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  • 本发明公开了一种面向3D VC的强化换热毛细结构及3D VC,属于高热流密度电子器件冷却领域。在该结构中,梯度孔径多孔结构的孔径沿梯度孔径多孔结构厚度一侧至另一侧呈梯度增大,梯度孔径多孔结构的一侧与3D VC的金属外壳内壁相接,梯度孔径多孔...
  • 本发明公开了一种高效节能三极管,属于三极管相关技术领域,包括散热壳体与引脚,引脚与散热壳体的内部固定并向外延伸,所述引脚通过剪切装置剪切处理,散热壳体的内部卡接有导热机构,且散热壳体的外部两侧还固定安装有用于导热机构固定的卡接件,散热壳体的...
  • 公开了矩阵测温型IGBT模块的水冷散热器垂直限位装置及系统,装置中,散热器本体底板上设有呈m×n矩阵式分布的多个测温孔,所述测温孔贯穿底板,多个温度传感器分别插入所述测温孔中使温度传感器的感温端与上方IGBT模块的基板底部接触;传感器固定机...
  • 本发明属于功率半导体器件封装集成技术领域,尤其涉及一种功率器件多芯片原位主动散热结构及制备方法,散热结构包括:中心基板;若干半导体组,间隔嵌设在中心基板内;热端基板,固定连接在中心基板一侧;若干冷端基板,固定连接在中心基板另一侧,冷端基板与...
  • 本发明公开一种功率器件主动散热电路一体化集成结构,包括热电制冷器、导电金属柱、含通孔结构的三维陶瓷基板、功率芯片、键合引线和功率端子。热电制冷器包含热端陶瓷基板、冷端陶瓷基板及交替排列的P型与N型半导体;三维陶瓷基板与热电制冷器冷端基板为一...
  • 本发明属于功率半导体器件封装集成技术领域,尤其涉及一种功率器件散热结构的制备方法及功率器件散热结构,本发明通过在功率器件表面依次沉积绝缘层与金属层,实现绝缘防护与高效散热的一体化集成,无需依赖外部散热器,有效缩短热传输路径,显著降低界面热阻...
  • 本发明涉及半导体封装冷却技术领域,具体公开基于金刚石‑铜复合式微流道冷却封装结构,包括封装壳体及底部通过弹性密封圈浮动搭接的金刚石‑铜热传导板;热传导板上表面一体成型有若干换热立柱,各换热立柱插设于封装壳体的容纳沉孔内形成微流道环状间隙;封...
  • 本申请公开了一种MOS管散热封装结构,其特征在于,包括PCB板以及贴合设置于所述PCB板表层的MOS管芯片,所述PCB板的表层对应所述MOS管芯片的区域设有散热焊盘;所述散热焊盘由多个间隔设置的长条状焊盘组成,相邻两个长条状焊盘之间形成间隔...
  • 本发明公开了一种毛细力驱动两相热虹吸散热器及其工作方法,属于芯片散热领域,包括毛细力驱动式散热器主体和自适应升降式冷凝器,毛细力驱动式散热器主体包括毛细板以及密封设置于毛细板一侧的蒸发腔和储液室,蒸发腔经蒸汽软管与自适应升降式冷凝器的输入端...
  • 本发明公开了一种嵌入式功率模块及其制造方法,属于集成电路技术领域,该嵌入式功率模块的制造方法,包括提供电路板,在所述电路板的正面封装芯片;使用3D打印工艺或者牺牲层在所述电路板的背面制备铜镀层,以及所述铜镀层中的散热微通道,所述散热微通道的...
  • 提供了半导体封装件和制造半导体封装件的方法。所述半导体封装件包括:基底;半导体芯片,在基底上;热界面层,设置在半导体芯片上;多层金属结构,设置在热界面层上。多层金属结构包括第一部分和两个第二部分,第一部分在第一方向上与半导体芯片叠置,并且所...
  • 本发明涉及电子设备散热技术领域,公开一种微通道热管耦合冷板均温装置,包括导热壳体、微通道区、热管区和冷却工质循环系统;导热壳体的底面与热源接触;微通道区包括若干微通道,若干微通道间隔开设在导热壳体内腔中;热管区包括冷凝区和若干蒸汽腔,若干蒸...
  • 本发明属于半导体集成电路封装技术领域,涉及一种系统级封装产品的芯片散热结构、系统级封装产品及封装方法。该散热结构包括倒装芯片和塑封在倒装芯片外部的散热盖;在倒装芯片的底部周围胶粘有两个L型的AD胶,散热盖的底部放置在AD胶上,用于固定散热盖...
  • 本发明提供了带有扩压喷射散热器的干冰微粒流体冷却芯片系统,包括低压级压缩机、高压级压缩机、气体冷却器、回热器、中间冷却器、第一膨胀阀、第二膨胀阀及扩压喷射散热器;扩压喷射散热器的底板覆盖于芯片上面;低压级压缩机、气体冷却器、回热器、第一膨胀...
  • 本发明公开了一种用于大功率半导体器件的三维堆叠散热结构及制备方法,其中结构包括大功率器件、PCB组件、陶瓷基板组件和热接口层,所述大功率器件通过第一SMT焊接层焊接在PCB组件上,所述PCB组件进一步包括散热过孔阵列、背部焊盘和阻焊层,所述...
  • 本发明公开了一种高热流器件的高效散热结构及其制造方法,属于电子设备散热技术领域。该结构包括微射流孔阵列和具有复合仿生微结构的靶面,靶面由仿叶脉多级分形微流道和位于其分支间的错列仿蜂巢微柱阵列构成。微射流孔阵列采用主、副射流孔多级布局,分别精...
  • 本申请提供一种半导体器件及其制备方法,所述制备方法包括:提供衬底,衬底包括第一区域和第二区域,衬底上依次形成有硬掩膜层以及非晶硅层;在第一区域和第二区域的非晶硅层上形成光刻胶层,执行光刻工艺,去除第一区域的光刻胶层并在第二区域的非晶硅层上形...
  • 本发明提出了一种半导体结构及其制备方法,属于半导体技术领域。半导体结构至少包括:基底;凹槽,由所述基底的表面向所述基底内凹陷;阻挡层,设置在所述基底的表面上和所述凹槽内;第一掺杂层,设置在所述阻挡层上;第二掺杂层,设置在所述第一掺杂层上;以...
  • 本发明公开了一种晶圆级封装结构及制作方法,本发明属于半导体领域,包括:步骤一:准备晶圆;步骤二:在所述晶圆上形成第一层介质层,并对所述第一层介质层进行曝光和显影,以形成开口结构一,以将铝垫露出;步骤三:在所述第一层介质层上形成第二层介质层,...
  • 本发明提供了一种金属层图形修正方法及金属层版图,属于半导体领域。该金属层图形修正方法包括提供原始版图,所述原始版图包括金属层图形;筛选所述原始版图中至少一侧同时具有凸角转角和凹角转角的金属层图形作为目标图形,将所述凸角转角和凹角转角之间的边...
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