涉及一种多层层叠剖面复合纤维，其为在与纤维轴向垂直的纤维剖面中，至少两种以上的成分与纤维表面平行地层叠3层～15层而成的多...
    2025-11-27
  • 液晶聚酯纤维
    液晶聚酯纤维_株式会社可乐丽_202480022477.1
    本发明提供对于拉伸变形及压缩变形的耐疲劳性优异的液晶聚酯纤维。上述液晶聚酯纤维的酮键量为0.050mol%以下，拉伸强度为18cN/dtex以上，单纤维的压缩强度为0.55cN/dtex以上。例如，上述液晶聚酯纤维的总羧基末端量(总CEG量...
    2025-11-27
  • 聚对苯二甲酸丙二醇酯纤维及其制造方法、以及包含该聚对苯二甲酸丙二醇酯纤维的空气混纤丝及由其构成的布帛
    聚对苯二甲酸丙二醇酯纤维及其制造方法、以及包含该聚对苯二甲酸丙二醇酯纤维的空气混纤丝及由其构成的布帛_帝人富瑞特株式会社_202480025004.7
    本发明的目的在于提供一种低收缩纤维及其制造方法，以及包含该聚对苯二甲酸丙二醇酯纤维的空气混纤丝及由其构成的布帛，该低收缩纤维实质上由聚对苯二甲酸丙二醇酯构成且可制造由热导致的收缩率小、具有柔软质感的布帛用的原丝。本发明设为：90摩尔%以上是...
    2025-11-27
  • 复丝
    复丝_东丽株式会社_202480019460.0
    本发明涉及一种通过JIS L1013‑2010 8.15中记载的方法来测定的CF值为100～300、单纱纤度为0.8 dtex以下的复丝。
    2025-11-27
  • 水果涂层剂以及用于其的纤维素纳米纤维制备方法
    水果涂层剂以及用于其的纤维素纳米纤维制备方法_农业社团食品工厂有限公司_202480027075.0
    实施例可以提供一种用于水果涂层剂的纤维素纳米纤维制备方法，其包括以下步骤：精制小麦或燕麦而成的纤维素中添加酶并进行酶处理；对于经过酶处理的精制小麦或燕麦而成的纤维素进行高压均质处理，制备出水果涂布用涂层剂纤维素纳米纤维。
    2025-11-27
  • SiC基板及SiC复合基板
    SiC基板及SiC复合基板_日本碍子株式会社_202380096444.7
    本发明提供一种翘曲较小的SiC基板。该SiC基板具备双轴取向SiC层，在SiC基板的Si面及C面的面内，拉曼位移值的最大值kmax与最小值kmin之差为0.50cm－1以下。上述拉曼位移值是如下得到的值：在SiC基板的Si面的面内，在从Si...
    2025-11-27
  • 用于制造单晶的装置及其使用方法
    用于制造单晶的装置及其使用方法_美国西门子医疗系统股份有限公司_202380097431.1
    本文中公开了一种用于生产单晶的装置，该装置包括：炉，其中该炉包括炉壁、炉基板和炉盖；炉壁设置在炉基板和炉盖之间；生长室，其包括外管、生长室底板和生长室顶板；其中炉盖具有开口，生长室突出穿过该开口，并且其中生长室操作以包含坩埚，该坩埚包含用于...
    2025-11-27
  • 单晶硅的制造方法及单晶硅制造装置
    单晶硅的制造方法及单晶硅制造装置_胜高股份有限公司_202380097527.8
    一种单晶硅的制造方法，其使用单晶硅制造装置并在加热器的发热分布不均匀的状态下加热旋转的坩埚以生成硅熔融液，并且开始向硅熔融液施加水平磁场以培育单晶硅，该单晶硅制造装置具备围绕坩埚的圆筒状的加热器及支撑加热器的第1～第4支撑电极，加热器具备第...
    2025-11-27
  • 合成单晶金刚石、合成单晶金刚石的制造方法以及金刚石衬底
    合成单晶金刚石、合成单晶金刚石的制造方法以及金刚石衬底_住友电气工业株式会社_202480022293.5
    一种合成单晶金刚石，是氮的原子数基准的含有率为10ppm以下、且硼的原子数基准的含有率为0.001ppm以上且3ppm以下的合成单晶金刚石，其中，所述合成单晶金刚石的绝缘电阻为1MΩ以上。
    2025-11-27
  • 外延生长处理设备中用于热交换的宏单元体系结构
    外延生长处理设备中用于热交换的宏单元体系结构_应用材料公司_202480027268.6
    描述了一种外延生长处理腔室，该处理腔室具有部件，该部件具有宏单元支撑结构，该宏单元支撑结构配置有限定流体连通孔隙的互连实体支撑件。还描述了一种经配置用于在外延生长处理腔室中使用的部件，该部件具有宏单元支撑结构，该宏单元支撑结构配置有限定流体...
