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最新专利技术
  • 输入装置
    输入装置_阿尔卑斯阿尔派株式会社_202480034950.8
    提供能够以恒定的基准判定对操作面进行了压入操作的输入装置。输入装置包括：输入部，具有通过操作体而被操作的操作面；多个检测电极，设置于所述操作面的里侧；测定部，测定所述多个检测电极各自的静电电容值；以及校正部，对由所述测定部测定的所述多个检测...
    2026-01-31
  • 信息中继装置及信息中继系统
    信息中继装置及信息中继系统_株式会社香味醗酵_202480041690.7
    提供能够使视频的再现与气味的再现的时机同步的信息中继装置。服务器(100)从发送机接受气味的信息或味道的信息以及至少关联的视频信息并向接收机传输。在服务器(100)中，图像场景辨别处理部(34)生成作为视频信息中的场景的切换而被检测出的时机...
    2026-01-31
  • 电池供电设备中的电力管理
    电池供电设备中的电力管理_瑞典爱立信有限公司_202380099782.6
    第一设备(201, 401, 501, 503, 505)的电力消耗是通过在当前时间预测(103, 307, 601)能量消耗活动是否将在稍后的时间由所述第一设备(201, 401, 501, 503, 505)执行来控制的，其中，所述能量...
    2026-01-31
  • 一种电子设备、外设器件、终端系统及状态检测方法
    一种电子设备、外设器件、终端系统及状态检测方法_荣耀终端股份有限公司_202480035837.1
    本申请公开了一种电子设备、外设器件、终端系统及状态检测方法。电子设备包括第一机身和电连接器，第一机身包括第一边框和显示屏，第一边框围绕在显示屏的外边沿，第一边框的延展方向与显示屏的延展方向不同。电连接器位于第一边框，且电连接的多个第一端子裸...
    2026-01-31
  • 踏板装置
    踏板装置_伯杰橡胶金属有限责任公司_202480033558.1
    一种踏板装置，具有踏板(2)，所述踏板具有踏板体(3)和踏板盖(4)，所述踏板盖布置在所述踏板体(3)的端部(5)上并且设有踩踏面区域(6)，所述踩踏面区域构成踏板的自由端部；踏板支架(7)，所述踏板体(3)沿轴向(x)可运动地支承在所述踏...
    2026-01-31
  • 减压阀
    减压阀_川崎重工业株式会社_202480041935.6
    减压阀，具备：包括通路的壳体；可移动地容纳于壳体，调节通路的开度的阀体；向闭方向对阀体施力的第一施力构件；可移动地容纳于壳体，与阀体抵接的杆；和经由杆，以抵抗二次压的方式向开方向对阀体施力的第二施力构件，第二施力构件为板状的弹簧且自杆向侧方...
    2026-01-31
  • 用于生成环境地图的方法、系统以及移动机器人
    用于生成环境地图的方法、系统以及移动机器人_欧姆龙株式会社_202480042715.5
    提供能够以低成本且短时间生成广大且高精度的环境地图的用于生成环境地图的方法、系统以及移动机器人。本发明的一方式所涉及的方法是控制第一移动机器人和第二移动机器人并生成环境地图的方法，上述第一移动机器人设置有用于检测环境并生成第一环境信息的第一...
    2026-01-31
  • 检查装置、检查系统、检查方法以及程序
    检查装置、检查系统、检查方法以及程序_三菱电机株式会社_202380089769.2
    检查装置(10)具有：任务设定部(142)，其对包含处理块的检查任务进行设定，该处理块表示与检查相关的处理内容；任务执行部(143)，其在检查任务包含多个处理块的情况下，依次执行多个处理块，将由多个处理块的各处理块输出的数据的一部分或全部以...
    2026-01-31
  • 用于生成自动化系统的控制程序的方法和开发环境
    用于生成自动化系统的控制程序的方法和开发环境_倍福自动化有限公司_202480042815.8
    本发明涉及一种用于生成自动化系统的控制程序的计算机实现的方法(100)，其包括：在接收步骤(101)中，由开发环境(200)接收用于自动化系统的控制程序(209)的输入数据(207)；在第一生成步骤(103)中，借助开发环境(200)的图形...
    2026-01-31
  • 多轴控制装置、多轴控制系统、调校方法及程序
    多轴控制装置、多轴控制系统、调校方法及程序_三菱电机株式会社_202380099861.7
    提供能够对多个轴的伺服放大器(200)执行调校的多轴控制装置(100)等。将1个伺服放大器(200)与1个伺服电动机(300)的组合作为1个轴，对多个轴同步地进行控制的多轴控制装置(100)具有指示部(103)，该指示部(103)对伺服放大...
    2026-01-31
  • 电子照相感光构件、处理盒、电子照相设备和羟基镓酞菁晶体的制造方法
    电子照相感光构件、处理盒、电子照相设备和羟基镓酞菁晶体的制造方法_佳能株式会社_202480042955.5
    该电子照相感光构件包括支承体和感光层，并且其特征在于，感光层包含羟基镓酞菁晶体，羟基镓酞菁晶体包含偶极矩大小为3.6D以上且SP值SPAA为11.5(cal/cm33)1/21/2以上的化合物A和偶极矩大小为大于0且2.0D以下并且SP值S...
