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最新专利技术
  • 分析程序、分析装置、辅助系统和分析方法
    分析程序、分析装置、辅助系统和分析方法_三菱电机株式会社_202380100084.3
    程序使辅助装置(10)作为以下部分发挥功能：取得部(120)，其取得应该由PLC执行的控制程序(12)、以及表示通过执行控制程序而被控制的设备的配置、大小和三维空间内的动作范围的设备信息；3D模拟器(13)，其根据控制程序(12)和设备信息...
    2026-01-30
  • 机器数据获取装置
    机器数据获取装置_发那科株式会社_202380099855.1
    本发明实现：无需用户自身调查机器数据的获取来源，可简化用于读取机器数据的设定。一种机器数据获取装置，具有：设定部，其按照数据定义表来设定数据的获取来源和数据名；数据读取部，其按照所述设定部的设定从工业机器的控制装置读取数据；数据保存部，其将...
    2026-01-30
  • 用于技术设备的操作员协作的控制系统和运行方法
    用于技术设备的操作员协作的控制系统和运行方法_西门子股份公司_202480044090.6
    本发明涉及一种用于技术设备(100)的控制系统(80)，该设备特别是制造或加工设备，该控制系统包括多个用于操作和监视设备(100)的用户界面(1, 60)，其中，用户界面(1, 60)设计用于为设备(100)的操作员生成设备可视化展示(2)...
    2026-01-30
  • 在液压设备处执行措施的方法和系统
    在液压设备处执行措施的方法和系统_罗伯特·博世有限公司_202480043981.X
    本发明涉及一种用于通过用户在液压设备(1)、尤其是液压阀处经引导地执行措施的方法，所述液压设备(1)具有液压单元(1a)、控制单元(1b)和数据存储单元(1c)，其中液压设备(1)的控制单元(1b)通过连接器(2)与计算单元(3)连接。在由...
    2026-01-30
  • 传送机装置
    传送机装置_英特诺控股公司_202480043764.0
    一种传送机装置(1)，该传送机装置被配置为用于传送物体(9)，传送机装置(1)包括多个传送机区域(1S)，每个传送机区域(1S)具有多个传送机辊(2)，其中多个传送机辊中包括至少一个电动传送机辊(2M)，其中，电动辊(2M)具有辊管(22)...
    2026-01-30
  • 盒和图像形成装置
    盒和图像形成装置_兄弟工业株式会社_202480041089.8
    提供一种盒和图像形成装置，能够减轻施加于盒的存储器上的负荷。盒(20)能够安装到能够沿第一方向相对于图像形成装置的本体壳体移动的抽屉和从抽屉卸下。盒(20)包括：感光鼓；显影辊；支撑感光鼓和显影辊的盒框体(30)；位于盒框体(30)在第二方...
    2026-01-30
  • 图像形成装置
    图像形成装置_兄弟工业株式会社_202480041071.8
    一种图像形成装置，包括：能够相对于本体外壳沿第一方向移动的抽屉(3)和能够安装到抽屉和从抽屉卸下的盒(4)。抽屉(3)包括抽屉框体(30)、第一抽屉电极(73)和第二抽屉电极(74)。盒(4)包括盒电极(200)和侧盖(130)。盒电极(2...
    2026-01-30
  • 海绵辊
    海绵辊_信越聚合物株式会社_202480040909.1
    本发明是一种海绵辊1，包括轴体2、以及设置在轴体2的外周的发泡弹性层3，所述海绵辊1中，发泡弹性层3的平均泡孔直径为20 μm以上且100 μm以下，在发泡弹性层3中，利用规定的算出方法求出的回弹载荷测定结果的载荷‑位移曲线中的近似直线的斜...
    2026-01-30
  • 物体固持器、载物台、控制表面的形状的方法、制造物体固持器的方法及其在光刻方法或装置中的用途
    物体固持器、载物台、控制表面的形状的方法、制造物体固持器的方法及其在光刻方法或装置中的用途_ASML荷兰有限公司_202480044725.2
    提供了一种被配置为支撑物体的物体固持器，该物体固持器包括具有多个支撑元件的支撑表面，其中多个支撑元件包括被配置为提供个体支撑元件的选择性变化高度的可逆变化的晶相/非晶相材料。还提供了一种包括这种物体固持器的载物台、一种包括这种物体固持器的用...
