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最新专利技术
  • 全息图生成方法、全息图生成装置以及光照射装置
    全息图生成方法、全息图生成装置以及光照射装置_浜松光子学株式会社_202510783798.X
    本发明涉及全息图生成方法、全息图生成装置以及光照射装置。全息图生成方法具有图案设定步骤(S1)、强度图像计算步骤(S2)、评价值计算步骤(S3)等。在步骤(S2)中，对将在步骤(S1)中设定的候补图案提示于输入面时得到的复振幅分布进行零填充...
    2026-03-22
  • 保护层形成装置和图像形成装置
    保护层形成装置和图像形成装置_株式会社理光_202510593135.1
    本发明提供一种兼具长期的像承载体的保护性和清洁性的、能够形成像承载体保护层的保护层形成装置和图像形成装置。使用与像承载体表面抵接的润滑剂涂布刮板，在像承载体表面涂布润滑剂，形成像承载体保护层的保护层形成装置，其特征在于：所述润滑剂为脂肪酸金...
    2026-03-22
  • 打印头及打印机
    打印头及打印机_武汉华星光电技术有限公司_202511589256.5
    本申请提供一种打印头及打印机，打印头包括基板、设置在基板上的发光阵列和设置在基板上的温度传感器；发光阵列包括多个发光单元；温度传感器，用于监测发光单元在目标工况下的实时温度；时序控制器，用于基于目标工况和预测模型确定预测温度，根据实时温度和...
    2026-03-22
  • 对准结构、半导体结构以及半导体结构的制造方法
    对准结构、半导体结构以及半导体结构的制造方法_深圳市昇维旭技术有限公司_202511698385.8
    本申请属于半导体制造领域，具体涉及一种对准结构、半导体结构以及半导体结构的制造方法，对准结构设置于基底上，对准结构包括多个沿第一方向间隔排布的第一部分和连接于相邻第一部分之间的第二部分，第一部分包括底层和位于底层上的图案层，图案层包括多个间...
    2026-03-22
  • 光刻对准标记、制备方法、对准装置和对准方法
    光刻对准标记、制备方法、对准装置和对准方法_普雨科技(苏州)有限公司_202511545511.6
    本申请提供了一种光刻对准标记、制备方法、对准装置和对准方法，可以应用于光刻对准技术领域。该光刻对准标记包括：在第一对准面的上表面沿第一方向周期性排列的多条第一直条纹；以及在第二对准面的下表面沿第一方向周期性排列的多条第二直条纹；第一直条纹与...
    2026-03-22
  • 光刻胶的去除方法和去除装置以及光刻工艺的返工方法
    光刻胶的去除方法和去除装置以及光刻工艺的返工方法_合肥晶合集成电路股份有限公司_202511666449.6
    本申请公开了光刻胶的去除方法和去除装置以及光刻工艺的返工方法，该光刻胶的去除方法包括：提供一衬底，衬底表面有光刻胶；利用不同方向有浓度差的刻蚀气体刻蚀光刻胶，形成不规则胶层结构；对不规则胶层结构进行湿法剥离处理；对剥离不规则胶层结构后的衬底...
    2026-03-22
  • 一种基于激光选区剥离辅助构建金属基微透镜阵列的方法
    一种基于激光选区剥离辅助构建金属基微透镜阵列的方法_北京理工大学_202511481755.2
    本发明公开了一种基于激光选区剥离辅助构建金属基微透镜阵列的方法，属于微纳光学结构制造技术领域，首先对金属基底进行表面预处理，随后旋涂光刻胶并进行紫外固化，形成抗蚀掩膜层；采用计算机程序控制的高分辨率激光束对掩膜层进行选区去除，实现无掩膜可编...
    2026-03-22
  • 一种光学邻近校正方法及装置
    一种光学邻近校正方法及装置_华芯程(杭州)科技有限公司_202511678316.0
    本发明公开了一种涉及集成电路生产领域，特别是涉及一种光学邻近校正方法及装置，通过接收晶片表面形貌图案、目标晶片图案及照射光强；将所述晶片表面形貌图案与预设的名义光刻胶厚度，输入预训练的光刻胶厚度分布模型，得到对应的光刻胶厚度分布；根据所述光...
    2026-03-22
  • 大幅面薄膜功能结构激光直写装置以及方法
    大幅面薄膜功能结构激光直写装置以及方法_北京工业大学_202511585419.2
    本发明提供一种大幅面薄膜功能结构激光直写装置以及方法，应用于激光加工技术领域，包括：退卷辊用于承载并释放待加工的薄膜；盛料装置及同步上料部件用于储存直写浆料，并在薄膜经过时，将直写浆料均匀涂敷于薄膜的表面，形成浆料层；烘干区域用于对涂敷有浆...
    2026-03-22
  • 一种电子束曝光机工件台可变速连续运动曝光方法及系统
    一种电子束曝光机工件台可变速连续运动曝光方法及系统_中国电子科技集团公司第四十八研究所_202511572780.1
    本发明公开了一种电子束曝光机工件台可变速连续运动曝光方法及系统，方法包括：S1.进行工件台移动路径规划、图形划分及曝光窗设计；S2.基于图形划分和曝光窗设计，进行工件台速度规划设计；S3.进行工件台位置速度测量及曝光设计；实时测量工件台的位...
