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  • 本发明公开了一种NCVM不导电真空镀膜工艺执行监控方法及系统, 涉及真空镀膜相关领域, 包括:对基材表面进行检测单元网格动态划分;通过红外热成像仪对自适应网格基材表面进行实时扫描, 得到基材动态温度分布矩阵;根据镀膜厚度与温度梯度的映射关系...
  • 本发明提供一种用于磁控溅射镀膜机的承载装置, 属于镀膜机技术领域, 包括箱体, 所述箱体的内底部设置有旋转电机, 所述旋转电机的上方设置有快换机构, 快换机构包括转轴、承载主轴和连接轴, 所述承载主轴的下端通过环形套块和插接块一插接在转轴上...
  • 本发明公开了一种基于镓离子注入铁及铁合金的改性涂层的制备方法, 包括:将铁基体预处理后固定于离子注入机的样品盘上, 将Fe‑Ga合金靶材安装在离子注入机中, 真空环境下设置离子注入参数, 进行离子注入后在所述铁基体表面形成所述改性涂层;其中...
  • 本发明公开了一种加强真空舱密封的磁控溅射镀膜机, 属于镀膜机技术领域, 包括真空箱, 真空箱内部一端固定安装有套块, 套块内部滑动安装有移动杆, 移动杆下端一侧开设有滑槽, 滑槽内部滑动安装有检测组件, 检测组件用于对靶材表面的粗糙度进行检...
  • 本申请涉及一种新型卷绕镀膜磁控阴极系统装置, 属于真空镀膜设备的领域, 其包括真空腔室、镀膜辊系、支撑架体、滑移架、阴极系统和锁定件, 镀膜辊系设置在真空腔室内且用于将基材卷料输送至阴极系统镀膜后再进行收卷, 支撑架体设置在真空腔室外部, ...
  • 本发明属于旋转氧化铌靶材技术领域, 公开一种旋转氧化铌靶材, 包括氧化铌主体层和内衬管, 氧化铌主体层包括氧化铌工作表层和金属过渡底层, 氧化铌主体层在氧化铌工作表层和金属过渡底层之间设有功能梯度中间层;该功能梯度中间层由Nb2O5和TiO...
  • 本发明公开了一种管内孔等离子体镀膜装置与工艺, 包括镀膜桶以及安装在镀膜桶上端的桶盖, 所述桶盖上安装有用于装载管件的旋转夹具, 所述镀膜桶内设置有用于改变管件相位位置的辅助真空室, 所述镀膜桶的下端连通有第一功能室、第二功能室和功能真空室...
  • 本发明属于铜基金属导热材料技术领域, 具体涉及一种铜基金刚石高导热系数复合材料及其制备方法。本发明提供的制备方法, 包括如下步骤:对金刚石颗粒进行超声清洗, 在金刚石颗粒表面沉积金属层;将金刚石颗粒与硅烷偶联剂混合, 然后加入铜粉和纳米碳化...
  • 本发明公开一种大尺寸椭球镜镀膜方法, 涉及光刻机零件制造技术领域, 通过设计铝制模拟镜并标记X/Y轴, 间隔张贴硅片作为测量点;采用直线式磁控溅射设备, 在优化真空及氩气压下, 依次溅射Mo/Si层形成[Mo/Si]10周期膜;通过XRR测...
  • 本发明公开了一种长寿命耐腐蚀Al/MAX复合涂层及其制备方法与应用, 属于防护涂层技术领域。该长寿命耐腐蚀Al/MAX复合涂层包括底层和面层;其中, 所述底层由至少一个底层单元组成, 每个底层单元均由Al层和MAX相层组成;相邻的2个底层单...
  • 本发明提供高硬度高耐温的AlCrN压电涂层材料及其制备和应用, 涉及压电薄膜材料技术领域。AlCrN压电涂层材料的制备方法包括:采用Al和Cr组成的合金靶材, 其中Al的含量高于70%, Cr的含量小于30%, 通过磁控溅射在基体表面形成A...
  • 本发明提供了一种优化YIG/Au薄膜异质界面结合强度的方法, 所述方法包括, 清洗YIG薄膜基底;对YIG薄膜基底表面做活化处理;磁控溅射打底层;磁控溅射过渡层;磁控溅射功能层。本发明采用离子源清洗并活化YIG薄膜基底表面, 再通过Cr打底...
  • 本发明公开了一种基于磁控溅射工艺的探测器支撑结构制备方法, 涉及微结构气体探测器制备工艺技术领域, 该方法包括:S1、确定探测器支撑柱靶材, 根据磁控溅射系统的设定功率和参数计算设定沉积厚度所需要溅射时间;S2、在基板上表面贴合掩膜板, 确...
  • 本发明涉及一种溅射镀膜装置, 包括安装箱, 安装箱具有溅射腔及真空腔;溅射腔内设置有溅射阴极, 溅射阴极上设有进气板, 进气板具有进气管路, 进气管路的多个出气总口正对溅射阴极上的靶材均匀设置;真空腔设置有抽气装置;进气管路包括沿气路方向设...
  • 本发明具体涉及一种镀膜设备及线性渐变滤光片膜厚均匀性修正方法, 解决现有使用电子束蒸发的沉积方式制备线性渐变滤光片难以对其镀膜的膜厚均匀性进行修正的问题, 本发明在工件盘下方设置公转修正板, 使其随着工件盘一同绕着旋转盘的中心转动, 而工件...
  • 本发明涉及真空处理技术领域, 具体公开了一种真空视窗结构及真空处理设备。该真空视窗结构包括真空腔室、视窗组件、防护通道、低温捕集组件和供气组件;真空腔室开设有视察窗口;视窗组件设于真空腔室;防护通道设于真空腔室;低温捕集组件的抽气口连通于防...
  • 本发明公开了一种Mo‑Nb微合金化不锈钢集流体及其制备方法, 涉及集流体技术领域。所述Mo‑Nb微合金化不锈钢集流体的制备方法包括以下步骤:S1:将钼纯金属和铌纯金属分别与铬纯金属熔融制备得到钼‑铬溅射靶材和铌‑铬溅射靶材;S2:将不锈钢板...
  • 本发明涉及压缩机缸体表面镀层技术领域, 公开了一种高压活塞式氢气压缩机缸体表面PVD的制备工艺, 包括以下步骤, 步骤1、基体激光微织构与等离子活化:采用脉冲光纤激光器在缸套和活塞表面加工微凹坑阵列;并通过Ar+/H2混合等离子体刻蚀去除氧...
  • 本发明公开了一种真空镀膜系统及其镀膜方法, 包括如下步骤:S1:将靶材进行烘干, 自然冷却后放置于坩埚内, 接着将下壳体密封;S2:将单晶锗片和一片光学玻璃片作为基片放置于放置筒底端的凸缘上, 将上壳体密封;S3:对下壳体和上壳体进行抽真空...
  • 本发明提出了一种低缺陷密度薄膜材料制备技术, 涉及薄膜沉积技术领域。本发明的薄膜沉积装置包括金属外壳、真空腔体、电极板和紫外线灯, 其中, 电极板设置在沉积区中沿沉积粒子运动方向的侧边, 紫外线灯发射紫外线, 照射至沉积区内, 对沉积区内的...
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