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最新专利技术
  • 回转盖板梳理机
    回转盖板梳理机_立达股份有限公司_202480025519.7
    本发明涉及一种用于操作回转盖板梳理机(1)的方法以及一种回转盖板梳理机(1)。回转盖板梳理机(1)具有包括输入模块(3)的控制器(2)、进料器(6)和装配有滚筒针布(9)的滚筒(8)。在滚筒针布(9)的外表面(10)与盖板针布(15)中的一...
    2025-11-21
  • 用于监测半导体制造的板温度的系统、设备和方法
    用于监测半导体制造的板温度的系统、设备和方法_应用材料公司_202480024824.4
    本公开案涉及用于监测半导体制造的板温度的系统、设备和方法。在一或多个实施方式中，一种用于处理基板并适用于半导体制造的系统包括腔室主体，所述腔室主体包括一或多个侧壁。所述系统包括盖子及窗，所述一或多个侧壁、所述窗及所述盖子至少部分地界定内部容...
    2025-11-21
  • 聚合物制品的增强元件的去黄铜化方法
    聚合物制品的增强元件的去黄铜化方法_米其林集团总公司_202480017432.5
    本发明涉及一种用于增强聚合物制品的涂覆有黄铜的钢纤维的去黄铜化方法，该方法包括至少一个电化学处理步骤，其中，将钢纤维浸入到含有浓度在10和1000g/l之间的氢氧化钠溶液的处理浴中，并施加阳极电流，其中质量电流强度在1和2500A/kg钢纤...
    2025-11-21
  • 表面处理钢板
    表面处理钢板_日本制铁株式会社_202480020664.6
    [课题]进一步提高成形加工后的覆膜的密合性和耐腐蚀性。[解决方案]本发明的表面处理钢板具有：镀层，其位于钢板的至少一个表面上，且含有锌和镍；第一复合层，其位于所述钢板与所述镀层之间，且含有Fe、Zn、Ni；含铬复合层，其位于所述镀层之上，且...
    2025-11-21
  • 电化学单电池
    电化学单电池_日本碍子株式会社_202380013561.2
    电解单电池(1)具备金属支撑体(10)和单电池主体部(20)。单电池主体部(20)具有：配置在金属支撑体(10)的第一主面(12)上的气体扩散层(5)。在金属支撑体(10)的第一主面(12)的俯视图中，气体扩散层(5)的外缘(5a)的至少一...
    2025-11-21
  • 具有平坦分隔件的电解槽电池单元及制造电解槽电池单元的方法
    具有平坦分隔件的电解槽电池单元及制造电解槽电池单元的方法_赛瑞斯知识产权有限公司_202480023201.5
    本申请涉及一种电解槽电池单元，其具有电池层(1314)，所述电池层包括电化学活性电池区域(1350)，所述电池层(1314)具有第一侧面(1315a)和第二侧面(1315b)。所述电池单元限定用于将燃料递送到所述电池层(1314)的所述第一...
    2025-11-21
  • 具有磁性电极和/或额外激励的电化学系统及其相关方法
    具有磁性电极和/或额外激励的电化学系统及其相关方法_DHT能源公司_202480021002.0
    提供了一种用于增强一种或多种化学物质和/或效应的产生的电化学系统，该电化学系统包括：电化学电池以及用于提供一个或多个激励的一个或多个组件。还提供了其方法以及用于产生磁催化电极的方法。还提供了用于组装、修改或改装电化学系统以结合激励的施加的套...
    2025-11-21
  • 有机氢化物制造装置和有机氢化物制造方法
    有机氢化物制造装置和有机氢化物制造方法_引能仕株式会社_202480021090.4
    有机氢化物制造装置(2)具备：具有包含贱金属元素的高熵合金作为阳极催化剂(11)的阳极电极(10)、阴极电极(8)、和位于阳极电极(10)与阴极电极(8)之间的电解质膜(12)。阳极电极(10)将水或氢氧根离子氧化。阴极电极(8)以电化学的...
    2025-11-21
  • 用于碱性电解系统的给水制备方法以及给水制备系统
    用于碱性电解系统的给水制备方法以及给水制备系统_蒂森克虏伯新纪元股份有限及两合公司_202480022221.0
    一种水电解槽中的给水制备系统，其适用于在一个或多个加压电解槽堆(2)中使用碱性水生产氢气和氧气，并且包括产品气体调节系统，所述产品气体调节系统具有连接到给水容器(9)的安全阀吹出物料流管道(11)，和/或连接到给水容器(9)上的气体清洁容器...
    2025-11-21
  • 具有低泄漏电流的电解槽堆叠体
    具有低泄漏电流的电解槽堆叠体_约翰考克利尔氢气比利时公司_202480021759.X
    披露了一种电解槽堆叠体，该电解槽堆叠体包括：两个基板，在这两个基板之间夹持有包含电解池的元件堆叠体；以及至少一个中间板(30)，该至少一个中间板夹持在该元件堆叠体中。中间板(30)具有一定厚度，在该厚度内布置有至少一个电解质供给导管、用于排...
