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一种抽气组件及其清洁方法、半导体器件的加工设备
本发明提供了一种抽气组件、一种半导体器件的加工设备、一种抽气组件的清洁方式及一种计算机可读存储介质。该抽气组件包括抽气管路、等离子体发生器及电子源。该抽气管路的第一端连接工艺腔室,第二端连接真空泵。该阀门设于抽气管路。该等离子体发生器设于抽...
下电极及其再生工艺与应用
本发明属于LCD和OLED显示面板领域,涉及下电极及其再生工艺与应用。针对现有技术干法刻蚀工艺及物理气象沉积中再生的下电极,塑封液渗透不彻底,导致电性异常的技术问题。本申请提供了下电极,包括下而上依次设置的金属基材、缓冲层、下部层、电极层和...
用于等离子体工艺的阻抗匹配网络、等离子体控制系统及用于等离子体工艺的阻抗匹配方法
描述了用于等离子体工艺的阻抗匹配网络、等离子体控制系统以及用于等离子体工艺的阻抗匹配方法。阻抗匹配网络包括输入端口和输出端口。阻抗匹配网络包括传输线路,传输线路将输出端口连接到输入端口。阻抗匹配网络包括第一阻抗匹配模块,第一阻抗匹配模块配置...
阻抗匹配网络、阻抗匹配控制系统和阻抗匹配方法
本发明公开了一种阻抗匹配网络、阻抗匹配控制系统和阻抗匹配方法。描述了一种用于等离子体工艺的阻抗匹配网络。阻抗匹配网络包括可连接到射频发生器模块的输入端口。阻抗匹配网络包括可连接到负载的输出端口。阻抗匹配网络包括传输电路,其中传输电路将输出端...
一种等离子体处理装置
本发明公开了一种等离子体处理装置,包括:一真空腔室和位于所述真空腔室内的基座;一介电窗,位于所述真空腔室的顶部,与所述基座相对设置;一线圈,至少部分地位于所述介电窗上方,包括至少两个纵长形的激发段;射频电源,施加射频信号至所述线圈,使得所述...
等离子体腔及向其施加射频能量的装置、基片处理方法
本发明公开了一种向等离子体处理腔施加射频能量的装置,包括一个线圈,具有一个接收射频功率的输入端以及一个接地的输出端;一个非接触耦合器,具有连接到线圈输入端的接收连接器和一个与射频功率源耦合的传输连接器,所述接收连接器和所述传输连接器非接触耦...
一种等离子体处理设备及其射频控制装置
本发明提供一种等离子体处理设备及其射频控制装置,通过向承载待处理基片的基座施加偏置射频功率,在基片表面形成偏置电压,对等离子体中离子到达基片的能量进行控制。射频控制装置中,由一个或多个射频信号发生器提供的射频信号,通过电阻传递到功率放大器进...
一种侧边辅助接地装置及等离子体处理装置
本发明提供一种侧边辅助接地装置及等离子体处理装置,所述侧边辅助接地装置设置在等离子体反应腔内的基座周向,其包括:承载部,其与所述基座固定连接;支架,其固定在所述承载部上;平衡配重杆,其通过旋转支点设置在所述支架的顶端;所述平衡配重杆的第一端...
一种高低能离子注入机的束流Glitch监测方法及装置
本发明公开了一种高低能离子注入机的束流Glitch监测方法及装置,方法包括步骤:实时获取离子注入机的束流监测参数,包括终端束流和预设ESI阈值;在离子注入机处于高能模式时,终端束流为第一引出电源的电流值;在离子注入机处于低能模式时,终端束流...
柱内粒子过滤器
描述了用于保护带电粒子检测器免受损坏的系统、部件和方法。过滤器可包括框架和碳材料膜。所述膜可限定第一表面、与所述第一表面相对的第二表面以及从所述第一表面延伸穿过所述膜到所述第二表面的光阑。所述框架可被配置为与设置在带电粒子束柱中的带电粒子检...
