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  • 本发明公开了一种投影设备及投影系统,投影设备包括投影光源,用于出射投影光束;照明系统位于投影光源的出光侧;照明系统包括光调制器件,用于对入射光束进行调制后出射;投影镜头位于光调制器件的出光侧,用于投影成像;投影镜头包括沿光路传播方向依次设置...
  • 本发明公开了一种投影设备及投影系统,投影设备包括投影光源,用于出射投影光束;照明系统,位于投影光源的出光侧;照明系统用于对入射的投影光束进行整形和调制;照明系统包括变焦镜组,以及位于变焦镜组的出光侧的光调制部件;变焦镜组包括沿光路传播方向依...
  • 本发明公开了一种投影设备,激光光源出射激光光束至相位调制器件,相位调制器件对入射的激光光束进行相位调制,进而显示元件可以对入射的激光光束进行亮度调制形成显示图像。由于激光光源出射的激光沿第一方向的发散角度大于沿第二方向的发散角度,那么在入射...
  • 本发明公开了一种投影设备,通过将衍射光学元件设置在合光组件的出光侧,与合光组件相距设定距离,且衍射光学元件设置多个分区,每个分区对应一种颜色的激光,衍射光学元件根据激光光源出射的激光的颜色进行移动,将激光光源出射的不同颜色的激光分别入射至衍...
  • 本申请提供一种光源组件及投影装置,光源组件包括激光器单元,激光器单元包括激光器以及激光器转接板,激光器与激光器转接板相连,激光器包括激光芯片,激光芯片用于接收激光器转接板传递的驱动信号发射激光光束;温度检测单元,温度检测单元包括第一温度传感...
  • 本发明公开了一种光源装置和投影设备,包括激光器,用于出射激光光束;第一聚焦透镜组,位于激光器的出光侧,用于对激光光束进行会聚;入射到第一聚焦透镜组的激光光束的中心与第一聚焦透镜组的光轴不共轴;荧光元件,位于第一聚焦透镜组背离激光器的一侧;荧...
  • 本发明公开了一种投影设备,该投影设备包括:光源壳体;激光器固定在光源壳体的第一表面;分光镜固定在光源壳体的第二表面,用于透射激光器出射的激光光束,反射由激光光束的第一部分激发的荧光光束,透射激光光束的第二部分;反射镜固定在第二表面,用于将激...
  • 本申请提供实施例属于投影技术,提供一种激光投影设备及色轮保护方法,激光投影设备包括:投影显示控制处理部、驱动控制装置、激光器驱动装置、激光器,以及,色轮;激光器发出激光时,激光透过色轮进行投影显示;驱动控制装置被配置为:获取目标装置的控制信...
  • 本发明公开了一种光源装置及投影设备,激光光束经过分区色镜的第一区域透射至第一聚焦透镜组,第一聚焦透镜组将激光光束发射至荧光元件,荧光元件在激光光束的第一部分照射下激发出荧光光束,并将激光光束的第二部分和荧光光束反射至第一聚焦透镜组,第一聚焦...
  • 本发明公开了一种光源装置和投影设备,包括激光器,用于出射激光光束;第一聚焦透镜组,分光元件,荧光元件,反射元件,其中,分光元件的第二区域沿第一方向的正投影完全覆盖反射元件,且分光元件的第一区域沿第二方向的正投影完全覆盖反射元件;第一方向平行...
  • 本发明公开了一种投影设备,多个激光器固定在光源壳体的第一表面,光路调节镜组固定在光源壳体的第二表面,光路调节镜组将激光器出射的激光光束透射至荧光轮,荧光轮出射的激光光束的第一部分激发的荧光光束反射至光源壳体的出光口,荧光轮反射的激光光束的第...
  • 本发明公开了一种投影设备,包括出射多种颜色的激光的光源,光束分割元件、合光组件和显示元件,采用光束分割元件对各个出光区域出射的激光分割为至少两个子光束,并利用合光组件中第一合光件的反射和第二合光件的反射区和透射区对分割后的子光束进行合光,这...
  • 本申请公开了一种车用投影幕布,车用投影幕布包括容纳盒、幕布机构和支撑机构。容纳盒限定出容纳空间,容纳空间在容纳盒的底壁形成敞开口;幕布机构设于容纳盒内,幕布机构包括卷绕组件和幕布,卷绕组件与幕布的固定端连接配合,卷绕组件用于释放或卷绕幕布;...
  • 本发明涉及一种相掩模的制备方法,尤其是一种相移掩模版的相位角、穿透率调控方法,包括以下步骤:获取经一次生产后的相移掩模;检测所述相移掩模的相位角和穿透率,若相位角和穿透率超出设定要求则进行调节步骤,所述调节步骤包括:重复清洗、涂胶、激光束曝...
  • 本申请涉及一种光学邻近修正方法及其装置、掩膜版、计算机设备和存储介质。所述方法包括:从设计图形中筛选出影响图形和待修正图形;基于拐角的位置在待修正图形上确定分割点;根据分割点对待修正图形的待分割边缘线进行分割,得到多个待修正边缘线;基于待修...
  • 本发明提供一种掩膜版组、芯片标识的形成方法及晶圆,步进曝光工艺将第一掩膜版和第二掩膜版的图形转印到晶圆上后,晶圆的每个芯片区上第三标识与相邻第一标识之间的间隔区域交叠,第四标识与相邻第二标识之间的间隔区域交叠,且该芯片区上的第三标识和第四标...
  • 本发明公开了一种方便脱膜的光掩膜成品及制备方法,涉及光掩膜板技术领域。本发明包括保护框膜、光掩膜板、底层胶和热敏涂层,所述底层胶设置于保护框膜与光掩膜板之间,所述热敏涂层与光掩膜板连接,所述底层胶与热敏涂层连接,所述热敏涂层位于底层胶与热敏...
  • 本发明提供一种量产性优异、能够使装置的设置面积省空间化的微细结构转印装置及微细结构转印方法。微细结构转印装置(1)具有压印机构(2)和喷墨机构(4),相对于通过喷墨机构(4)涂敷在基板(21)上的多个部位的光固化性树脂,压印机构(2)在真空...
  • 本申请提供了一种自动调平的硬压硬纳米压印设备,包括:六轴运动平台,六轴运动平台的下端设有压印平台,压印平台的下端设有卡盘机构,卡盘机构的下端设有用于硬压硬纳米压印的衬底与模板;三组激光测距探头,以中心对称方式布置于六轴运动平台周围,用于非接...
  • 公开了一种半导体光刻胶组成物和使用其形成图案的方法,该半导体光刻胶组成物包括有机金属化合物;单羧酸化合物;被至少两个羧基取代的有机酸化合物;以及溶剂。
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