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  • 本发明涉及一种基板表面处理方法,包含下列步骤:对基板的表面进行平坦化处理步骤;以及对基板的表面进行电浆处理步骤,其中平坦化处理步骤与电浆处理步骤于基板之表面上非同时地以可调整之顺序进行。此基板表面处理方法可解决传统单一制程或同步式复合制程所...
  • 本发明公开了一种基板处理方法,包括:将处理液体供应到旋转的基板上;以及通过激光照射组件用激光照射在其上形成有处理液体的液膜的旋转的基板,从而加热基板,其中,基板被划分为一个或多个单位照射区域,激光照射组件指定一个或多个单位照射区域中的任一单...
  • 公开了一种处理基板的方法及基板处理装置,该方法包括:加热操作,利用激光源产生的激光照射基板并加热所述基板,其中所述加热操作包括:激光分束操作,使用光学调制单元将所述激光分成多个子光束;以及激光照射操作,利用所述多个子光束照射所述基板,并且所...
  • 本发明公开了一种n型半导体层的制备方法、半导体器件及其制备方法,n型半导体层的制备方法包括:形成半导体层,并向半导体层的形成环境中提供n型掺杂源,以在半导体层中掺杂n型掺杂杂质,形成n型半导体层;其中,n型掺杂源包括含N元素的化合物。本发明...
  • 本申请提供一种掩膜板框架及掩膜板组件。其中的掩膜板框架包括:框体,框体中部具有上下贯通的窗口,围绕窗口四周具有边框,边框上侧具有用于连接掩膜板的结合面;以及至少一个支撑部件,支撑部件包括从边框内侧向窗口内延伸的伸出部、设置于伸出部一端的连接...
  • 本发明提供一种用于在基板形成金属硅化物层的方法和装置。在该方法中,向露出了硅层的基板供给金属卤化物的气体来形成金属硅化物层。该方法包括以下工序:将露出了硅层的所述基板加热至490℃以上且600℃以下的范围内的温度;预供给原料气体,所述原料气...
  • 本发明提供一种用于转移金属电极的方法,其依次包括以下步骤:(1)提供牺牲基底,在牺牲基底上制备抗蚀剂牺牲层;(2)通过光刻法,使所述抗蚀剂牺牲层形成期望的金属电极形状以获得图案化牺牲层并且使所述图案化牺牲层周边的一部分厚度减小以形成下沉结构...
  • 本发明公开了一种半导体外延层的制备方法、半导体器件及其制备方法,半导体外延层的制备方法包括:将衬底置于外延反应腔室内;向外延反应腔室内提供半导体外延层材料的反应源,于衬底的一侧形成半导体外延层;其中,半导体外延层形成过程中的中间产物包括至少...
  • 本发明公开了一种原位氧化锡掺杂硒化铅提升红外探测性能的材料制备方法,属于红外探测领域。本发明实现从紫外到中红外高性能探测的功能。本发明采用硒化铅(PbSe)和锡(Sn)双靶材磁控共溅射沉积完成硒化铅薄膜锡掺杂过程,并在薄膜沉积过程中通入离化...
  • 本发明涉及存储器技术领域,具体涉及一种基于单层氧化镓和单层蓝磷的铁电金属调控忆阻器及芯片。铁电金属调控忆阻器包括从上至下依次接触设置的顶电极层、调控层以及底电极层。其通过利用氧化镓独特的铁电特性和蓝磷二维材料的优异电学性能结合在一起,两者形...
  • 本申请涉及电子材料及器件技术领域,公开了面向高温应用的忆阻器及其制备方法。忆阻器,包括:导电基板;栅极介质层,所述栅极介质层设置在所述导电基板的至少一个表面;第一封装层,所述第一封装层设置在所述栅极介质层远离所述导电基板的一侧;沟道层,所述...
  • 本申请属于半导体器件技术领域,涉及一种射频开关器件的制备方法,包括:在衬底上沉积相变材料,得到相变材料层;在相变材料层上制备第一电极;在第一电极与相变材料层的连接处沉积导电牺牲层;在相变材料层上制备第二电极,并使第二电极覆盖导电牺牲层;去除...
  • 本发明提供一种磁性拓扑绝缘体异质结材料及其合成方法,涉及拓扑绝缘体异质结材料技术领域。该磁性拓扑绝缘体异质结材料采用“磁性缓冲层‑界面修饰层‑拓扑绝缘体层‑磁性覆盖层”的四层复合结构,以室温铁磁材料Fe3O4为磁性功能层,以(Bi0.8Sb...
  • 本发明提供了一种用于片上超声模组的封装结构及方法,包括CMOS裸片;封装层,用于封装CMOS裸片;封装层上贯穿设置有用于对CMOS裸片进行扇出的所述金属柱;第一再分布层,第一再分布层形成于所述CMOS裸片正面的封装层上,用于将CMOS裸片的...
  • 本发明属于柔性热释电材料相关技术领域,更具体地,涉及一种提升铁电极化和热释电的热压成形方法及产品。该方法包括下列步骤:将具有铁电相的聚偏氟乙烯‑四氟乙烯聚合物粉末平铺在基板上;加热所述粉末至熔融态,对所述熔融态的聚偏氟乙烯‑四氟乙烯聚合物进...
  • 本发明公开了一种极性液体p‑n结的构建方法及其热伏效应。该方法采用极性液体作为液态半导体,将自由电子密度不同的电极P和电极N置于其中,且两者与液体不发生化学反应。在P/L和N/L界面分别形成高、低浓度的偶极子层,从而调节界面电容特性,构成p...
  • 本公开涉及沉积掩模、制造沉积掩模的方法以及电子装置。沉积掩模包括:掩模框架,具有单元开口;以及隔膜,设置在掩模框架上,并且隔膜具有连接到单元开口的多个像素开口。隔膜包括限定像素开口的肋区。与隔膜由不同的材料制成的至少一个异质材料图案设置在肋...
  • 本发明涉及光伏电池的技术领域,尤其涉及一种钙钛矿层制备方法及电池组件,包括在基体上蒸镀碘化铅层;配置FAI过量的α相的钙钛矿溶液,刮涂FAI过量的α相的钙钛矿溶液于蒸镀有碘化铅层的基体上;对刮涂FAI过量的α相的钙钛矿溶液后的碘化铅层进行退...
  • 本发明公开了一种钙钛矿太阳能电池及其制备方法,属于钙钛矿太阳能电池技术领域。本发明在空穴传输层和钙钛矿活性层之间引入SAM分子,提高了钙钛矿太阳能电池的光电转换效率,并进一步在空穴传输层和SAM层的界面处引入包括片状P型半导体材料的界面修饰...
  • 本发明公开了一种钙钛矿太阳能电池及其制备方法,属于钙钛矿太阳能电池技术领域。本发明将钝化材料和电子传输材料混合得到混合前驱体,将所述混合前驱体涂覆到基材的表面得到所述钝化/电子复合层,规避了超薄钝化层对厚度的高度敏感性,解决了其因厚度难以精...
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