检测方法、检测装置及半导体设备
本申请公开了一种检测方法、检测装置及半导体设备,涉及半导体领域。一种检测方法,包括:控制升降组件带动激光组件由初始位置沿鞘层厚度的方向逐渐远离初始位置,并获取激光组件在不同位置时发射的激光的传输时间;其中,初始位置为等离子体工艺腔室内可确定...
一种离子注入机的组合透镜系统及离子束流调整方法
本发明公开了一种离子注入机的组合透镜系统及离子束流调整方法,系统包括工控机、ADIO控制器、第一高压电源、第二高压电源、聚焦电极透镜和偏转电极装置;所述工控机通过ADIO控制器分别与所述第一高压电源和第二高压电源相连;所述聚焦电极透镜与所述...
电子束显微镜
提供了电子束显微镜,其包括电子束源(5)、物镜(25)和电子检测器(37)。电子检测器(37)包括闪烁体布置(76),该闪烁体布置被布置在电子束源(5)与物体位置(35)之间,以使得在物体(21)处生成的电子(81)入射到闪烁体本体(77)...
电子束显微镜及其操作方法
本公开提供了一种电子束显微镜以及一种用于操作电子束显微镜的方法。所述电子束显微镜包括:电子束源(3),具有磁极端(35、37)的磁性物镜23),具有孔直径(D)的闪烁体61),第一电极(80),第二电极(97),以及用于这些元件的电位供应装...
电子束显微镜
本公开提供了一种电子束显微镜(1),其包括电子束源(3)、物体固持器(21)、磁性物镜(23)和第一电子检测器(41),该电子束源用于产生电子束(9)。电子检测器(41)包括闪烁体布置(60),该闪烁体布置具有闪烁体本体(61),该闪烁体本...
用于带电粒子束装置的装置、带电粒子束装置、分析用于带电粒子束装置的磁透镜的方法及非暂时性媒体
这里描述了带电粒子束装置的设备。所述带电粒子束装置包括:具有线圈载体的磁透镜;至少一个极靴;以及电绝缘体,所述电绝缘体旨在将线圈载体和至少一个极靴电气绝缘。
一种x射线管阳极靶控制方法及系统
本发明提供了一种x射线管阳极靶控制方法及系统,应用于x射线管阳极靶技术领域,该方法包括:系统启动后,进行自检与标定;依次用小电流电子束轰击每个单元中心,记录对应的偏转电流值,建立坐标到电流查找表;进行束斑形态基准校准,记录初始聚焦参数;电子...
一种可变吸极结构冷阴极潘宁离子源
一种可变吸极结构冷阴极潘宁离子源,包括外壳、可变吸极、阴极、阳极放电腔、永磁铁、绝缘材料和若干输气管,所述绝缘材料内衬于外壳中,所述阳极放电腔和阴极均设置在外壳中,所述永磁铁装设在外壳中且以阳极放电腔为中心环绕设置,若干所述输气管设置在阳极...
一种PVD磁控溅射高金属离子化的非平衡磁控管
本发明公开了一种PVD磁控溅射高金属离子化的非平衡磁控管,包括磁轭和磁铁块。磁铁块安装于磁轭,磁铁块包括外环磁铁、内环磁铁和中心磁铁,中心磁铁的外侧与外环磁铁的内侧之间有间隙,内环磁铁夹设于外环磁铁和中心磁铁之间的间隙,外环磁铁具有沿第一方...
用于实现速调管的电子光学系统小型化的方法、装置及设备
本公开提供了一种用于实现速调管的电子光学系统小型化的方法、装置及设备,可以应用于真空电子器件技术领域。该用于实现速调管的电子光学系统小型化的方法包括:获取电子枪的第一目标参数和初始永磁聚焦系统;根据第一磁感应强度,调整初始永磁聚焦系统的磁感...
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