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  • 本发明属于吸波材料技术领域,具体为一种阻燃宽频吸波材料及应用,包括若干个周期性排布的吸波单元结构,每个吸波单元结构包括四个吸波模块;每个吸波模块包括底座和并排设置于底座上的两个梯形棱柱;每个梯形棱柱中的梯形横截面与底座垂直;相邻两个吸波模块...
  • 本说明书公开一种基于电磁屏蔽性能监控的前梁控制方法,包括:在Ek+组合前梁结构中布设电磁干扰监测阵列,电磁干扰监测阵列由多个微型传感器组成,包括微型电磁场传感器与接触电阻传感器,并布置在前梁结构的接缝和连接处;通过前梁控制单元实时采集电磁干...
  • 本发明涉及微波吸收材料技术领域,尤其涉及一种利用造纸污泥制备复合微波吸收材料的方法及应用。该方法包括(1)对造纸污泥进行干燥、研磨、筛分,获得粒径适中的造纸污泥粉体原料;(2)配制凝胶诱导剂‑九水合硝酸铁溶液;(3)称取步骤(1)制得的粉体...
  • 本发明公开了一种用于原子传感器的紧凑型局部磁屏蔽装置。该装置包括局部磁屏蔽罩和第二原子气室,局部磁屏蔽罩采用高磁导率软磁材料制成的双层或多层嵌套式腔体结构,第二原子气室设置于最内层腔体内。装置集成有微型加热元件、温度传感器和可选的磁补偿线圈...
  • 本发明公开了一种基于磁流变相变材料的抗电磁干扰壳体及其制备方法,通过梯度阻抗匹配设计、磁流变材料动态调控及遗传算法优化,实现了壳体厚度薄(7.6mm)、吸收带宽宽(6.6GHz)、在11.4‑18.0GHz频段内反射损耗≤‑10dB的特点,...
  • 本发明涉及吸波材料技术领域,尤其涉及一种磁损耗型吸波材料、多层吸波材料及其制备方法,所述多层吸波材料由上至下依次包括隔热层、透波层、磁损耗型吸波层、反射层和承载层;本发明制备出的多层吸波材料,通过多层结构设计,达到对电磁波的阻抗匹配效果,从...
  • 本发明公开了一种温度响应吸波超材料及其制备方法和应用。本发明的温度响应吸波超材料的组成包括吸波基底和花状结构单元,花状结构单元的组成包括吸波正棱柱和吸波‑热响应片,吸波正棱柱的底面与吸波基底连接,吸波正棱柱的任一侧面均连接有吸波‑热响应片,...
  • 本发明公开了一种榫卯式拼接铁氧体磁屏蔽装置及方法,针对现有铁氧体磁屏蔽存在整体尺寸受限、漏磁严重、多层适配难、成本高且维护灵活性差,以及医疗设备、高精度原子磁力仪对复杂磁环境的严苛屏蔽需求,通过引入“模块化扇环单元+榫卯互锁结构”的核心设计...
  • 本申请涉及电气工程技术领域,具体涉及一种基于多点贴装的位置近似估计方法、装置和存储介质,本方案包括:获取目标PCB板中全部贴装点的初始坐标数据,得到第一坐标数据集;按照预设筛选规则遍历第一坐标数据集,筛选得到第一横坐标和第一纵坐标;根据第一...
  • 本发明涉及贴片机技术领域,具体涉及一种半导体纳米银预烧结贴片生产热压贴头组件,包括座板以及驱动座板直线移动的直线驱动组件,所述座板上转动设有转盘,转盘上沿其圆周方向可拆卸设有均匀分布的若干个贴头结构,所述座板上设有用于对贴头结构进行恒压推动...
  • 本发明涉及电路板加工技术领域,具体为电路板加工设备及方法,包括加工机架和板件输送架,所述加工机架顶部的正面固定设置有板件输送架,所述加工机架内部的左侧设置有预处理槽,且加工机架顶部的右侧还设置有加工支撑架。本发明通过将上料夹持、预处理、贴片...
  • 本发明公开了一种汽车安全带线束用PCB板自动装配设备,属于自动装配技术领域,包括支撑座,所述支撑座的侧面固定安装有侧架,所述侧架内贯穿连接有第一直线移动单元,所述第一直线移动单元外传动连接有移动架;本发明中,采用第三电动伸缩杆、顶框、第一压...
  • 存储器器件包括:第一下部外延源极/漏极区域,邻近第二下部外延源极/漏极区域;第一下部栅电极,邻近第一下部外延源极/漏极区域的第一侧;第二下部栅电极,邻近第二下部外延源极/漏极区域的第二侧,其中,第二侧与第一侧相对;介电层,位于第一下部外延源...
  • 本公开提供一种半导体元件。该半导体元件包括一基底、一第一间隙子、一第二间隙子、一第三间隙子、一第四间隙子、一电容器接触件、一隔离元件以及一着陆垫。该第一间隙子及该第二间隙子位在该基底上方且沿着一第一方向延伸。该第三间隙子及该第四间隙子位在该...
  • 本申请案涉及存储器电路系统及用于形成存储器电路系统的方法。存储器电路系统包括绝缘材料及存储器单元的竖直交替层级。存储器单元个别地包括晶体管,晶体管具有水平介于第一与第二源极/漏极区之间的沟道区及操作性地接近沟道区的栅极。存储器单元包括电容器...
  • 本申请涉及半导体装置。一种设备包含:衬底;第一区,其在所述衬底上;第二区,其在所述衬底上;至少一个第一晶体管,其包含设置在所述第一区中的第一栅极结构;至少一个第二晶体管,其包含设置在所述第二区中的第二栅极结构;三棱柱形侧壁,其在所述第二栅极...
  • 半导体器件可以包括:在基板上的晶体管;在晶体管上的第一布线结构;在第一布线结构上的第一接合焊盘结构;第二布线结构,在第一布线结构上的并且在水平方向上与第一接合焊盘结构至少部分地重叠;第二接合焊盘结构,在第二布线结构上且与第二布线结构间隔开,...
  • 本申请提供了一种半导体器件的制备方法及半导体工艺设备,属于半导体技术领域,该制备方法包括:形成堆叠结构,堆叠结构包括交替堆叠的至少一层第一材料层及至少一层第二材料层;执行至少一次刻蚀工艺步,以沿着堆叠结构的侧壁横向刻蚀第一材料层或第二材料层...
  • 本发明提供一种改善半导体器件边缘密度效应的工艺方法,涉及半导体技术领域。该工艺方法包括:在基底上形成电容器结构,电容器结构所在区域划分为阵列区和有源区;电容器结构至少包括沿第一方向叠摞设置的层叠结构,且层叠结构的阵列区布置有多个并列间隔排布...
  • 本发明提供了一种电容刻蚀方法,涉及半导体加工技术领域,以解决电容孔刻蚀精度不高的问题。电容刻蚀方法包括:硬掩模层沉积,在基底上沉积第一硬掩模层,第一硬掩模层为钨碳基硬掩模层;光刻图案化,在第一硬掩模层上形成预设图案;硬掩模层刻蚀,图案传递至...
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