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最新专利技术
  • 复合铜膜、制备方法及电子设备
    复合铜膜、制备方法及电子设备_浙江日久新材料科技有限公司_202511542736.6
    本发明公开了一种复合铜膜、制备方法及电子设备，其中复合铜膜，包括基材，以及至少形成于基材一侧的复合铜层，所述复合铜层顺次包括，以远离基层的方向观察：加硬层；打底层，厚度20‑50nm，通过多元合金反应溅射形成；功能层，为溅射形成的铜功能层，...
    2026-03-19
  • 一种多腔室旋转式气相沉积炉
    一种多腔室旋转式气相沉积炉_浙江精工领航科技有限公司_202511406632.2
    本发明公开了一种多腔室旋转式气相沉积炉，其包括固定基座及环形阵列布置的多个可转动的反应炉，每个反应炉内置可转动的零件台，反应炉内设有加热元件以及扰流片，通过驱动装置可驱动反应炉以及零件台同时且相反转动，供气管路、真空管路分别与每组反应炉管路...
    2026-03-19
  • 一种蒸镀设备的快速维护系统
    一种蒸镀设备的快速维护系统_北京北方华创真空技术有限公司_202511301225.5
    本申请涉及镀膜的技术领域, 公开了一种蒸镀设备的快速维护系统，其包括蒸发区组件，包括安装座、电极柱以及水冷容器；所述电极柱与所述水冷容器均安装于所述安装座上，所述水冷容器围合所述电极柱，且所述水冷容器沿竖向开设有对所述电极柱进行避让的让位孔...
    2026-03-19
  • 真空光学镀膜一体机
    真空光学镀膜一体机_成都四盛科技有限公司_202511486727.X
    本发明涉及光学镀膜技术领域，具体为一种真空光学镀膜一体机，包括真空镀膜室，所述真空镀膜室上设置有升降连接机构和驱动机构，所述驱动机构与升降连接机构相连，所述升降连接机构上均匀的设置有若干基底承载组件，所述真空镀膜室内固定设置有固定摩擦架，所...
    2026-03-19
  • 一种双开的点源蒸发镀膜设备
    一种双开的点源蒸发镀膜设备_北京北方华创真空技术有限公司_202511315484.3
    本申请公开了一种双开的点源蒸发镀膜设备，属于镀膜设备的技术领域，其包括真空腔室、真空泵组、卷绕车系统及工艺车系统，所述真空腔室位于所述卷绕车系统和所述工艺车系统中间，所述工艺车系统包括工艺车架，所述工艺车架的底部安装有车轮，所述工艺车架上安...
    2026-03-19
  • 一种半导体表面处理的镀层装置
    一种半导体表面处理的镀层装置_苏州法豪精密机械有限公司_202511332090.9
    本发明提供一种半导体表面处理的镀层装置，涉及半导体镀层技术领域，包括所述密封箱门滑动连接在镀层箱体的前端；所述导向滑轨设有两个，两个导向滑轨均固定连接在镀层箱体的前端面；所述导向滑槽设有两个，两个导向滑槽均开设在密封箱门的后端面；所述观察窗...
    2026-03-19
  • 一种含氧化物层和氮化物层的复合涂层切削刀具
    一种含氧化物层和氮化物层的复合涂层切削刀具_株洲钻石切削刀具股份有限公司_202511338377.2
    本发明公开了一种含氧化物层和氮化物层的复合涂层切削刀具，包括刀具基体和设于刀具基体上的复合涂层，所述复合涂层包括自刀具基体表面向外依次设置的TiAlN底层、TiAlSiN层、第一AlCrON过渡层、AlCrO层、第二AlCrON过渡层、Ti...
    2026-03-19
  • 一种具有表面纳米化的高纯铝靶材及制备方法
    一种具有表面纳米化的高纯铝靶材及制备方法_宝山钢铁股份有限公司_202410917113.1
    本发明公开了一种具有表面纳米化的高纯铝靶材及制备方法，包括以下步骤：S1，将高纯铝铸锭进行室温冷轧处理获得靶材毛坯；S2，将冷轧后的靶材毛坯进行喷丸处理；S3，将喷丸处理后的靶材毛坯进行退火处理获得表面晶粒尺寸为300～800nm的高纯铝靶...
    2026-03-19
  • 一种立式物理气相沉积设备及其在铜电镀异质结太阳电池中的应用
    一种立式物理气相沉积设备及其在铜电镀异质结太阳电池中的应用_江西电投新能源科技有限公司_202511489291.X
    本发明公开了一种立式物理气相沉积设备及其在铜电镀异质结太阳电池中的应用，涉及异质结太阳电池领域。立式物理气相沉积设备包括腔体以及设置在腔体内的支撑系统、阳极、阳极板、靶材、反向轴承、辐射挡板、布气管、传动滚轮和载板，靶材沿垂直方向设置在腔体...
    2026-03-19
  • 铝钕合金靶材及其制备方法
    铝钕合金靶材及其制备方法_常州苏晶电子材料有限公司_202511832285.X
    本发明涉及靶材制造技术领域的一种铝钕合金靶材及其制备方法，包括以下步骤：添加高纯铝和原子百分比为0.15‑2%的金属钕，以及30‑100ppm硅为原料，经熔炼法制备AlNd合金锭；在350‑450℃均匀化退火，消除偏析，并切头去尾，铣掉表皮...
