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  • 本发明涉及截止阀生产技术领域,公开了一种截止阀生产用抛光用打磨装置,包括机床,所述机床安装有三轴驱动机,所述三轴驱动机固定连接有支架,所述支架安装有电机一,所述电机一的输出端固定连接有传动轴,所述支架固定连接有轴承,所述轴承套在传动轴的外壁...
  • 本发明涉及机电一体化设备领域,具体是一种机电一体化抛光机,包括主体框架,所述主体框架内部开设有储液腔、排液斗和安装凹槽,还包括:抛光组件,抛光组件置于排液斗和安装凹槽内部,且包括抛光盘,抛光盘摩擦系数由内向外依次增加;支撑架,支撑架顶部开设...
  • 本发明公开了一种用于钨钢吸嘴加工的表面抛光装置及方法,涉及吸嘴抛光的技术领域。本发明包括设置于抛光台上的待抛光的吸嘴件,还包括:定位单元,设置于抛光台上,包括定位组件与抵压组件;抛光单元,设置于抛光台上,包括驱动组件、调位组件与抛光组件;清...
  • 本发明公开了一种多功能集成式龙门抛光加工中心,涉及抛光设备技术领域,其技术要点包括龙门架,龙门架的顶部对称安装有轨道,轨道上滑动连接有滑块,滑块的端部设置有除杂结构,除杂结构包括通过螺栓螺纹连接在滑块左右两端的安装板,安装板的内侧固定安装有...
  • 本发明涉及抛光设备技术领域,具体为一种铝合金零部件球面抛光设备及方法。包括座架,还包括两个夹框,均滑动连接在座架上,且两者的间距可调,夹框上转动连接有旋框,旋框上滑动连接有两个间距可调的夹臂并转动连接有副轴,副轴上固定安装有从动锥齿轮,夹框...
  • 本发明公开了一种石英环形零件的自动抛光装置以及方法,包括机器人座体,所述机器人座体上设置有机械臂,所述机械臂的终端设置有抛光端,所述机器人座体的一侧设置有立式转机;本发明涉及抛光装置技术领域,本发明的有益效果是,环形产品立在V式驱动部两侧的...
  • 本发明涉及零部件表面光饰技术领域,具体地说,涉及一种摆臂式光饰机。其包括机体、变速箱体和磨料槽,磨料槽安装在机体上,在机体上分别安装有公转驱动机构以及自转驱动机构,所述机体下侧与自转驱动机构位置对应的位置安装有公转传动机构,公转传动机构的内...
  • 本发明涉及磁性材料制备技术领域,更具体的说是一种磁性材料及其制造工艺,该方法包括以下步骤:步骤一、对原料进行准备并对其进行沉重处理,让多种原料按比例混合;步骤二、将沉重完成的原料放置到煅粉装置内,完成原料粉末的制备和混合处理;步骤三、将磁粉...
  • 本发明公开一种丸剂抛光方法,涉及丸剂制备领域,先在干燥丸胚中加入辅助滚动的制丸用粘合剂,再将所述丸胚与打光剂混合,装入布袋中,然后将所述布袋置于包衣机的锅体内,启动所述包衣机,通过所述锅体的运动带动所述布袋及其中的所述丸胚滚动,使所述丸胚实...
  • 本发明公开了一种香水瓶盖的溜光机,属于溜光机技术领域。该溜光机包括机座,机座上设置有研磨槽,研磨槽内部转动设置有挂具组件。挂具组件包括两组相对设置的滚筒端板,滚筒端板的外侧设置有驱动连接轴,两组滚筒端板之间连接有中心轴。机座内部处于靠近研磨...
  • 本发明公开了一种用于火炮身管线膛高精度挤压精磨设备及加工方法,精磨设备包括有固定框架、固定总成、移动总成和双动力源液压驱动机构,其中固定总成和移动总成相对同轴固定在固定框架内,固定总成和移动总成相对应的端头之间设置有开放式装卸空间,待加工的...
  • 本发明涉及研磨光饰设备技术领域,公开了一种全自动涡流式光饰机,包括设备台、固定安装在设备台内部的第二伸缩气缸和多个第一伸缩气缸,所述第二伸缩气缸的输出端固定安装有伺服电机,还包括固定连接在设备台顶部的储料筒,以及设置在储料筒内部的研磨机构;...
  • 本发明涉及机械加工技术领域,公开了一种定心夹持装置及其机加工设备,该定心夹持装置包括基座,所述基座上转动安装有驱动丝杆,所述驱动丝杆包括第一螺纹段和第二螺纹段,所述第一螺纹段和所述第二螺纹段沿所述驱动丝杆的轴向依次连接,且两者的螺纹旋向相反...
  • 本发明涉及半导体制造技术领域,公开了一种基于压力调控的晶圆抛光处理系统,包括:分区压力调控模块、微扰动激励注入模块、界面流变状态解析模块及动态迟滞逆变控制模块,该系统利用微扰动信号诱发接触界面微观力学响应,实时解算动态粘弹性模量,并据此构建...
  • 本发明适用于精密机械制造与安装技术领域,提供了一种高精度研磨设备的现场安装校准装置及调试方法,所述装置包括多自由度动态调平机构、球面共点干涉检测模块和中央处理与闭环控制单元。多自由度动态调平机构采用压电陶瓷促动器阵列和球面‑阻尼复合关节,实...
  • 本发明公开了一种去除单晶硅片表面颗粒的抛光装置,涉及单晶硅加工技术领域,包括加工台、抛光安装盖板、硅片同步抛光组件及驱动机构。抛光安装盖板通过固定支架设于加工台顶部,底部装有多组研磨片,每组研磨片下方对应一组硅片同步抛光组件。驱动电机带动驱...
  • 本发明公开了一种用于电化学机械抛光的承载头和抛光装置,属于半导体制造技术领域。该用于电化学机械抛光的承载头包括承载头主体,其下方设置有弹性膜和保持环,所述保持环设置于弹性膜的外周侧,保持环的下方配置有导电体;所述弹性膜为导电的气膜,其和导电...
  • 本发明涉及一种高亲水性的CMP硬质抛光垫、制备方法及其应用,所述抛光垫包括抛光层、贴合层以及缓冲层,所述抛光层由A组分和B组分混合浇注而成,其中A组分包括多异氰酸酯、多元醇、发泡剂以及亲水性改性剂,B组分为胺类固化剂。本发明的抛光层中加入了...
  • 本发明公开一种用于铣磨一体机的快速切换铣磨主轴头,涉及铣磨设备技术领域,包括安装座,安装座内设置有安装腔,驱动电机的输出端伸入安装腔内且滑动连接有传动主轴,安装腔内转动连接有分别与铣刀以及磨刀固定连接的第一输出轴以及第二输出轴,安装腔内设置...
  • 本发明公开了一种电机壳体加工工装,包括加工底板,加工底板上设有滑动座,滑动座内设有加工装置,加工装置包括滑动单元和定位单元,滑动单元安装于滑动座内,定位单元与滑动单元连接,滑动单元包括一号定位滑动块和二号定位滑动块,一号定位滑动块和二号定位...
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