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最新专利技术
  • 一种绑头装置、贴装方法及固晶设备
    一种绑头装置、贴装方法及固晶设备_微见智能封装技术(深圳)有限公司_202511455435.X
    本发明涉及一种绑头装置、贴装方法及固晶设备。绑头装置用于拾取芯片并将其贴装至基板，包括力控检测模块、力控驱动模块及贴装模块；力控检测模块包括基准块、光电传感器及信号放大器，信号放大器与光电传感器信号连接；贴装模块包括主轴和主轴座，主轴穿设于...
    2025-12-03
  • 一种贴装组件和固晶设备
    一种贴装组件和固晶设备_微见智能封装技术(深圳)有限公司_202511455411.4
    本发明涉及固晶技术领域，特别涉及一种贴装组件和固晶设备。所述贴装组件包括第一固定座，第一固定座上间隔设置有第一固定板和第二固定板，第一固定板上安装有第一驱动件，第二固定板上安装有第二驱动件，第一驱动件上安装有负载机构，第二驱动件上安装有贴装...
    2025-12-03
  • 一种高出光率半导体引线框架加工装置及其产品
    一种高出光率半导体引线框架加工装置及其产品_安徽盛烨电子科技有限公司_202511452860.3
    本发明公开了一种高出光率半导体引线框架加工装置及其产品，涉及半导体引线框架技术领域，包括：主体单元，所述主体单元的底部依次设置有下压单元和承接单元。通过承接板和动板的配合以及卡口和凸起柱一的位置限制以及承接板和容纳腔的容纳，使冲压后的焊盘在...
    2025-12-03
  • 一种VCSEL芯片晶圆批量移载清洗设备及工艺
    一种VCSEL芯片晶圆批量移载清洗设备及工艺_华芯半导体科技有限公司_202511449836.4
    本发明公开了一种VCSEL芯片晶圆批量移载清洗设备及工艺，涉及晶圆清洗技术领域，包括外机体、背板、台板、循环清洗箱、驱动组件和数个夹持组件，所述背板和台板设置在外机体中，所述台板上开设有方槽，所述循环清洗箱位于台板下方，所述驱动组件滑动安装...
    2025-12-03
  • 供料装置及摆盘设备
    供料装置及摆盘设备_昆山倬跃蓝天电子科技有限公司_202511444508.5
    本发明公开了一种供料装置及摆盘设备，包括：第一安装架；第一载台，设置于第一安装架；安装盘，位于第一载台上方；第一驱动件；抵压结构，包括设置于安装盘的传动盘、第二驱动件和设置于安装盘的压板，第二驱动件适于驱动传动盘转动，压板响应于传动盘的转动...
    2025-12-03
  • 一种晶圆清洗用超声波清洗设备
    一种晶圆清洗用超声波清洗设备_常州思派智能科技有限公司_202511256136.3
    本发明属于超声波清洗技术领域，尤其为一种晶圆清洗用超声波清洗设备，包括工作台面，所述工作台面底面的边角通过支撑腿隔离于地面，工作台面顶面的中心垂直固定有升降套管，升降套管的中心孔活动嵌合有升降杆，升降杆的顶端固定安装有支架盘，支架盘的边侧等...
    2025-12-03
  • 多相界面粘附器及其制备方法与跨介质的目标转运系统
    多相界面粘附器及其制备方法与跨介质的目标转运系统_合肥工业大学_202511112185.X
    本发明属于半导体加工设备领域，具体涉及一种多相界面粘附器及其制备方法与跨介质的目标转运系统。多相界面粘附器包括粘附盘和注气装置；粘附盘底部为光滑平面且盘身中央设置一个贯穿顶面与底面的通孔；粘附盘的底面设置有沿中心向外逐层间隔分布的多条环形的...
    2025-12-03
  • 具有冷却系统的快速热处理系统
    具有冷却系统的快速热处理系统_玛特森技术公司_202511107658.7
    本公开提供了用于进行尖峰退火快速热处理的方法，包括：由一个或多个控制装置控制热源开始加热支撑在处理腔室中的工件支撑件上的工件；由一个或多个控制装置接收来自温度测量系统的指示工件的温度的数据；由一个或多个控制装置监测工件相对于温度设定点的温度...
    2025-12-03
  • 一种TO-46固晶机及其控制方法
    一种TO-46固晶机及其控制方法_佑光智能半导体科技(深圳)有限公司_202511098178.9
    本申请提供一种TO‑46固晶机及其控制方法，涉及固晶机的技术领域。一种TO‑46固晶机包括机台以及设置于所述机台上的晶片供料装置、晶片移动摆臂装置、点胶装置、料盘承载装置和料盘容纳装置；述料盘承载装置用于承载料盘，所述料盘容纳装置用于容纳料...
    2025-12-03
  • 加热盘的调平装置、方法、工艺腔室及存储介质
    加热盘的调平装置、方法、工艺腔室及存储介质_拓荆科技(上海)有限公司_202511093835.0
    本发明提供了加热盘的调平装置、方法、工艺腔室、存储介质。所述加热盘的调平装置包括发射探头、感光探头及控制器。所述发射探头向所述加热盘上承载的晶圆的预设中心点发射出倾斜的第一光线。所述感光探头获取所述第一光线经由所述晶圆反射出的第二光线。所述...
