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  • 一种移动体,具备:箱体;移动机构,使箱体移动;臂,一端被支承于箱体,具有至少一个关节;测距装置,包含光学头;以及控制部,控制移动机构及臂,光学头被安装在臂的至少一个关节中的某个与臂的前端之间,控制部通过使臂的姿势变化而使光学头的位置变化,由...
  • 一种计算机提供通信辅助以向操作者传送关于工业机器的信息。该计算机根据其从该工业机器接收到的上下文数据来检测(413)该操作者的操作者上下文。该计算机具有适于处理(443)查询以获得回应的多个数据模块。该计算机根据检测到的操作者上下文来启用(...
  • 本发明涉及一种容器处理设备,该容器处理设备具有用于输送容器(4)的运输机(3)和用于获取该运输机(3)的区段(2)的图像(1)的摄像头。该容器处理设备包括用于评估这些图像以确定这些容器(4)的位置数据的评估装置和用于将这些容器(4)的位置数...
  • 数据分割装置具备:评价部,其对表示加工面的状态的加工面数据进行解析来评价加工面的形状的复杂度;以及分割部,其根据评价部对复杂度的评价结果,将加工面数据表示的加工面分割为多个区域。
  • 数据映射生成装置具有:取得部,其取得表示加工区域的区域信息和表示利用工具对加工区域中包含的加工面进行加工时的条件的加工信息;决定部,其根据加工信息,决定用于将加工区域划分为多个区域的划分尺寸;数据映射生成部,其根据由决定部决定的划分尺寸,将...
  • 数据映射生成装置具有:检测部,其检测多个加工面中的未生成数据映射的剩余加工面;方向决定部,其根据剩余加工面来决定用于生成数据映射的方向;生成部,其根据由方向决定部决定的方向来生成多个加工面中的一个加工面的数据映射。
  • 一种数控机床的状态预测方法、装置、电子设备及介质。数控机床的状态预测方法包括:获取数控机床在运行过程中的第一振动信号(101);基于第一振动信号,确定运行过程在数控机床的全生命周期中的生命周期阶段(102);将第一振动信号输入对应于生命周期...
  • 本发明涉及一种连接到同一背板的PLC装置之间的通信方法,通过背板共享包含连接到背板的PLC装置的位置信息的消息,从而即使不经过CPU模块也能够实现PLC装置之间的通信,并且在PLC装置之间通过通道打开或关闭消息形成PLC装置之间的路由路径,...
  • 本发明涉及一种用于无线数据传递的现场设备适配器(5),其用于连接到接口(15),该接口在现场设备内部,并且被提供用于现场设备(1)的显示器(14),该适配器具有适配器电子器件,其至少包括以下:‑接口(5a),其用于连接现场设备内部的接口(1...
  • 一种自动化系统的仿真优化方法,该自动化系统包括自动化设备和环境,该方法包括:强化学习模型(21)输出一操作指令;调度该操作指令至自动化设备的设备仿真模型(23)中,该设备仿真模型根据操作指令生成一设备反馈;调度设备反馈至环境的环境仿真模型(...
  • 本申请涉及一种用于配置和/或控制生物处理系统的计算机实现方法、相应的计算机程序产品、用于执行生物过程的方法、用于控制和/或配置生物处理系统的控制装置以及生物过程,该生物处理系统配置为物理执行和/或仿真生物过程。该方法使用概率算法来确定目标模...
  • 本公开涉及可穿戴电子装置。根据本公开的实施例的一种可穿戴电子装置可以包括:在内部形成空间的外周壁;支撑构件,设置在外周壁内侧;窗,布置在支撑构件的上侧以与支撑构件间隔开;显示器,设置在支撑构件和窗之间并与外周壁间隔开;以及支撑主体,包括位于...
  • 本发明涉及一种用于钟表机芯的组件,所述组件包括第一钟表部件(22)和第二钟表部件(30),所述第一钟表部件例如为摆夹板,所述第二钟表部件例如为致动系统的致动器,所述组件(1)包括用于将第一钟表部件(22)与第二钟表部件(30)装配在一起的装...
  • 本发明涉及一种采用组合式聚光单元的大面积扫描全息相机系统。根据本发明,提供了一种大面积扫描全息相机系统,包括:扫描光束生成单元,其调制从光源分束得到的第一光束的相位,从而通过第一光束曲率生成单元将第一光束转换为第一曲率光束,通过第二光束曲率...
  • 本发明涉及一种采用分离式聚光单元的大面积扫描全息相机系统。根据本发明,提供了一种大面积扫描全息相机系统,包括:扫描光束生成单元,其调制从光源分束得到的第一光束的相位,从而通过第一光束曲率生成单元将第一光束转换为第一曲率光束,并通过第二光束曲...
  • 一种改进的掩模形成膜,其特征在于具有高的IR敏感度和高UV密度,结合改善的外观和物理性质;和用于使用该膜制备浮雕形成前体的改进的方法。所述掩模形成膜具有的特定特征在于其包含包括聚硅氧烷化合物的涂层。
  • 本发明提供一种具备黑色图案的基板的制造方法,其包括:膜形成工序,在基板上形成由负型光敏性组合物形成的未曝光膜;曝光工序,对未曝光膜选择性地照射至少在波长350~380nm的范围内及波长390~420nm的范围内具有光谱的极大值的光从而获得曝...
  • 一种用于EUV光刻的光学部件(200),包含在真空环境中操作的介质输送管系统(300、307、400、406、500、508),其中该介质输送管系统(300、307、400、406、500、508)包含在金属区段(207)与由线性膨胀系数小...
  • 提供了一种用于光刻系统的量测设备,该量测设备包括:多个可独立移动的指状件,其被配置为控制图案形成装置的被照射区域的形状,其中可独立移动的指状件中的一个或多个包括一个或多个反射表面;和一个或多个辐射传感器;其中一个或多个可独立移动的指状件的一...
  • 投影光机以及投影装置,涉及显示技术领域。投影光机包括:显示组件,包括入光面、出光面,以及连接入光面以及出光面的第一端面;第一散热器,位于显示组件靠近第一端面的一侧,包括散热板,散热板靠近显示组件的表面为弧形表面,弧形表面朝远离显示组件的一侧...
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