    2026-03-19
  • 多层膜制备装置及其制备方法
    多层膜制备装置及其制备方法_张江国家实验室_202410941546.0
    本公开提供一种多层膜制备装置及其制备方法，利用矩形波的脉冲直流磁控溅射来避免打弧现象，减少多层膜缺陷并且降低粗糙度，从而得到高性能的多层膜。该制备装置包括：工作腔室，在该工作腔室内设置有基底和多个靶材；真空泵组，该真空泵组对所述工作腔室进行...
    2026-03-19
  • 一种基于周期性交替供氧三路径协同调控的WO3-γ薄膜及其制备方法和应用
    一种基于周期性交替供氧三路径协同调控的WO3-γ薄膜及其制备方法和应用_新余学院_202511151337.7
    本发明提供了一种基于周期性交替供氧三路径协同调控的WO3‑γ3‑γ薄膜及其制备方法和应用。通过在磁控溅射过程中实施氧气流量的周期性交替调节，实现了对WO33薄膜中氧空位、多孔形貌与非晶/纳米晶共存结构的三路径协同调控，显著提升了薄膜在水系电...
    2026-03-19
  • 一种球面金属基纳米叠层导电耐磨涂层及其制备方法与应用
    一种球面金属基纳米叠层导电耐磨涂层及其制备方法与应用_中国科学院宁波材料技术与工程研究所_202511286422.4
    本发明属于耐磨涂层技术领域，涉及一种球面金属基纳米叠层导电耐磨涂层及其制备方法与应用。本发明公开了一种球面金属基纳米叠层导电耐磨涂层的制备方法，包括：在40～70℃和1～5Mpa的惰性气体环境中，先后通过脉冲偏压刻蚀与高功率脉冲磁控溅射处理...
    2026-03-19
  • 一种具有近红外表面等离子共振特性的铋/硅复合纳米结构的制备方法
    一种具有近红外表面等离子共振特性的铋/硅复合纳米结构的制备方法_苏州光知赋科技有限公司_202511513509.0
    本发明属于纳米材料技术领域，且公开了一种具有近红外表面等离子共振特性的铋/硅复合纳米结构的制备方法，包括以下步骤；S1：准备待沉积衬底：选择衬底材料后并裁剪成1.5cm×1.5cm的方块；S2：清洗待沉积衬底：洁净沉积基底，保障结构附着与均...
    2026-03-19
  • 一种应用于镀锌板冲压模具PVD涂层工艺方法
    一种应用于镀锌板冲压模具PVD涂层工艺方法_东莞市霖晨纳米科技有限公司_202511550580.6
    本发明涉及涂层技术领域，具体涉及一种应用于镀锌板冲压模具PVD涂层工艺方法，方法包括：对模具进行预处理，将模具表面经湿法清洗后置于真空沉积腔体中抽真空，并在惰性气体环境下加热至预定温度；在模具表面进行等离子体预处理，选用铬靶材的高功率脉冲磁...
    2026-03-19
  • 一种基于磁控溅射导热芳纶纸的制备方法
    一种基于磁控溅射导热芳纶纸的制备方法_华南理工大学_202511629282.6
    本发明公开了一种基于磁控溅射导热芳纶纸的制备方法，具体包括以下步骤：前期对芳纶纸预处理以及靶材预处理，将已预处理的靶材安装在磁控溅射设备溅射室，将已预处理的芳纶纸用铁丝固定在磁控溅射的基片台上，正常启动磁控溅射仪器，对腔体抽真空，然后向腔体...
    2026-03-19
  • 一种塑料表面复合镀层结构的制备方法及其应用
    一种塑料表面复合镀层结构的制备方法及其应用_厦门建霖健康家居股份有限公司_202511633062.0
    本发明属于塑料表面处理技术领域，具体涉及一种塑料表面复合镀层结构的制备方法及其应用。所述制备方法如下：S1.将塑料基材进行等离子体清洗处理；S2.(1)通过第一磁控溅射处理在塑料基材表面形成底层过渡层Ⅰ；或，(2)通过涂覆有机硅烷浆料，固化...
    2026-03-19
  • 一种用于PVD涂层设备的智能工艺控制系统及方法
    一种用于PVD涂层设备的智能工艺控制系统及方法_常州夸克涂层科技有限公司_202511312596.3
    本发明公开了一种用于PVD涂层设备的智能工艺控制系统及方法，涉及物理气相沉积技术领域，包括人机交互模块、工艺数据库、数据处理模块、数据采集模块，所述人机交互模块用于用户通过设备显示端输入实际工件信息，以便核对实际工件信息，随后获取反馈结果，...
    2026-03-19
  • 一种带收卷压辊装置的跟踪辊机构
    一种带收卷压辊装置的跟踪辊机构_北京北方华创真空技术有限公司_202511301224.0
    本申请涉及真空卷绕镀膜设备技术领域，尤其涉及一种带收卷压辊装置的跟踪辊机构，包括：机架，所述机架上转动连接有收卷辊；摆架总成，所述摆架总成与所述机架转动连接，且所述摆架总成上安装有过辊组件；压辊摆臂，所述压辊摆臂转动连接于所述摆架总成上，且...
    2026-03-19
  • 团簇束流设备
    团簇束流设备_深圳扩维原子科技有限公司_202511756445.7
    本发明公开了一种团簇束流设备，涉及团簇束流技术领域，包括工作平台及依次连接的团簇产生、束流调控、束流筛选、沉积机构。工作平台设滑轨与滑动结构，便于各机构灵活定位拆装。团簇产生机构含角度可调冷凝腔、可调节喷嘴及离子漏斗，实现团簇精准生成；束流...
    2026-03-19
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