    2025-12-03
  • 装载端口装置、前端装载装置、晶圆加工设备及检测方法
    装载端口装置、前端装载装置、晶圆加工设备及检测方法_华海清科(北京)科技有限公司_202510932949.3
    本申请提供一种装载端口装置、前端装载装置、晶圆加工设备及检测方法。装载端口装置包括：主体；自主体水平凸出的装载台，装载台用于放置晶圆盒，晶圆盒构造成用于沿竖直方向间隔叠放晶圆；以及检测机构，其活动安装到主体，并且沿竖直方向可移动以依次检测晶...
    2025-12-03
  • 一种用于晶圆加工的刷洗机械以及使用方法
    一种用于晶圆加工的刷洗机械以及使用方法_广东鸿浩半导体设备有限公司_202510926833.9
    本发明公布了一种用于晶圆加工的刷洗机械以及使用方法，该刷洗机械包括晶圆本体、刷洗框、插座、驱动装置和喷淋装置，插座的左侧沿其长度方向均匀设有刷辊，刷辊上密布有刷毛，相邻两个刷辊之间开设有插槽，驱动装置包括驱动件和驱动电机，喷淋装置包括喷淋仓...
    2025-12-03
  • 一种半导体产品快速剥离胶带装置及胶带剥离方法
    一种半导体产品快速剥离胶带装置及胶带剥离方法_杭州先导热电科技有限公司_202510870108.4
    本发明公开了一种半导体产品快速剥离胶带装置及胶带剥离方法，旨在提供一种不仅能够有效提高半导体产品剥离胶带的作业效率，而且能够有效改善人工手动剥离胶带过程中存在的半导体产品背部黏胶与半导体产品结构形变等问题的一种半导体产品快速剥离胶带装置及胶...
    2025-12-03
  • 基板处理装置
    基板处理装置_细美事有限公司_202510604530.5
    本发明涉及用于处理基板的装置。该装置包括用于排出液体处理腔室的处理空间中的气体的排出单元。排出单元包括：排出管道，其连接到液体处理腔室并且具有从处理空间排出的气体通过其流动的排出管道；清洁溶液供应单元，其设置在排出管道中并将清洁溶液供应到流...
    2025-12-03
  • 用于处理基板的装置
    用于处理基板的装置_细美事有限公司_202510604015.7
    本发明公开了一种处理基板的基板处理装置和基板处理方法。一种用于处理基板的装置，该装置包括：壳体，该壳体具有在其中放置基板的处理空间；流体供应单元，该流体供应单元用于将干燥流体供应到处理空间；以及排出单元，该排出单元用于使排出流体从处理空间排...
    2025-12-03
  • 衬底处理设备和衬底处理方法
    衬底处理设备和衬底处理方法_细美事有限公司_202510603412.2
    提供了一种用于处理衬底的设备。所述设备包括：第一主体；第二主体，所述第二主体与所述第一主体组合以限定处理空间；提升单元，所述提升单元用于在打开位置和关闭位置之间移动所述第二主体；以及第一衬底支撑件和第二衬底支撑件，所述第一衬底支撑件安装在所...
    2025-12-03
  • 衬底处理设备和衬底处理方法
    衬底处理设备和衬底处理方法_细美事有限公司_202510603396.7
    公开了一种处理衬底的衬底处理设备和衬底处理方法。所述衬底处理设备包括：壳体，其用于提供处理空间以处理衬底；支撑单元，其位于所述处理空间中并用于支撑所述衬底；喷嘴，其用于向支撑在所述支撑单元上的所述衬底供应处理溶液；以及加热单元，其用于加热支...
    2025-12-03
  • 用于反应空间压力测量的方法和装置
    用于反应空间压力测量的方法和装置_ASMIP私人控股有限公司_202510579019.4
    本技术的各种实施例可以提供一种系统，该系统具有反应器，该反应器具有反应空间和配置成测量反应空间内部的压力的压力监测系统。压力监测系统可以包括两个或更多个压力传感器，其中每个压力传感器可以与两个阀隔离，一个阀布置在压力传感器的上游，另一个阀布...
    2025-12-03
  • 液处理装置、液处理方法和存储介质
    液处理装置、液处理方法和存储介质_东京毅力科创株式会社_202510562581.6
    本发明提供在对基片进行液处理时，防止因处理液的温度变化而产生不良情况的液处理装置、液处理方法和存储介质。液处理装置包括：向基片吐出从处理液供给源供给的处理液的喷嘴；将处理液供给源与喷嘴连接的第一流路；第二流路，一端与第一流路中的第一连接部连...
    2025-12-03
  • 基片处理装置和在线圈的周围设置铁氧体屏蔽部的方法
    基片处理装置和在线圈的周围设置铁氧体屏蔽部的方法_东京毅力科创株式会社_202510561855.X
    本发明提供一种基片处理装置，在不损害非接触供电的效率的情况下有效地防止磁通泄漏。基片处理装置包括：保持基片的旋转台；旋转驱动部，使旋转台绕旋转轴线旋转；至少1个电加热器，设置于旋转台；至少1个受电线圈，其设置于旋转台，与电加热器电连接；至少...
    2025-12-03
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