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  • 本发明涉及一种光伏组件及其制备方法。上述光伏组件包括电池片、焊带以及粘接部件。电池片具有第一侧边,焊带设置在电池片上并从第一侧边延伸而出,以连接于相邻的电池片。粘接部件粘接电池片和焊带,粘接部件包括第一粘结点以及第二粘结点,第一粘结点在焊带...
  • 本发明实施例提供了一种光伏组件极光伏组件的制备方法,涉及光伏建筑技术领域。光伏组件由光伏组件的制备方法制备得到,光伏组件包括背板与发电面板,背板沿厚度方向具有相对的第一侧与第二侧,第一侧设置密封件,密封件绕第一侧的周向设置于第一侧的外边缘,...
  • 本发明公开了一种柔性封装薄膜,所述柔性封装薄膜表面设有抗原子氧层,且所述抗原子氧层通过溶液法或真空沉积法沉积在所述柔性封装薄膜表面。本发明制备得到的柔性封装薄膜材料,可解决现有封装材料在空间环境中面临的紫外辐射老化、原子氧腐蚀、光学性能退化...
  • 本公开供了一种光伏组件的制备方法、光伏组件及光伏封装胶膜。该光伏组件的制备方法包括如下步骤:在第一封装板上设置第一封装胶膜,第一封装胶膜上设置有排气通槽;在第一封装胶膜上设置太阳电池片,太阳电池片具有相对的第一表面和第二表面,第一表面靠近第...
  • 本申请涉及一种太阳电池包边光固模组、包边光固装置及包边光固方法,太阳电池包边光固模组包括上盖板和下盖板,下盖板设有承料台以及外露于承料台周围的第一UV曝光部,上盖板设有遮挡薄膜以及外露于遮挡薄膜周围的第二UV曝光部,上盖板用于与下盖板上下对...
  • 本申请涉及一种太阳电池及其制备方法、光伏组件。上述太阳电池包括硅衬底,硅衬底具有相对的第一表面和第二表面,在硅衬底的第一表面依次层叠设置有第一本征非晶硅层、第一掺杂硅层、TiOx层和第一透明导电层,在硅衬底的第二表面依次层叠设置有第二本征非...
  • 本公开提供了一种背接触太阳电池及其制备方法、光伏组件。该背接触太阳电池包括硅衬底、第一掺杂层、第二掺杂层和导通辅助体;第一掺杂层和第二掺杂层的掺杂类型不同,第一掺杂层和第二掺杂层间隔设置于硅衬底上,第一掺杂层和第二掺杂层之间具有位于硅衬底上...
  • 本发明公开一种太阳电池及其制备方法、光伏组件,该太阳电池包括半导体衬底;设置于半导体衬底表面的P型导电膜层和N型导电膜层;第一电极和第二电极;在半导体衬底的表面中,与P型导电膜层接触的区域设置有第一纹理结构,与N型导电膜层接触的区域设置有第...
  • 本申请涉及太阳电池技术领域,尤其涉及一种太阳电池及其制备方法、光伏组件。该太阳电池包括硅衬底、第一介质层以及第一掺杂多晶硅层。硅衬底具有相背设置的两个表面且至少一个表面上具有图形化的抛光结构以及绒面结构,在硅衬底的厚度方向上,绒面结构的平均...
  • 本申请提供了一种静电保护结构及制备方法、静电保护电路。该静电保护结构包括:衬底、形成于所述衬底的具有第二掺杂类型的阱区、形成于阱区表面的栅极结构以及形成栅极结构两侧阱区中的漏极区域和源极区域;所述漏极区域至少包括具有第一掺杂类型的第一漂移区...
  • 本发明提供了一种单向超低压静电保护器件,包括TVS主器件和低电压触发单元,TVS主器件包括N型重掺杂衬底和P型外延层,所述P型外延层内设有第一P+重掺杂有源区、N+重掺杂有源区和第二P+重掺杂有源区,第一P+重掺杂有源区、N+重掺杂有源区和...
  • 为了实现能够有效利用空间的显示装置,本发明提供一种显示装置,配备有:第一半导体层,布置在基板上;第一栅极绝缘层,覆盖所述第一半导体层;第一栅极层,布置在所述第一栅极绝缘层上;第一层间绝缘层,覆盖所述第一栅极层;第二栅极层,布置在所述第一层间...
  • 本发明公开了一种显示面板及其制备方法、显示装置,显示面板包括衬底、电路层、发光层、焊盘限定层和转接层,焊盘限定层位于电路层远离发光层的一侧,且内嵌于衬底内;焊盘限定层包括多个限定单元,一个限定单元用于限定一个绑定点位;绑定点位位于衬底远离发...
  • 提供了显示装置和电子装置。该显示装置包括基板、电路层和元件层,其中,电路层包括发射像素驱动单元、数据线、第一辅助线、第二辅助线和栅初始化电压线。发射像素驱动单元包括在第二方向上彼此相邻设置的第一发射像素驱动单元和第二发射像素驱动单元。栅初始...
  • 提供了一种显示装置、一种制造显示装置的方法和一种包括显示装置的电子装置。所述显示装置包括:像素电路层,包括基体层、设置在基体层上的第一晶体管和设置在基体层上的第二晶体管,第一晶体管包括第一有源层、设置在第一有源层上的第一上栅极导电层、以及相...
  • 本公开提供了一种半导体结构以及制备半导体结构的方法,该方法包括:在衬底的表面上沉积富陷阱层;对富陷阱层施加超声波处理,以减小富陷阱层中的晶粒尺寸至30nm至150nm的范围。
  • 本发明提供了一种射频开关电路及形成方法,包括:在顶层硅内均形成若干个间隔设置的第一浅沟槽隔离结构和若干间隔设置的有源区;将有源区前两级作为第一区,其余作为第二区,刻蚀第一区的第一浅沟槽隔离结构、埋氧层和部分厚度的底层硅,以形成间隔设置的第二...
  • 本发明涉及一种半导体结构及其制备方法,涉及半导体技术领域,该半导体结构包括基底以及栅极结构。其中,基底包括多个有源区以及隔离有源区的隔离结构,有源区具有本体部以及褶皱结构,在垂直于基底的方向上,褶皱结构位于本体部的一侧,在第一方向上,本体部...
  • 提供了一种多堆叠半导体器件,其包括:具有各自在第一水平方向上延伸的第一背侧线和第二背侧线的背侧布线层;在背侧布线层上并且包括下源极/漏极区的第一FET;在第一FET上并且包括上源极/漏极区的第二FET;以及具有在垂直于第一水平方向的第二水平...
  • 提供了一种半导体器件及其制造方法。示例半导体器件包括:衬底;沟道层,沟道层设置在衬底上;栅极结构,栅极结构围绕沟道层;源极/漏极图案,源极/漏极图案与沟道层的两侧连接;下布线结构,下布线结构设置在衬底下方;和绝缘图案,绝缘图案延伸穿过衬底并...
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