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最新专利技术
  • GaN晶体和GaN晶体的制造方法
    GaN晶体和GaN晶体的制造方法_三菱化学株式会社_202480052141.X
    本发明涉及一种GaN晶体，其是包含Ni掺杂GaN层的GaN晶体，所述Ni掺杂GaN层的Ni浓度为1.0×1016个原子/cm3以上且1.0×1020个原子/cm3以下，所述Ni掺杂GaN层满足以下的至少一方：(1)总施主杂质浓度小于2.0×...
    2026-04-01
  • 硅单晶基板及硅单晶基板的制造方法
    硅单晶基板及硅单晶基板的制造方法_信越半导体株式会社_202480052843.8
    本发明是一种硅单晶基板，其特征在于，面取向为(110)，在室温环境下所述硅单晶基板的表面为表面稳定结构1×1。由此，提供一种硅单晶基板及硅单晶基板的制造方法，该硅单晶基板能够抑制硅(110)基板的雾度，且具有稳定的表面结构。
    2026-04-01
  • 具有锚固件的坩锅及其制造及使用方法
    具有锚固件的坩锅及其制造及使用方法_环球晶圆股份有限公司_202480052506.9
    公开用于容纳硅熔体的坩埚。所述坩埚包含具有底板及从所述底板向上延伸的侧壁的坩埚本体。所述底板及侧壁界定用于容纳所述硅熔体的空腔。所述坩埚本体具有内表面及外表面。一或多个锚固件从所述底板的所述内表面延伸到所述空腔中。还公开用于形成单晶硅锭的方...
    2026-04-01
  • 粘扣带成型用模具的制造方法、以及粘扣带及其制造方法
    粘扣带成型用模具的制造方法、以及粘扣带及其制造方法_YKK株式会社_202480049373.X
    粘扣带成型用模具(9)的制造方法包括：于在金属制套筒(4)的支承面(4a)上形成有具有电绝缘性的一组牺牲部(3)的电铸用模具(6)上形成电铸套筒(7)，电铸套筒(7)形成于金属制套筒(4)的支承面(4a)上，并且一组牺牲部(3)的各牺牲部(...
    2026-04-01
  • 引入参比电极的阴离子交换膜水电解系统及其制造方法
    引入参比电极的阴离子交换膜水电解系统及其制造方法_韩国科学技术院_202580002488.8
    本发明的一实施例提供了一种引入参考电极的阴离子交换膜水电解系统及其制造方法。根据本发明的一实施例所述的引入参考电极的阴离子交换膜水电解系统，通过将参考电极布置在还原电极(阴极)与氧化电极(阳极)之间以外的膜电极接合体外部，能够在不降低系统性...
    2026-04-01
  • 用于将CO2稳定电化学还原为碳氢化合物的双极多层电极设计
    用于将CO2稳定电化学还原为碳氢化合物的双极多层电极设计_西门子能源国际公司_202480053372.2
    本发明涉及一种用于CO2电解的多层电极，特别是涉及一种用于将CO2稳定电化学还原为碳氢化合物的双极多层电极以及相应的电化学池。因此，提出了一种用于CO2电解的多层电极(10)，其包括：具有适于CO2扩散的预定孔隙大小的气体扩散层(12)；邻...
    2026-04-01
  • 涂覆型切削工具
    涂覆型切削工具_瓦尔特公开股份有限公司_202480052767.0
    本发明涉及一种涂覆型切削工具(1)，所述涂覆型切削工具(1)由基体(5)和涂层(6)组成，涂层(6)从基体(5)表面起依次包含：(Ti, Al)N内层(7)，所述(Ti, Al)N内层(7)具有平均组成(Ti1‑vAv)N，0.35≤v≤0...
    2026-04-01
  • 镁合金及其表面处理方法和表面处理方法中使用的化学转化处理液
    镁合金及其表面处理方法和表面处理方法中使用的化学转化处理液_美丽龙化学株式会社_202380101453.0
    本发明提供了形成有因不使用含有磷和氮的原料而减小环境负荷、涂装性能和裸露耐腐蚀性优异、能够实现低电阻的皮膜的镁合金及其表面处理方法和该表面处理方法中使用的化学转化处理液。使镁合金与包含300～6000ppm的钒、50～1000ppm的锆、5...