    2025-11-27
  • 用于制备具有减少的径向电阻率变化的单晶硅锭的方法
    用于制备具有减少的径向电阻率变化的单晶硅锭的方法_环球晶圆股份有限公司_202480021512.8
    公开用于制备具有减少的径向电阻率变化的单晶硅锭的方法。在生长所述单晶硅锭时，硅熔体经历多个批次的反掺杂。每一批次中的第二掺杂剂的量可控制为小于基于预定目标最小电阻率、预定目标最大径向电阻率梯度及在无反掺杂的情况下发生的基线径向电阻率梯度确定...
    2025-11-27
  • 电沉积液的管理方法及电沉积装置
    电沉积液的管理方法及电沉积装置_三菱综合材料株式会社_202480027159.4
    一种电沉积液的管理方法，其为通过阴离子电沉积在导电性的基材上形成电沉积膜时所使用的电沉积液的管理方法，通过对所述电沉积液进行阴离子交换处理来调整所述电沉积液中所含的有机酸的浓度。一种电沉积装置(10)，其为通过阴离子电沉积在导电性的基材上形...
    2025-11-27
  • 电沉积液、绝缘覆膜的制造方法
    电沉积液、绝缘覆膜的制造方法_三菱综合材料株式会社_202480027140.X
    一种电沉积液，其为通过阴离子电沉积使电沉积膜在导电性基材上电沉积的电沉积液，含有水、有机溶剂、固体成分、中和剂及有机酸，所述固体成分至少含有聚酰亚胺系树脂。一种绝缘覆膜的制造方法，其为在基材的表面形成绝缘覆膜的绝缘覆膜的制造方法，具备：电沉...
    2025-11-27
  • 一种碱性水电解槽安全运行控制的方法及监测系统
    一种碱性水电解槽安全运行控制的方法及监测系统_江苏双良氢能源科技有限公司_202580001845.9
    本发明涉及制氢用碱性水电解槽技术领域，具体涉及一种碱性水电解槽安全运行控制的方法及监测系统，包括在碱性水电解槽的碟簧处安装至少一个碟簧变形监测仪器，用于监测所述碟簧的变形，并提供电解槽安全运行控制信号来源；根据所述碟簧变形监测仪器监测到的碟...
    2025-11-27
  • 金属碳化物和烃的制造方法以及含碳部件
    金属碳化物和烃的制造方法以及含碳部件_大金工业株式会社_202480025057.9
    本发明涉及金属碳化物的制造方法，其包括制备含有选自碱金属离子和碱土金属离子中的至少一种第1金属离子的熔融盐的工序、准备含有碳的电极的工序、和使用上述电极对上述熔融盐施加电压，得到含有上述第1金属的碳化物的金属碳化物组合物的工序。
    2025-11-27
  • 热浸镀钢材
    热浸镀钢材_日本制铁株式会社_202480025870.6
    该热浸镀钢材的镀层具有下述化学组成：含有Al：超过10.0%且低于45.0%、Mg：4.0～15.0%、Si：0.01～2.0%、0.03%～5.0%的Cu及0.03～6.0%的Ag中的至少一者、剩余部分包含Zn及杂质，在从镀层朝向钢材进行...
    2025-11-27
  • 取向性电磁钢板用绝缘覆膜处理液及其制造方法、以及取向性电磁钢板的制造方法
    取向性电磁钢板用绝缘覆膜处理液及其制造方法、以及取向性电磁钢板的制造方法_日本制铁株式会社_202480022443.2
    一种取向性电磁钢板用的绝缘覆膜处理液，含有从K、Al、Fe、Mg、Mn、Ni、Zn、Co、Mo、V、W及Zr中选择的一种或两种以上的金属的磷酸金属盐以及胶体状二氧化硅，绝缘覆膜处理液中的以K2O换算的K量和以SiO2换算的Si量的质量％的K...
    2025-11-27
  • 基材表面的预处理方法
    基材表面的预处理方法_德国艾托特克有限两合公司_202480027632.9
    本发明涉及一种用于在随后的无电铜沉积之前预处理基材表面的方法，所述方法包括：a)提供包括非导电材料上的活化表面的基材，其中所述活化表面具有活化剂，其中所述活化剂包括催化金属；b)将所述活化表面与用于预处理的水性预处理溶液接触以获得预处理表面...
    2025-11-27
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