    2026-01-31
  • 基于图案形成装置的热机械性质的空间变化来增强图案化过程
    基于图案形成装置的热机械性质的空间变化来增强图案化过程_ASML荷兰有限公司_202480041852.7
    光刻和/或其它设备中的对准校正和/或其它调整通常假定空间上均匀材料被用于诸如掩模版之类的图案形成装置。然而，实际上，在半导体处理期间，跨越图案形成装置(例如，掩模版)的热膨胀系数和/或其它热机械性质存在局部差异。有利地，本系统和方法基于跨越...
    2026-01-31
  • 图案形成用组合物
    图案形成用组合物_日产化学株式会社_202480042916.5
    一种图案形成用组合物，其中，所述图案形成用组合物包含具有与芳香族环直接键合的羟基的含三嗪环的聚合物、交联剂、由下述式(S)表示的化合物、以及有机溶剂。式(S)中，例如，R11表示甲基或乙基，n表示3，A11表示碳原子数为1～10的亚烷基，A...
    2026-01-31
  • 感光性树脂组合物、固化膜以及具备该固化膜的显示装置
    感光性树脂组合物、固化膜以及具备该固化膜的显示装置_东丽株式会社_202480043235.0
    本发明的课题在于提供一种能够兼顾抑制显影后的残渣与抑制显影剥落，并且与基板的密着性优异的固化膜。此外，本发明的课题在于提供一种在显示出良好的发光特性、可靠性优异的显示装置中所具备的固化膜。一种感光性树脂组合物，其包含(A1)硅氧烷树脂、(B...
    2026-01-31
  • 适用于低温固化的可光固化且可热固化组合物
    适用于低温固化的可光固化且可热固化组合物_巴斯夫欧洲公司_202380099979.X
    本发明涉及一种组合物，其包含(i)至少一种携带至少一个烯属不饱和基团的化合物或低聚物(A)，(ii)至少一种具有式(1)的热自由基引发剂(B)，以及(iii)至少一种光引发剂(C)；涉及用于使用这些组合物制备固化层或固化图案的方法；涉及通过...
    2026-01-31
  • 感光性组合物、硬化物及其制造方法、显示元件、以及摄像元件
    感光性组合物、硬化物及其制造方法、显示元件、以及摄像元件_JSR株式会社_202480042096.X
    本发明的目的在于提供一种感光性组合物、由所述感光性组合物形成的硬化膜及其制造方法、包括所述硬化膜的显示元件、以及包括所述硬化膜的摄像元件，其中所述感光性组合物即使在经过一定时间后粘度增加也少而保存稳定性优异，在使用涂布狭缝喷嘴等时感光性组合...
    2026-01-31
  • 反射镜系统、包含反射镜系统的微光刻投射曝光设备
    反射镜系统、包含反射镜系统的微光刻投射曝光设备_卡尔蔡司SMT有限责任公司_202480041833.4
    本发明涉及一种反射镜系统，其包括具有对EUV辐射具有高反射率的光学表面(32)的EUV反射镜，并且包括承载反射镜系统的系统部件的框架结构(39)。所述框架结构包括结构体(40)和插入件(42)，所述插入件(42)由热性能与所述结构体(40)...
    2026-01-31
  • 衬底支撑件
    衬底支撑件_ASML荷兰有限公司_202480040974.4
    本文公开一种衬底支撑件(200)，所述衬底支撑件被配置成支撑衬底(W)，所述衬底支撑件包括：上表面(225)；多个支撑构件(241)，所述多个支撑构件在所述上表面上方延伸；抽取槽沟(230)，所述抽取槽沟由第一周向壁和第二周向壁限定，其中，...
    2026-01-31
  • 用于压印光刻的印模、其制造方法以及用于压印光刻的方法
    用于压印光刻的印模、其制造方法以及用于压印光刻的方法_荷兰应用自然科学研究组织TNO_202480034280.X
    本发明公开了印模及在压印光刻中使用该印模的方法。该印模配置为在光刻胶层中形成图案，其中该印模包括透明层及在其上的用于压印该图案的多个突起部，其中多个突起部由具有光吸收性质的柔性复合材料制成以形成光阻挡图案以用于选择性地阻挡穿过其的光。本发明...
    2026-01-31
  • 表膜隔膜、表膜及其制造方法
    表膜隔膜、表膜及其制造方法_ASML荷兰有限公司_202480043523.6
    提供一种用于光刻设备的表膜隔膜，所述表膜隔膜包括包含金属硅碳氮化物的芯部。也描述一种包括这样的表膜隔膜的表膜，以及一种包括这样的表膜隔膜或表膜的光刻设备。也提供一种制造表膜隔膜的方法，所述方法包括在包含氮的气流中溅射金属硅化物靶和硅碳化物靶...
    2026-01-31
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