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  • 本申请提供了核酸扩增产物检测方法、引物组合物及试剂盒。该引物组合物包括:第一引物组,所述第一引物组包括上游引物和下游引物,所述第一引物组中包括至少一条修饰引物,所述修饰引物5'端具有标记荧光基团或淬灭基团;和探针,所述探针适于与所述修饰引物...
  • 本发明涉及一种用于确定人类皮肤的预测皱纹等级的方法,该方法包括提供人类皮肤细胞,确定至少一个CpG‑二核苷酸的甲基化水平或至少一个基因的表达水平,以及通过将所述确定的甲基化水平与表示至少一个人类个体的CpG‑核苷酸的甲基化水平与视觉皱纹等级...
  • 本发明提供一种使用来自受试者的样本(例如血浆样本)以确定子宫内膜状态的方法,包括:(a)对来自受试者的血液样本进行测定以确定miRNA表达图谱,其中miRNA表达图谱包括多个个miRNA的表达水平,以及(b)使用基于计算机的机器学习模型分析...
  • 本发明提供用于检测人类受试者的创伤后应激障碍(PTSD)的方法,所述方法包含:获取从人类受试者获得的细胞样本;以在计算机上执行的第一计算机程序测量来自所述细胞样本的一种或更多种PTSD相关基因的测试基因表达水平,其中,所述PTSD相关基因选...
  • 通过KRAS突变来关联AKR1C3酶表达水平及医药用途。AKR1C3酶激活的抗癌前药可以直接使用KRAS基因突变作为用药前检测目标,即KRAS突变患者即是AKR1C3酶高表达的患者而无需进行AKR1C3酶表达水平或AKR1C3RNA检测,也...
  • 本发明提供了一种用于制备硫酸镍或硫酸钴溶液的半分批方法,由此硫酸和过氧化氢通过进料区段周期性地进料到反应区,并且由此酸性水性介质通过反应器循环,直到分别在所述硫酸镍或硫酸钴溶液中达到预定浓度的镍或钴为止。
  • 本发明提供了一种用于从包含镍和钴的水性混合金属溶液选择性地萃取钴的多级溶剂萃取方法,其中每个溶剂萃取级以将水性相中的镁浓度维持在高于预定的镁浓度为特征。
  • 本发明公开了一种铁铝渣和尾渣的协同沉降方法。该协同沉降方法包括如下步骤:取红土镍矿高压浸出料浆依次进行循环浸出处理和预中和处理,得到预中和浆料,随后进行多级CCD洗涤,得到CCD溢流液;对CCD溢流液依次进行一段除铁铝和二段除铁铝处理,一段...
  • 本公开提供了包含稀土金属(诸如Ce、La或混合稀土金属)、Zn和Mg的铝合金组合物,适用于高压压铸,其可以被热处理以实现与通过高压压铸(HPDC)铸造的现有Al合金相比增加的强度。该合金还在对通过重力压铸(GDC)或低压压铸(LPDC)制造...
  • 本发明涉及不锈钢钎焊用合金及钎焊接头。更详细地,本发明涉及一种不锈钢同种管道之间或不锈钢和铜异种管道之间钎焊时优选可应用的不锈钢钎焊用合金及钎焊接头。
  • 本发明涉及铝合金的轧制电池电极箔,所述铝合金包含0.06至0.16重量%的Si、0.41至1.0重量%的Fe、≤0.25重量%的Cu、≤0.10重量%的Mn、≤0.03重量%的Mg、≤0.05重量%的Zn、0.001至0.030重量%的Ti...
  • 本发明涉及用于制造含二次铝份额的压铸铝合金的方法,该压铸合金除了铝之外还具有硅、铁、锰和镁作为合金组分。在此规定,根据压铸合金的镁含量将压铸合金的至少一种成分的份额调节为,使得在压铸合金冷却时形成含镁的初生相。本发明还涉及含二次铝份额的压铸...
  • 一种钢板及其制造方法,钢板具有规定的化学组成,在表面里层中,加工贝氏体相为30%以上、加工铁素体相和未加工贝氏体相的合计为70%以下、以及多边形铁素体相、珠光体相和马氏体/奥氏体混合相的合计为30%以下,与板宽方向垂直的截面的加工贝氏体相的...
  • 即使在板厚:超过30mm的情况下,也提供抗拉强度:535MPa以上、DWTTSA‑30℃‑30℃为85%以上、HAZ韧性优异的包层钢板及其制造方法。在母材钢板的单面或双面接合有包层材料的包层钢板,其中,母材钢板具有含有规定量的C、Si、Mn...
  • 本发明的钢板以重量%计可以包含:C:0.008‑0.015%、Si:0.200%以下、Mn:1.30‑2.00%、Cr:0.5‑1.0%、P:0.030%以下、S:0.010%以下、N:0.0020‑0.0080%、Al:0.010‑0.0...
  • 本申请提供一种能够高精度地预测熔融镀锌钢带的镀敷附着量的镀敷附着量预测方法。镀敷附着量预测方法在具有使由退火部退火后的钢带浸渍于镀锌浴中的镀敷处理部的熔融镀锌钢带的制造设备中,预测熔融镀锌钢带的镀敷附着量,其中,所述镀敷附着量预测方法具有:...
  • 本发明涉及一种用于制造用于沉积薄膜的芯片(40)的方法,包括:a)在绝缘或半导体材料的衬底(4)上形成多个测量电极(2),每个电极具有中央部分和朝向衬底(4)的表面倾斜的边缘;b)形成沉积掩模(6),沉积掩模(6)限定沉积窗口(8),所述掩...
  • 在衬底上选择性沉积硅氧化物的方法包括:使衬底暴露于含硅抑制剂,以使含硅抑制剂选择性地吸附至衬底的金属表面。含硅抑制剂包括一个或更多个有机配体。该方法还包括:通过使衬底暴露于含金属前体以使含金属前体吸附至介电表面,以在衬底的介电表面上形成催化...
  • 本发明涉及一种通过等离子体处理容器以便在所述容器的内壁和/或外壁上沉积阻隔涂层的容器处理设备(9),所述设备(9)被定位在容器的制造单元(2)和所述容器的灌装单元(10)之间,其显著特征在于,该容器处理设备包括:用于分配容器的至少一个分配输...
  • 本发明公开了一种在基板的表面上制备稀土金属氧化物膜的方法。该方法包括在反应空间中以任意顺序交替进行以下步骤:a)将沉积表面暴露于氧的醇系前驱物,使得氧的醇系前驱物的至少一部分被吸附到基板的沉积表面上,并且随后用惰性气体吹扫沉积表面1‑180...
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