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  • 本发明公开了一种传输通道和半导体装置。该传输通道包括上传输通道和下传输通道。上传输通道的底部具有第一调节板,所述第一调节板上分布多个开孔;下传输通道与所述上传输通道底部连通,其上部具有第二调节板,所述第二调节板上分布多个开孔;所述第一调节板...
  • 本发明公开了一种光伏电池双侧边镀膜设备及镀膜方法,包括内部设有反应炉管的炉体;所述反应炉管的两端分别设有进气口和抽气口;所述反应炉管内部设有带放电功能的载具,且载具通过电极杆连接至外部电源,电池片放置在载具内;当接通电源后,电池片的切割面与...
  • 本发明公开了一种PECVD下电极,包括极板、陶瓷桶、加热管套筒和密封结构,陶瓷桶连接于所述极板;加热管套筒连接于极板并穿设于陶瓷桶内,其一端露出于陶瓷桶;密封结构连接于加热管套筒和陶瓷桶,包括底部块、第一间隔块和第一密封圈,底部块同时套接于...
  • 本发明公开了一种辅助调平装置、工艺腔室和喷淋板的调平方法。该辅助调平装置包括:波纹管,可活动地轴向抵接腔体与上平板之间,其中,上平板的下层连接喷淋板;测距工装,放置于调平后的加热盘上,用于获取加热盘表面到其上方的喷淋板之间的多个初始距离值;...
  • 本发明提供了一种多腔室气体传输系统、一种多腔室设备及一种多腔室气体传输系统的控制方法。该多腔室气体传输系统包括多条分支管路,各分支管路的第一端连接气源,各分支管路的第二端分别连接至少一个反应腔室。至少一条分支管路上设有波纹管结构,并配置有驱...
  • 本发明公开了一种涓流化辅助制造的原子层沉积装置和方法。所述涓流化辅助制造的原子层沉积装置包括:涓流化辅助系统、反应腔体、前驱体源系统、气路系统、尾气处理系统、控制系统和供电系统。所述涓流化辅助系统能将进入所述反应腔体的前驱体源进行涓流化处理...
  • 本发明公开了一种供气系统、半导体器件的工艺设备和半导体器件的工艺方法。供气系统包括:储气罐,用于储存气态反应源,其中,所述储气罐的下方设有阀门;以及烘烤箱,坐落于喷淋板上方,其内部存放所述储气罐,所述烘烤箱的内壁布设镜面结构,用于将热辐射到...
  • 本发明属于集成电路的技术领域,更具体地说,它涉及一种高纯液态前驱体输送装置,其技术方案要点是:包括瓶体、分隔层、雾化组件、进料管和出料管;其中瓶体作为装置的主体结构,内部通过分隔层被划分为两个独立的腔室:第一腔室和第二腔室。第一腔室主要用于...
  • 本申请涉及复合金属材料技术领域,尤其涉及一种银包覆石墨烯铜复合材料及其制备方法,旨在解决传统银包铜粉银用量高、银层易破损致铜氧化、导电性不足的问题。该方法包括:在铜粉基底上通过化学气相沉积原位形成石墨烯包覆层,得到石墨烯铜粉;对石墨烯铜粉进...
  • 本申请涉及化学气相沉积技术领域,且公开了一种用于石墨制品表面形成碳化硅涂层的设备,包括送气组件,且送气组件包括外壳体,所述外壳体的内部同轴套接有内壳体,所述外壳体上设置有两个保护组件,且两个保护组件的一端均与外壳体和内壳体之间的空间连通,所...
  • 本申请涉及一种吸附片的清洗方法及其清洗装置。该清洗方法包括:判断吸附片是否需要清洗;若是,则对吸附片执行干法清洗工艺;判断干法清洗工艺的执行次数是否达到第一预设次数;若是,则于吸附片形成有吸附图案的表面形成修复层;所述吸附图案用于吸附沉积工...
  • 本发明涉及半导体技术领域,公开了一种氧化膜的沉积方法、装置及化学气相沉积设备,方法包括:在空闲阶段结束且当前批次晶圆未载入腔室时,对腔室进行升温处理;在腔室的温度从第一温度升至目标温度后,将当前批次晶圆载入腔室,并在当前批次晶圆表面沉积形成...
  • 本申请提供了一种一体式加热器及其制备方法,制备方法包括:分别制备基体和电极柱,所述基体具有相对的第一面和第二面,所述基体上开设有电极孔;将电极柱与所述电极孔过盈配合,所述电极柱位于所述基体的第一面一侧,所述电极柱的一端穿过所述电极孔暴露于所...
  • 本申请涉及一种2H‑SiC薄膜及其制备方法,所述制备方法包括:通入甲基三氯硅烷与氩气、氢气的混合气体,对石墨基底进行化学气相沉积,在所述石墨基底表面形成2H‑SiC薄膜;在所述混合气体中,所述氢气与所述甲基三氯硅烷的输送流量之比大于15 :...
  • 本发明涉及一种用于手术刀的金刚石薄膜的制备方法,步骤为:对手术刀基材进行选择并预处理;采用含偏压电源的热丝化学气相沉积与等离子体增强化学气相沉积结合形成的一体化设备,对手术刀刀刃进行等离子体减薄与锐化处理;将手术刀刀片浸入含纳米金刚石粉末的...
  • 本发明公开了一种石墨烯包覆金属材料的制备装置及其制备方法,涉及金属材料制备技术领域,本发明包括:罐体,所述罐体外壁底部设置有三个支撑板,所述罐体顶面中间贯穿且固定有粉管,所述粉管底面固定安装有电动喷粉头,出料管,所述出料管贯穿且固定在罐体底...
  • 本发明公开一种结构耦合碳‑碳复合材料的制备装置,涉及复合材料制备装置技术领域,包括第一雾化喷洒系统、第一进液单元、第二雾化沉积系统和第二进液单元;第一进液单元向第一雾化喷洒系统提供催化剂溶液;第一雾化喷洒系统将催化剂溶液进行雾化并能够在喷洒...
  • 本发明涉及镀膜技术领域,具体涉及一种在细长管内激发均匀等离子体的镀膜设备,包括机架、石英舟、推送装置、输气装置;机架上固定有连接筒;连接筒下端设有输送管;输气装置包括稀释组件和混合组件;稀释组件用于使载气分别将前驱体气体和反应气体单独稀释,...
  • 本申请公开了一种基于PECVD的基底预清洁方法,属于半导体薄膜沉积技术领域。该方法主要包括:将待沉积基底放置于沉积腔体内的加热器上,并将闭合的沉积腔体内的真空度调整至第一预定值;以预定大小的流量向沉积腔体内通入氩气,并将沉积腔体内的真空度调...
  • 一种碳纳米管‑炭黑杂化结构的制备方法及其应用,碳纳米管‑炭黑杂化结构的制备方法包括如下步骤:(1)炭黑预处理:采用酸溶液对导电炭黑进行预处理;(2)催化剂负载:加入金属催化剂前驱体,使催化剂金属离子均匀吸附沉积在炭黑表面;(3)原位化学气相...
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