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加工时间预测装置
在通过简易计算高速地估计加工时间和/或运算时间的同时,以需要运算时间但精度高的加工时间和/或运算时间进行更新。加工时间预测装置(1)具有:简易预测部(10),其读入并解释NC指令,至少根据每个程序块的距离和进给速度或时间来计算第一程序块移动...
用于运行液压设备的方法
本发明涉及用于在使用操作设备的情况下运行液压设备的方法,所述操作设备借助于数据连接能与液压设备连接,所述方法包括:如果与操作设备(50)和液压设备(20)之间的数据连接有关的连接状态的即将发生的改变(200、202)被识别:则确定(204)...
安装法兰连接的方法、螺栓张紧装置的使用、计算机程序产品、计算机程序产品的使用及存储介质
本发明涉及一种安装法兰连接的方法,所述方法由多个步骤组成。首先,确定第一法兰和第二法兰的法兰参数。随后,通过分析确定螺栓系统的伸长行为,以及螺栓和法兰主体的轴向刚度。随后,为了避免疲劳损伤,确定最大允许间隙尺寸。最后考虑这些间隙尺寸和安装预...
包括发光结构的电子装置
根据本公开的各种实施例,电子装置可以包括壳体,所述壳体包括第一表面、与所述第一表面相对的第二表面、以及围绕所述第一表面和所述第二表面的侧表面。根据实施例,所述电子装置可以包括设置在所述壳体内部的基板。根据实施例,所述电子装置可以包括设置在所...
用于伪装、隐蔽、防御及入射太阳辐射优化的全息系统及方法
本发明公开了一种全息伪装或隐蔽系统、方法,以及用于物理系统中入射太阳辐射优化的系统、方法。所述系统及方法涉及一种网状结构,该结构由一个或多个全息光学元件构成;所述全息光学元件可根据以下至少一项参数进行配置:(a)待衍射的波长(λ)或颜色;(...
驱动方法、光源单元、照明单元、曝光装置及曝光方法
光源元件的驱动方法是当被供给第1电流值的电流时以第1发光量发光的光源元件的驱动方法,该驱动方法包括以比所述第1电流值低的第2电流值开始向所述光源元件供给电流、并使向所述光源元件供给的电流的电流值增加至所述第1电流值,在第1时间点向所述光源元...
曝光装置
曝光装置将图案曝光至基板上,所述曝光装置具备:保持形成有所述图案的掩模或所述基板的保持部;射出X射线而将所述掩模或所述基板所带的静电消除的X射线离子发生器;遮蔽所述X射线向所述掩模或所述基板的照射的遮板;和控制所述遮板的开闭的第1控制部,所...
包括测量装置的光刻系统
本发明涉及一种光刻系统,特别是EUV光刻系统,所述光刻系统包括:辐射源,用于产生使用辐射(16);优选反射的光学元件(M1),具有设计为暴露于使用辐射(16)的表面(25a);以及测量装置(26),用于测量光学元件(M1)的表面(25a)处...
用于自组装化材料的下层膜材料
一种下层膜形成用组合物,是用于形成自组装化膜的下层膜的下层膜形成用组合物,其含有聚合物,上述聚合物具有单元结构(A),上述单元结构(A)具有:具有反应性基的脂环式烃基。
感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀剂图案的形成方法及配线基板的制造方法
本发明所涉及的感光性树脂组合物含有粘合剂聚合物、光聚合性化合物、光聚合引发剂及增感剂,光聚合性化合物包含具有双环骨架的单官能(甲基)丙烯酸酯,相对于粘合剂聚合物及光聚合性化合物的总量100质量份,具有双环骨架的单官能(甲基)丙烯酸酯的含量小...
感光性树脂组合物、固化物、有机EL显示装置、固化物的制造方法
本发明提供高敏感度、良好的显影密合性、高耐化学药品性并且固化物的耐折弯性高、将固化物用于有机EL显示装置时的可靠性高的感光性树脂组合物。感光性树脂组合物,其含有:(A)选自由聚酰亚胺、聚酰亚胺前体及它们的共聚物组成的组中的1种以上,(B)选...
确定曝光策略的方法、光刻方法和装置以及计算机程序
一种确定曝光策略的方法,所述曝光策略用于衬底的第一层中的具有第一校正能力的至少第一曝光和所述衬底的第二层中的具有第二校正能力的至少第二曝光,所述第二校正能力不同于所述第一校正能力,所述方法包括:确定所述第一层感兴趣参数数据的能够根据所述第一...
光刻装置中的电动势力制动
一种制动系统可以包括移动框架、一个或多个平衡质量块、一个或多个致动器以及一个或多个机械缓冲器。移动框架可以按预定的动能移动。一个或多个平衡质量块可吸收由移动框架施加的反作用力。一个或多个致动器可以移动移动框架,并且通过制动来停止移动框架的移...
碳纳米管式表膜隔膜
提供了用于光刻设备的碳纳米管式表膜隔膜,该表膜隔膜包括牺牲涂层。还提供了用于光刻设备的表膜,该表膜包括这种表膜隔膜和用于支撑该表膜隔膜的支撑框架,以及提供了包括这种表膜隔膜或表膜的光刻设备。还描述了用于制造表膜隔膜的方法和设备,以及这种表膜...
利用基于核建模的三维光掩模传输
本申请公开了一种计算系统,其使用从描述光刻掩模的掩模布局设计光栅化的光刻掩模的薄掩模近似,并使用包括表示光刻掩模的近场中的光衍射的多个方向核的紧凑型掩模模型,来模拟光刻掩模的近场中的三维光传输。计算系统可以基于所模拟的光刻掩模的近场中的三维...
投影仪光机及投影仪
一种投影仪光机(100)及投影仪。投影仪光机(100)包括壳体(1)、光源(2)、第一菲涅尔透镜(4)、隔热玻璃(5)、光阀(6)、散热模块(9)以及内循环风机(10);壳体(1)内形成有供光源(2)的光线通过的光通道(14),第一菲涅尔透...
基于固体晶体的空间光调制器
公开了一种装置。该装置包括有机固体晶体。该装置还包括与该有机固体晶体耦接的像素电极层和公共电极层,该像素电极层包括像素电极阵列。该装置还包括控制器,该控制器被配置成单独地配置施加到这些像素电极的电压,以单独地配置该有机固体晶体的局部折射率。
具有间隙维护系统的光阀系统
光阀可以包括具有第一侧和第二侧的液晶层。第一基板被定位成与液晶层的第一侧接触,其中第一基板具有第一半导体层。第二基板被定位成与液晶层的第二侧接触,其中第二基板具有第二半导体透明电极层和第二半导体层。多个激光透明孔支撑结构被定位在液晶层内以接...
阵列基板、显示面板和显示装置
一种阵列基板、显示面板和显示装置。阵列基板包括:衬底(1);第一导电层(20),位于衬底(1)的一侧;第一导电层(20)包括:多个第一电极(2);第二导电层(30),位于第一导电层(20)背离衬底(1)的一侧,且与第一导电层(20)相互绝缘...
背光模组、显示装置及触控显示装置
一种背光模组(10),包括背板(1)、光源(2)、光学膜片组(3)和中框(4)。背板(1)包括内底框(11)和多个内边框(12),背板(1)的多个内边框(12)与内底框(11)形成第一收容空间(R1)。背板(1)的内底框(11)包括相对的第...
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