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  • 本发明提供了一种汽轮发电机组ETS三重化冗余保护系统、方法及介质,系统包括:信号采集层配置三重化传感器组,信号采集层的传感器、接线盒均配备伴热保温组件,信号电缆采用耐寒屏蔽电缆;逻辑运算层以硬冗余PLC为核心控制器,将控制程序划分为供热保障...
  • 本发明公开了一种叉车电控硬件冗余系统,涉及叉车控制领域;包括:主控模块,实时处理驾驶指令与传感器数据,生成执行机构控制信号,同时通过高速总线向备用模块同步参数;备用控制模块,其通过动态热同步方法在主系统失效时实现无感接管控制权;多通道故障检...
  • 本发明公开了一种电力系统时间同步防护方法、装置、设备、及存储介质,涉及电力技术领域。该方法包括:获取单北斗系统的可观测卫星在至少两个频段下的导航数据;获取接收天线相对可观测卫星的伪距、可观测卫星的导航电文、接收天线坐标、与单北斗系统的时钟偏...
  • 本发明公开了一种多功能老年健康监测手表装置,解决了手表佩戴松动,造成表体与皮肤不贴合,易造成检测出现误差的问题,其包括健康监测手表表体,所述健康监测手表表体的外侧安装有充气连接组件,充气连接组件包括套设于健康监测手表表体外侧的外部套,外部套...
  • 本申请提供一种电能表校时方法及装置,涉及电力计量技术领域。该方法包括:获取目标区域内的待测电能表上红外接收器的多组输出数据,每组输出数据包括电流强度和采集时间;计算第一电流值和第二电流值,确定目标状态变量,并在确定目标状态变量后,对第二数据...
  • 本发明公开了一种应用于随机信号检测的时间数字转换器及检测方法,涉及核辐射探测器前端读出电路技术领域。该时间数字转换器包括:工作模式控制端、校正时钟、控制器、触发启动振荡器和细时间量化电路;工作模式控制端和校正时钟分别连接控制器的输入端;控制...
  • 本申请涉及原子钟技术领域,具体提供一种光抽运原子钟频率稳定系统及控制方法,旨在解决现有的光抽运型原子钟的微波功率频移难以消除的技术问题。为此目的,本申请的光抽运原子钟频率稳定系统包括光源、吸收泡、伺服电路、微波电路和功率控制器,其中光源用于...
  • 本发明公开了一种搭载铌酸锂倍频腔的铷原子钟‑腔光机械系统光生微波源,包括:可调谐激光源、腔光机械系统、倍频系统、铷原子钟系统、反馈锁频系统。本发明采用周期性极化铌酸锂波导为倍频系统,将硅基腔光机械系统所输出光信号做倍频处理,以线宽窄、器件成...
  • 本发明提供一种手表表冠检测方法、装置及检测系统,所述处理器若基于地磁数据确定当前环境磁场符合测试台的检测要求,控制夹爪设备的夹爪抓取待检测手表表冠,以对手表表冠进行检测处理;在所述手表表冠进行检测处理的过程中,基于待检测手表表冠的运行场景调...
  • 本发明公开了一种可重构衍射神经网络的动态全息生成方法及其系统,涉及光学计算与光信息处理技术领域,包括:S1、将输入图像使用振幅编码后加载到输入平面;S2、构建包括多个被动衍射层和多个可重构衍射层的衍射光学网络;S3、主光源通过均匀平面波照射...
  • 本发明公开了一种基于多约束优化的实‑复值级联神经网络全息重建方法,用于解决同轴全息重建技术中因非适定逆问题产生的孪生像伪影导致重建质量下降,以及因深度学习方法的黑箱特性带来的可解释性不足等难题,本发明的全息重建方法先将全息图开方得到振幅A作...
  • 本发明提供一种扩容的废粉仓结构,涉及激光打印机设备领域。该扩容的废粉仓结构,包括大容量硒鼓和感光鼓,其特征在于:临近所述感光鼓设置有废粉仓和刮刀,所述废粉仓连通有扩展废粉仓,所述大容量硒鼓装配到打印设备后,所述扩展废粉仓设置在废粉仓的重力方...
  • 本发明提供一种打印机硒鼓密封结构,涉及打印机硒鼓领域。该打印机硒鼓密封结构,包括壳体1、粉仓2、密封片5、给粉辊6、显影辊7、防漏片10和OPC12,壳体1内部的后端开设有粉仓2,壳体1两侧内壁下部的后端均转动连接有给粉辊6,壳体1两侧内壁...
  • 本申请公开了一种监控拼接区域对准精度的方法,包括:进行光刻拼接工艺后,通过扫描设备获取包含有拼接区域图形的扫描图像;通过所述扫描设备,基于所述扫描图像,识别所述拼接区域图形在第一方向上的关键尺寸,所述第一方向垂直于拼接方向;基于从所述扫描设...
  • 一种对准方法、半导体制造设备、可执行程序及存储介质。所述对准方法包括:获取模板上标记的图像;提取所述图像的轮廓信息;求取所述轮廓的最小包围矩形;基于矩形坐标信息求取中心点坐标和旋转角度。本发明的对准方法和设备能够实现微纳米级别的对准精度,适...
  • 一种对准方法、半导体制造设备、可执行程序及存储介质。所述对准方法包括:获取模板上标记的图像;提取所述图像的轮廓信息并对面积排序;对除了整个模板图像的、面积排序靠前的轮廓,检验其四个顶点的坐标是否满足正方形的位置关系:如果其中任一个是,则直接...
  • 本发明公开一种厚光刻胶的涂布方法,包括以下步骤:1)对待涂胶的晶圆进行预处理;2)采用分步滴胶和分步控制转速的方法令光刻胶成膜;3)对涂胶后的晶圆进行去边、清洗和干燥处理;4)对所述晶圆进行曝光和显影;5)对所述晶圆进行后烘处理;6)对所述...
  • 本披露公开了一种用于对晶圆进行失焦补偿的方法、半导体器件及相关产品。该方法包括:确定衬底产品的参考聚焦深度;根据平整的衬底样品在参考聚焦深度和浮动聚焦深度下光刻形成的关键尺寸,构建关键尺寸与变焦幅度的变化曲线;其中,浮动聚焦深度为在参考聚焦...
  • 本发明公开了一种用于接近式光刻机的套刻稳定性控制方法,方法在接近式光刻基于图像处理的对准技术基础上,使用预训练的方法提取特征形成标准化的对准模板图像,基于多次工艺实验,构建对准特征模板的支持集,进行训练与迭代优化,以建立对准模板模型库,通过...
  • 本申请属于光刻工艺领域,涉及一种光刻分辨率增强方法、装置、计算机设备及存储介质。所述光刻分辨率增强方法包括:获取系统参数信息;根据所述系统参数信息构建正向光刻模型,并基于所述正向光刻模型以进行目标图形为期望输出进行迭代求解,得到最优波前相位...
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