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最新专利技术
  • 光刻效应项的贡献度确定方法和计算机程序产品
    光刻效应项的贡献度确定方法和计算机程序产品_深圳晶源信息技术有限公司_202511648055.8
    本申请公开了一种光刻效应项的贡献度确定方法和计算机程序产品，涉及半导体集成电路技术领域。该方法包括：获取测试图形、测试图形的多个预设量测位置、以及每个预设量测位置的量测数据；采用已校正光刻仿真模型对测试图形进行光刻仿真，生成测试图形的空间像...
    2026-04-21
  • 一种光刻模型建模方法及计算机程序产品
    一种光刻模型建模方法及计算机程序产品_深圳晶源信息技术有限公司_202511687484.6
    本申请公开了一种光刻模型建模方法及计算机程序产品，涉及半导体技术领域。该光刻模型建模方法包括：通过将光学参数组和网格参数组的模型参数搜索、修正参数搜索以及模型标定等环节整合为可自动化执行的标准化建模流程，无需人工重复进行参数设置，降低了人工...
    2026-04-21
  • 掩模版布局方法
    掩模版布局方法_上海华力集成电路制造有限公司_202511714263.3
    本发明公开了一种掩模版布局方法，提供至少三层包含对准标识的光掩模版，光掩模版版图包括芯片区和切割道区，对准标识放置在切割道区，对准标识应包含透光和不透光部分，第1层掩模版的对准标识形成在第1层掩模版的位置一，第2层掩模版的对准标识形成在第2...
    2026-04-21
  • 一种光学邻近校正方法及装置
    一种光学邻近校正方法及装置_华芯程(杭州)科技有限公司_202511769302.X
    本发明涉及集成电路制造领域，特别是涉及一种光学邻近校正方法及装置，通过接收目标晶片图案；依据预设的网格尺寸根据所述目标晶片图案确定目标晶片网格图像；将所述目标晶片图案作为当前掩膜图案；将所述当前掩膜图案，输入预训练的三维光学邻近校正模型，并...
    2026-04-21
  • 投影视场遮挡装置及其遮挡方法
    投影视场遮挡装置及其遮挡方法_季华实验室_202511785598.4
    本发明涉及曝光机技术领域，尤其涉及一种投影视场遮挡装置及其遮挡方法，包括机壳、主遮光板、旋转机构、副遮光板和平移机构，机壳上设有投影视场区域，主遮光板呈扇形设置，旋转机构包括旋转环、第一线圈、第一磁铁和滚珠座，平移机构包括导轨、滑块、第二线...
    2026-04-21
  • 一种光束指向测量系统的装调校准装置及方法
    一种光束指向测量系统的装调校准装置及方法_新毅东(北京)科技有限公司_202511794632.4
    本申请提供一种光束指向测量系统的装调校准装置及方法，涉及光刻机技术领域，包括平台和光源，以及沿光路传播方向依次设置的第一光阑组、反射镜、光束指向测量系统和第二光阑组，光源包括可在光路上切换出光的第一光源和第二光源，反射镜和光束指向测量系统分...
    2026-04-21
  • 一种光刻收缩缺陷校验方法及装置
    一种光刻收缩缺陷校验方法及装置_华芯程(杭州)科技有限公司_202511804300.X
    本发明涉及半导体制造领域，特别是涉及一种光刻收缩缺陷校验方法及装置，通过接收目标曲线图形及所述目标曲线图形经过OPC处理得到的待查模拟曲线图形；确定所述目标曲线图形上的采样点，并获取各个所述采样点沿对应的切线的法线方向到所述待查模拟曲线图形...
    2026-04-21
  • 一种增溶剂及其制备方法及含有其的显影液及显影液的应用
    一种增溶剂及其制备方法及含有其的显影液及显影液的应用_乐凯华光印刷科技有限公司_202511490168.X
    本发明提供一种增溶剂及其制备方法及含有其的显影液及显影液的应用，本发明中的增溶剂对减少显影沉渣和结晶，增强涂层保护和增大显影容量有明显效果，本发明的增溶剂配置的显影液在保证版材显影后网点还原较好的同时，其涂层密度损失和显影沉渣量明显减少，显...
    2026-04-21
  • 一种光刻胶的形貌加工方法
    一种光刻胶的形貌加工方法_苏州工业园区纳米产业技术研究院有限公司_202410802269.5
    本发明提供了一种光刻胶的形貌加工方法，涉及金属刻蚀技术领域。光刻胶涂覆在晶圆的顶部，用于将掩模版上的精细图案转移到晶圆上，包括如下步骤：在晶圆的顶部涂覆光刻胶，光刻胶的厚度为第一预设厚度；对光刻胶进行前烘、曝光、显影，以得到具有精细图案的光...
    2026-04-21
  • 一种方形基板涂胶后对边缘进行高精度光阻去除的装置
    一种方形基板涂胶后对边缘进行高精度光阻去除的装置_沈阳芯源微电子设备股份有限公司_202511615288.8
    本发明属于半导体设备技术领域，具体地说是一种方形基板涂胶后对边缘进行高精度光阻去除的装置，包括工作台、方形基板承接架组件、承载台、承载台旋转升降驱动结构、侧边喷嘴平移驱动结构、喷嘴组件。本发明通过方形基板承接架组件、承载台、承载台旋转升降驱...