    2026-03-22
  • 一种真空吸笔
    一种真空吸笔_美新半导体(绍兴)有限公司_202511569769.X
    本发明提供一种真空吸笔，其包括：笔柄；真空吸管，其设置于笔柄内；外软管，其位于笔柄外且位于笔柄的一端，外软管的一端与真空吸管的一端密封连接并内部连通；连接管，其位于笔柄的另一端，连接管的顶部设置有一个顶部端口，连接管的侧壁上依次间隔的设置有...
    2026-03-22
  • 曝光方法、系统及计算机存储介质
    曝光方法、系统及计算机存储介质_武汉新芯集成电路股份有限公司_202511564502.1
    本发明提供一种曝光方法、系统及计算机存储介质，曝光方法包括：获取历史曝光能量数据以及对应的历史生产信息；将所述历史曝光能量数据按照所述历史生产信息的不同种类进行分组，以建立数据库；将待曝光的光刻胶层的新生产信息与所述数据库中的各组对应的所述...
    2026-03-22
  • 曝光光学补偿系统、曝光光学补偿方法及曝光机
    曝光光学补偿系统、曝光光学补偿方法及曝光机_昆山龙腾光电股份有限公司_202511554120.0
    本发明实施例公开了一种曝光光学补偿系统、曝光光学补偿方法及曝光机。该系统包括曝光工作台端检测模块、控制模块、位置调整模块以及入力功率调整模块；控制模块在第一曝光光照强度小于目标曝光光照强度时，控制位置调整模块调整聚光镜在第一移动范围内移动，...
    2026-03-22
  • 一种激光干涉光刻增大电传导面积的加工装置及方法
    一种激光干涉光刻增大电传导面积的加工装置及方法_长春理工大学_202511516201.1
    本发明公开了一种激光干涉光刻增大电传导面积的加工装置及方法，属于激光干涉光刻技术领域。一种激光干涉光刻增大电传导面积的加工装置，包括激光光源，所述激光光源之后固定有光阑，所述光阑之后固定有快门，所述快门之后固定有衍射分束器，所述衍射分束器之...
    2026-03-22
  • 一种用于光刻机照明系统的光源阵列对准装置及方法
    一种用于光刻机照明系统的光源阵列对准装置及方法_中国科学院上海光学精密机械研究所_202511507847.3
    一种替代微反射镜阵列的光源阵列对准装置及方法，由光源阵列组件、成像组件、反射组件、基准块、石英板及装调方法组成。光源阵列组件包括：电控盒、阵列安装框、光源阵列、控制电路板和水冷板。成像组件包括：镜组、镜框组、成像镜筒、外筒及转环(定环、动环...
    2026-03-22
  • 光学模型的参数选取方法、OPC光学模型、OPC方法
    光学模型的参数选取方法、OPC光学模型、OPC方法_重庆芯联微电子有限公司_202511464772.5
    本发明提供了一种光学模型的参数选取方法、OPC光学模型、OPC方法，所述参数选取方法包括获取待OPC版图在建立光学模型时的初始光学参数；基于初始的光刻机最佳成像平面参数，以待OPC版图中的第一类图案作为锚点图案进行光学阈值优化，获得不同成像...
    2026-03-22
  • 一种用于曝光设备的掩模版自动换版系统及方法
    一种用于曝光设备的掩模版自动换版系统及方法_三河建华高科有限责任公司_202511451621.6
    本发明公开了一种用于曝光设备的掩模版自动换版系统及方法，涉及半导体器件制造领域，包括：工作台，其上设有用于安装掩模版的掩模版安装面、可升降的接版柱以及用于对放置于掩模版安装面上的掩模版进行位置调节的调节机构，接版柱上设有第一真空吸附结构，第...
    2026-03-22
  • 一种高速可变数值孔径的振镜刻写系统及刻写方法
    一种高速可变数值孔径的振镜刻写系统及刻写方法_杭州玉之泉精密仪器有限公司_202511235793.X
    本发明公开一种高速可变数值孔径的振镜刻写系统及刻写方法包括：激光器；分束光路；刻写光路；还包括光束调制模块和振镜扫描模块，光束调制模块位于激光器和分束光路之间，振镜扫描模块位于分束光路和刻写光路之间；光束调制模块包括沿光束传播方向依次设置的...
    2026-03-22
  • 图案生成方法、装置、设备、介质及产品
    图案生成方法、装置、设备、介质及产品_北京超弦存储器研究院_202410760609.2
    本申请涉及一种图案生成方法、装置、设备、介质及产品。方法包括：获取输入图案及其对应的输入光强图；采样处理目标图案的图像参数空间分布信息，得到标签信息；根据输入图案、输入光强图、标签信息以及训练好的目标机器学习模型，至少生成初始图案；根据初始...
    2026-03-22
  • 一种高分辨正性光刻胶组合物及其制备方法和光刻结构
    一种高分辨正性光刻胶组合物及其制备方法和光刻结构_阜阳欣奕华新材料科技股份有限公司_202511468823.1
    本发明提供一种高分辨正性光刻胶组合物及其制备方法和光刻结构，涉及光刻技术领域。所述高分辨正性光刻胶组合物，包括酚醛树脂、光敏剂共聚物成膜树脂、重氮萘醌类光敏化合物和溶剂；光敏剂共聚物成膜树脂为第一光敏化合物、第二光敏化合物和第三光敏化合物中...
    2026-03-22
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