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  • 本申请提供了一种MEMS探针局部表面镀膜方法、应用和装置,其中方法包括:制备适配掩膜,将掩膜与MEMS探针对位固定,通过将沉积源设于两个垂直相邻面的法线之间,使沉积方向朝向两者相交位置,让沉积粒子束能同时覆盖两个垂直面,无需分步骤分次镀膜,...
  • 本申请公开了一种掩膜板及蒸镀装置,属于显示技术领域。本申请提供的掩膜板包括:层叠设置的第一掩膜层和第二掩膜层,第一掩膜层具有多个开孔,第二掩膜层包括围绕多个开孔分布的多个支撑部。由于在第一边界的延伸方向上,第一支撑部的宽度由第一支撑部的一端...
  • 本发明公开了一种用于狭缝涂布模具表面的DLC基涂层材料及其制备方法。所述DLC基涂层材料包含元素Al、C构成Al‑DLC涂层材料或包含元素Al、C、N构成Al/N‑DLC涂层材料。制备方法为:采用非平衡磁控溅射技术,通过溅射石墨靶、Cr靶和...
  • 本发明公开了一种含δ‑MoN氮化钼基涂层,含δ‑MoN氮化钼基涂层中Mo含量为45‑60at.%,N含量为30‑45at.%,Cu含量为0‑15at.%。本发明具有以下优点和效果:δ‑MoN氮化钼基涂层的易氧化性能快速形成润滑减摩的摩擦膜,...
  • 本发明公开了传热系数可变的中置百叶窗及其铝合金百叶的制备方法,制备方法包括以下步骤:S1、在铝合金百叶的两端开设通孔;S2、对铝合金百叶预处理去除氧化层;S3、铝合金百叶从内到外的顺序,依次沉积TiO2、Ag、Ti、TiO2、ZrO2五层膜...
  • 本申请公开了一种PVD镀件重工的方法及PVD镀件重工制品,PVD镀件重工的方法包括:提供金属件,金属件包括金属基材、阳极氧化膜层以及PVD膜层,金属基材的表面具有腐蚀区域,阳极氧化膜层覆盖包括腐蚀区域的金属基材的表面,PVD膜层覆盖阳极氧化...
  • 本发明涉及一种用于碳化硅单晶的双面增透膜及其制备方法。所述用于碳化硅单晶的双面增透膜的结构包括:碳化硅基底,所述碳化硅基底包括相背的第一表面和第二表面;沉积于所述第一表面的第一镀膜膜层;以及,沉积于所述第二表面的第二镀膜膜层。
  • 本发明提供了一种光热调控多层薄膜及其制备方法,属于光学薄膜技术领域,该薄膜包括自下而上依次溅射沉积在石墨基底表面的第四薄膜层、第三薄膜层、第二薄膜层和第一薄膜层;其中,所述第一薄膜层与所述第二薄膜层用于实现可见光结构色调控和力学防护,所述第...
  • 本发明涉及表面工程与功能涂层技术领域,公开了一种薄膜型热障复合涂层及其制备方法与应用,其中,制备方法包括步骤:采用高能脉冲磁控溅射方法在基体表面沉积金属粘结层,所述金属粘结层的材料为NiCrAlY或NiCoCrAlY;采用高能脉冲磁控溅射方...
  • 本发明涉及一种面心立方反铁磁γ‑CoMn合金单晶薄膜及其制备方法,属于凝聚态物理材料技术领域。所述面心立方反铁磁γ‑CoMn合金单晶薄膜包括由下至上依次设置的衬底、缓冲层和γ‑CoMn合金单晶薄膜;所述γ‑CoMn合金单晶薄膜的化学组成为γ...
  • 本发明是真空镀膜设备风冷缓存回流机构,其结构是风冷升降组件设置在回流移栽平台一端两侧,回流升降组件设置在另一端两侧,回流升降组件上方为导片机机架。风冷升降组件作为从工艺腔体出来的热金属舟冷却工位。回流移栽平台位于风冷升降组件和回流升降组件下...
  • 本发明属于光学元件制造设备的技术领域,具体涉及一种光学镀膜卸镜片设备及镜片取放方法,包括机架、镀膜伞、三维运动模组、取放机构、以及摇篮机构,所述三维运动模组用于驱动取放机构在三维空间内运动,以使取放机构定位至经摇篮机构调整后的镀膜伞上的任一...
  • 本发明公开了一种光学镜片加工用镀膜系统,属于镀膜领域,包括镀膜设备主体,所述镀膜设备主体一侧的外表面固定安装有控制件,并且镀膜设备主体一侧外表面转动连接有密封门,所述镀膜设备主体的顶部设置有滑动机构,所述滑动机构用于对镀膜后的镜片移出方便对...
  • 本公开提供了一种镀锅及蒸镀装置,属于半导体制备技术领域。镀锅包括:镀锅本体、管道和多个晶圆载台,所述多个晶圆载台分布在所述镀锅本体上,所述晶圆载台包括承载板,所述承载板中具有间隔布置的多个通气孔,所述管道的一端与所述晶圆载台连接且与所述通气...
  • 本申请公开了一种导光板反光层的蒸发镀膜设备,涉及导光板加工的技术领域,包括机体、转动架、多个定位装置、驱动装置、靶材架和蒸发装置;所述机体的内部具有镀膜空间,所述转动架转动设置于所述镀膜空间中;所述定位装置包括转动座、挡板和两个定位组件;所...
  • 本申请保护一种自反应放热箔制备方法及自反应放热箔应用方法,自反应放热箔制备方法包括至少如下步骤:将氧化石墨烯粉末溶解到无水乙醇中,配置石墨烯分散液;将所述石墨烯分散液旋涂至基底,烘烤所述基底以得到石墨牺牲层;在所述石墨牺牲层上沉积放热箔;将...
  • 本发明公开了一种反应式等离子体镀膜设备,包括:具有真空腔的镀膜室;靶座,设置于真空腔内,靶座用于承载靶材;等离子体发生器,设置于镀膜室的侧部,等离子体发生器用于向靶材发出电子束,以使靶材升华并解离成靶材离子;传送系统,用于运载衬底,传送系统...
  • 本发明提供一种溅镀用钛靶及其制造方法、以及含钛薄膜的制造方法。具体的,本发明提供一种具有平均晶体粒径为1μm以下的重结晶组织的溅镀用钛靶。另外,本发明还提供一种溅镀用钛靶的制造方法,包括以下步骤:对已切割的钛锭进行大应变加工而得到加工板的步...
  • 本发明提供了一种固态电池用磷酸锂靶材及其制备方法和应用。包括背板和设于所述背板表面的靶材本体,所述靶材本体的制备原料包括LiPO4粉末、碳粉、La2O3粉末和X的氧化物,其中,X为Ti、Zr、Ta、Nb中的一种或两种。本发明靶材通过碳粉、L...
  • 本发明提供了一种耐压型蓝宝石窗口低粗糙度氧化物三波段增透膜及其制备方法。制备方法包括如下步骤:S1.蓝宝石基片预处理;S2.采用离子束溅射交替镀制低折射率膜和高折射率膜,其中低折射率靶材为掺杂氧化铝的氧化硅,氧化铝的掺杂量为靶材质量的1.1...
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