    2026-04-21
  • 一种半导体激光器晶圆双面对准方法
    一种半导体激光器晶圆双面对准方法_山东华光光电子股份有限公司_202511416030.5
    本发明涉及一种半导体激光器晶圆双面对准方法，包括：在晶圆正面制作对位标记；将晶圆正面键合到衬底正面，并对晶圆背面进行磨片与抛光；制作第一掩膜板的对位标记；在晶圆背面涂光刻胶，并进行烘烤，完成烘烤后将衬底背面朝上放置到曝光台上，并通过第一掩膜...
    2026-04-21
  • 图像形成装置、方法、控制器和计算机可读存储介质
    图像形成装置、方法、控制器和计算机可读存储介质_珠海奔图电子有限公司_202511771704.3
    本申请实施例提供了一种图像形成装置、方法、控制器和计算机可读存储介质。图像形成装置具备纸张排出路径；图像形成装置包括：盖体，具有第一位置和第二位置，盖体处于第一位置时为开启状态，盖体处于第二位置时为关闭状态，当盖体处于开启状态时暴露部分纸张...
    2026-04-21
  • 打印头及打印机
    打印头及打印机_华为技术有限公司_202410860628.2
    本申请实施例提供一种打印头及打印机，涉及打印技术领域。该打印头包括光源组件、镜片和驱动装置。光源组件上固定设置有连接结构，镜片与连接结构转动连接，光源组件用于产生照射在镜片上的光束，镜片用于透射光束。驱动装置与光源组件和镜片相连，驱动装置用...
    2026-04-21
  • 图像形成装置
    图像形成装置_佳能株式会社_202510847099.7
    本公开涉及一种图像形成装置，其包括：装置本体，所述装置本体包括感光鼓、显影容器和显影辊；以及调色剂盒，所述调色剂盒包括设置有排出口的调色剂储存室、过滤器、以及设置有入口的空气室。装置本体包括泵、第一连接部分和第二连接部分，所述第一连接部分包...
    2026-04-21
  • 成像设备
    成像设备_佳能株式会社_202510847125.6
    一种成像设备，包括设备主体和调色剂盒，设备主体包括感光鼓、显影容器和显影辊。调色剂盒包括：设置有排出端口的调色剂储存室；过滤器；和设置有入口端口的空气室。设备主体包括：限制构件，限制构件被配置为在限制位置与允许位置之间在交叉方向上可移动；与...
    2026-04-21
  • 成像设备
    成像设备_佳能株式会社_202510847151.9
    本公开涉及一种成像设备。可拆卸地附接于预定安装位置处的显影剂容器包括：显影剂容置室、容许空气通过但抑制显影剂通过的过滤器、以及通过该过滤器与显影剂容置室分隔开的空气室，并且可以在第一状态与第二状态之间进行切换，第一状态是马达的驱动力被传递至...
    2026-04-21
  • 图像形成装置及图像形成方法
    图像形成装置及图像形成方法_富士胶片商业创新有限公司_202510091044.8
    一种图像形成装置及图像形成方法，图像形成装置具有：像保持体；带电构件，使像保持体的表面带电；静电潜像形成构件，形成静电潜像；静电潜像显影构件，具有包含色调剂粒子的静电潜像显影用色调剂，色调剂粒子含有金属颜料，色调剂粒子的截面中的长轴直径与短...
    2026-04-21
  • 具有前置式碳粉回收功能的打印设备
    具有前置式碳粉回收功能的打印设备_虹光精密工业股份有限公司_202511801735.9
    一种具有前置式碳粉回收功能的打印设备包含：感光鼓；显影滚轮，对感光鼓执行显影动作；打印头，对感光鼓执行曝光动作；以及清洁器，对感光鼓执行清洁动作。感光鼓的感光部位在转动通过打印头之后，先通过清洁器使感光鼓上的旧碳粉被清除或松动，然后通过显影...
    2026-04-21
  • 一种超分辨率相位重建方法及装置
    一种超分辨率相位重建方法及装置_西安工业大学_202511562517.4
    本发明公开一种超分辨率相位重建方法及装置，涉及数字全息显微测量领域。用于解决现有超分辨数字全息成像由于频谱子孔径的配准和拼接不准确导致相位重建精度低的问题。本发明实施例所提出的算法能够实现精确的频谱子孔径的位置畸变校正与合成，大大提高了移频...
    2026-04-21
  • 用于振荡器机构或擒纵机构的刚性钟表部件和包括此部件的钟表机芯
    用于振荡器机构或擒纵机构的刚性钟表部件和包括此部件的钟表机芯_尼瓦罗克斯-法尔股份公司_202511763263.2
    本发明涉及一种用于钟表机芯的振荡器机构或擒纵机构的刚性钟表部件(6、7、8)，所述部件沿主平面(P)延伸并且包括由复合材料(1)制成的至少一部分，所述复合材料(1)包括基体(2)和分布在所述基体(2)中的许多纳米管或纳米线(3)，所述纳米管...
    2026-04-21
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