    2026-04-01
  • 用于处理金属基材的方法和通过其获得的经处理的金属
    用于处理金属基材的方法和通过其获得的经处理的金属_法国特种经营公司_202480051372.9
    本发明涉及一种用于处理金属基材的方法、和一种通过该方法获得的经处理的金属。所获得的该经处理的金属具有有着改善的耐热性的钝化层。
    2026-04-01
  • 化学气相沉积装置
    化学气相沉积装置_TES股份有限公司_202580003043.1
    本发明是有关于一种化学气相沉积装置，更具体地，是有关于一种化学气相沉积装置，在向基板供应气体时划分供应气体的区域，并独立控制每个区域供应的气体的流量、流速或浓度，从而能够提高基板上薄膜的生长速度，并提高薄膜的厚度均匀性和掺杂均匀性。
    2026-04-01
  • 表面激活的化学气相沉积及其用途
    表面激活的化学气相沉积及其用途_GVD公司_202480043963.1
    本文描述了表面激活的化学气相沉积(SACVD)方法及其用途。与其他沉积技术(比如引发式化学气相沉积(iCVD))相比，通过SACVD沉积的聚合物涂层展现出高的均匀性和保形性。
    2026-04-01
  • 真空腔室及成膜装置
    真空腔室及成膜装置_佳能特机株式会社_202480053040.4
    构成成膜装置的真空腔室具备：第一壁构件，其形成所述真空腔室的外壁；第二壁构件，其与所述第一壁构件固定，形成所述真空腔室的外壁；以及固定机构，其将所述第一壁构件与所述第二壁构件固定，所述第一壁构件具备：第一空间形成部，其形成所述真空腔室的内部...
    2026-04-01
  • 高性能钢棒及高性能钢棒的制造方法
    高性能钢棒及高性能钢棒的制造方法_现代制铁株式会社_202480050942.2
    本发明一实施例的高性能钢棒包含0.04～0.09重量百分比的碳(C)、大于0且小于等于0.6重量百分比的硅(Si)、1.45～2.5重量百分比的锰(Mn)、0.2～2.0重量百分比的镍(Ni)、大于0且小于等于0.7重量百分比的铬(Cr)、...
    2026-04-01
  • 热轧钢板及其制造方法
    热轧钢板及其制造方法_安赛乐米塔尔公司_202480053262.6
    一种热轧钢板，其具有包含以下元素的组成：0.02%≤C≤0.06%，1.1%≤Mn≤1.60%，0.01%≤Al≤0.08%，0.01%≤Nb≤0.07%，0.05%≤Ti≤0.15%，0.0005%≤Ca≤0.005%，0%≤P≤0.03...
    2026-04-01
  • 钢板及其制造方法
    钢板及其制造方法_杰富意钢铁株式会社_202480053349.3
    本发明的目的在于提供具有高强度、高延展性且低屈服伸长率的钢板及其制造方法。钢板，其具有下述成分组成，以质量%计含有：C：0.03%以上0.15%以下、Si：0.05%以下、Mn：0.10%以上0.60%以下、P：0.025%以下、S：0.0...
    2026-04-01
  • 奥氏体系不锈钢钢材
    奥氏体系不锈钢钢材_日本制铁株式会社_202480053230.6
    提供具有高强度和高压氢气环境下的优异的耐氢脆性的奥氏体系不锈钢钢材。本公开的奥氏体系不锈钢钢材的化学组成以质量%计为C：0.100%以下、Si：1.000%以下、Mn：8.00~20.00%、P：0.050%以下、S：0.0050%以下、C...
    2026-04-01
  • 铁素体系不锈钢
    铁素体系不锈钢_日本制铁株式会社_202480051486.3
    本发明的课题在于，在500~700℃的中高温区域中即使在如氨燃烧气体那样含有氮和水蒸气的气体气氛中，抑制晶界裂纹(耐氮化性)，还抑制红氧化皮的产生(耐氧化性)，目的在于提供这样的铁素体系不锈钢。本发明具有氮化倾向指数为5以下的规定的成分组成...
    2026-04-01
  • 表面性状和机械特性优异的Ni合金
    表面性状和机械特性优异的Ni合金_日本冶金工业株式会社_202480052577.9
    一种具有表面没有缺陷的健全的表面性状和机械特性的Ni基合金及其制造方法，在所述Ni基合金中，以下以质量%计，含有C：0.001～0.03%、Si：0.01～0.5%、Mn：0.01～0.5%、P：0.01%以下、S：0.005%以下、Cr：...
    2026-04-01
  • 表面性状优异的Ni基合金
    表面性状优异的Ni基合金_日本冶金工业株式会社_202480052558.6
    具有表面没有缺陷的健全的表面性状的Ni基合金及其制造方法，在所述Ni基合金中，以下以质量%计，含有C：0.001～0.1%、Si：0.01～0.4%、Mn：0.1～1%、P：0.03%以下、S：0.002%以下、Cr：13～35%、Mo：1...
    2026-04-01
  • 用于从催化剂涂覆的膜中回收催化剂的方法
    用于从催化剂涂覆的膜中回收催化剂的方法_环球油品有限责任公司_202480053298.4
    一种从催化剂涂覆的膜中回收阳极催化剂和/或阴极催化剂的方法，这些催化剂涂覆的膜包括质子交换膜、包括聚阳离子聚合物和聚阴离子聚合物的交替层的连续无孔交联聚电解质多层涂层、包含阳极催化剂颗粒的阳极涂层、包含阴极催化剂颗粒的阴极涂层，以及在该质子...
    2026-04-01
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