    2025-11-21
  • 用于加工多晶金刚石材料体的装置
    用于加工多晶金刚石材料体的装置_第六元素(英国)有限公司_202380095231.2
    披露了一种用于浸出多晶金刚石(PCD)切削元件的装置，所述装置包括浸出容器，所述浸出容器具有第一腔体和第二腔体，所述第一腔体从所述浸出容器的第一端延伸至所述第二腔体的第一端，所述第二腔体从第一开口端延伸至第二端并且被布置成接收一定体积的液体...
    2025-11-21
  • Sn-Zn系合金镀覆钢材、电池壳体和燃料箱
    Sn-Zn系合金镀覆钢材、电池壳体和燃料箱_日本制铁株式会社_202480016039.4
    本Sn‑Zn系合金镀覆钢材具有：钢材、在钢材的表面上形成的以Fe、Cr、Ni为主体的第一合金层、在第一合金层上形成的以Sn、Fe、Ni、Zn为主体的第二合金层、和在第二合金层上形成的以Sn、Zn为主体的Sn‑Zn系镀层，第一合金层在钢材的表...
    2025-11-21
  • 有机被覆钢板
    有机被覆钢板_日本制铁株式会社_202480021133.9
    本发明提供能够抑制氢脆开裂的高强度的钢板。本发明的有机被覆钢板(1)具有抗拉强度为980MPa以上的钢板(2)和配置于上述钢板的表面的至少一部分的有机被覆层(3)。本发明的有机被覆钢板(1)的特征在于，上述有机被覆层(3)包含以亚硝酸根计为...
    2025-11-21
  • 方向性电磁钢板以及绝缘覆盖膜形成方法
    方向性电磁钢板以及绝缘覆盖膜形成方法_日本制铁株式会社_202480024068.5
    本发明涉及一种方向性电磁钢板，其具有母材钢板、形成于所述母材钢板的表面的玻璃覆盖膜、以及形成于所述玻璃覆盖膜的表面的绝缘覆盖膜，所述母材钢板的板厚为0.15～0.35mm，所述绝缘覆盖膜包含磷酸金属盐、非晶质二氧化硅、以及钨、钒、钼和锆之中...
    2025-11-21
  • 利用整合工艺步骤的互连覆盖
    利用整合工艺步骤的互连覆盖_应用材料公司_202480025844.3
    一种用于形成互连结构的群集工具包括预清洁腔室；选择性化学气相沉积(CVD)腔室；等离子体增强CVD (PECVD)腔室；一或多个传送腔室，所述一或多个传送腔室耦接至所述预清洁腔室、所述选择性CVD腔室和所述PECVD腔室，并且被配置为在不破...
    2025-11-21
  • 基座
    基座_应用材料公司_202480024839.0
    本文描述的是基座、具有所述基座的处理腔室以及使用所述基座处理基板的方法。在一个示例中，提供了一种用于在处理期间支撑基板的基座。所述基座具有盘形主体，所述盘形主体包括围绕内部区域的边。所述内部区域凹陷以形成凹陷凹穴，所述凹陷凹穴配置为接收基板...
    2025-11-21
  • 薄膜沉积装置集群
    薄膜沉积装置集群_皮考逊公司_202480025996.3
    一种衬底处理系统(1900)，包括：接收模块(1910)，被配置为将衬底(130)装载到衬底处理系统(1900)并且从衬底处理系统(1900)卸载衬底(130)，以及加热模块(1930)，被配置为加热衬底(130)，以及至少一个处理模块(1...
    2025-11-21
  • 使用等离子体射流的半导体衬底的弯曲补偿
    使用等离子体射流的半导体衬底的弯曲补偿_朗姆研究公司_202480024894.X
    提供了使用等离子体射流的半导体衬底或晶圆的弯曲补偿的方法与装置。在某些实施方案中，该装置可用于衬底的背侧的表面改性，该衬底具有前侧，该前侧具有在其上面加工的电子设备特征。除了其他部件以外，该装置还可包含喷嘴，其被设置成将等离子体射流引导到该...
    2025-11-21
  • 原子层沉积设备和用于对衬底进行涂覆的方法
    原子层沉积设备和用于对衬底进行涂覆的方法_BENEQ有限公司_202480024865.3
    本发明涉及一种原子层沉积设备和方法，其中，该设备包括：反应室(10)；被布置成与顶壁(11)连接的电极组件(2)；被布置成与电极组件(2)相对的对电极(3)；形成在电极组件(2)与对电极(3)之间的反应区(15a)；前驱体供应开口(4)，前...
    2025-11-21
  • 真空涂层系统
    真空涂层系统_尼奥瓦克有限责任公司_202480025068.7
    本公开文本涉及一种用于涂覆带型基板(5)的真空涂层系统，所述真空涂层系统(10)包括：‑ 第一模块(20)，所述第一模块包括第一模块壳体(21)，所述第一模块壳体(21)包括第一基板入口(22)和第一基板出口(23)中的至少一个；第二模块(...
    2025-11-21
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