    2026-01-30
  • 用于预测光源的状态的方法
    用于预测光源的状态的方法_西默有限公司_202480042706.6
    一种用于预测包括激光系统的光源的状态的方法，包括获得表示光源的操作方面的光源的特征；使用利用无监督学习的机器学习算法将特征聚类成聚类，该聚类表示光源的状态；生成聚类之间的转移矩阵，该转移矩阵表示在时间间隔之后光源在聚类之间的转移的转移概率，...
    2026-01-30
  • 感光性树脂组合物、膜状树脂和树脂片
    感光性树脂组合物、膜状树脂和树脂片_株式会社力森诺科_202480042926.9
    提供一种含有由多种单体构成的聚合物的感光性树脂组合物中，基于单体而算出的汉森溶解度参数的分散项为16.99以上17.35以下，基于单体而算出的分子中的羧酸的数目为0.272以上0.304以下，基于单体而算出的辛醇/水分配系数的对数值为2.1...
    2026-01-30
  • 感光性元件及层叠体的制造方法
    感光性元件及层叠体的制造方法_株式会社力森诺科_202580002314.1
    一种感光性元件，其具备支撑体和位于所述支撑体上的感光层，所述感光层的波长365nm的光的吸光度以每1μm感光层的厚度计为0.0160以下。
    2026-01-30
  • 识别诸如曝光设备之类的机器上的维修动作的方法
    识别诸如曝光设备之类的机器上的维修动作的方法_ASML荷兰有限公司_202480044506.4
    披露了一种确定与机器相关的维修动作历史的计算机实施方法。所述方法包括：获得包括在一时间段内与机器相关的事件和/或观察的事件数据；和获得多个候选维修动作。执行过程挖掘操作以将所述事件数据与所述多个候选维修动作匹配和/或比较。将所述多个候选维修...
    2026-01-30
  • 用以在EUV光刻中校准、预测及控制随机缺陷的方法
    用以在EUV光刻中校准、预测及控制随机缺陷的方法_科磊股份有限公司_202480044491.1
    基于在工件的布局内随机缺陷的初始发生概率，选择所述工件上所述初始概率高于阈值的位置的子集。按照图案形状对位置的所述子集进行分组。针对所述图案形状中的每一者确定预期缺陷计数。接着，选择所述图案形状的子集进行修复。
    2026-01-30
  • EUV辐射能量传感器
    EUV辐射能量传感器_ASML荷兰有限公司_202480044018.3
    一种用于测量来自组合辐射的EUV辐射的能量的传感器，该组合辐射包括EUV辐射和非EUV辐射，传感器(20)包括：辐射吸收器(21)，其被配置为经由辐射吸收器的表面(40)吸收源自组合辐射(15)的辐射；第一反射器(30；31)，其对EUV辐...
    2026-01-30
  • 反射镜系统、操作反射镜系统的方法和微光刻投射曝光设备的投射镜头
    反射镜系统、操作反射镜系统的方法和微光刻投射曝光设备的投射镜头_卡尔蔡司SMT有限责任公司_202480043819.8
    本发明关于一种反射镜系统，其包括EUV反射镜(M1‑M6)，其中该EUV反射镜(M1‑M6)包括镜体(38)和形成在该镜体(38)上具有高EUV辐射反射率的光学表面(32)。该反射镜系统还包括框架结构(31)，该框架结构承载该镜体(38)；...
    2026-01-30
  • 掩模及曝光方法
    掩模及曝光方法_株式会社尼康_202380099879.7
    本发明的目的在于提供一种相移掩模，其与使用具有透射率为5%左右的相移膜的掩模的情况相比能够以更短的所需时间来形成。掩模(300)具备：曝光用光(波长λ)的透射率为35%、并具有正方形的接触孔图案(20a)的相移膜(20)，其形成在掩模基板上...
    2026-01-30
  • 摄像头模块用弹簧型FPCB及内置有弹簧型FPCB的摄像头模块
    摄像头模块用弹簧型FPCB及内置有弹簧型FPCB的摄像头模块_宰煐斯路泰科株式会社_202380099779.4
    本发明涉及一种摄像头模块用弹簧型FPCB及内置有弹簧型FPCB的摄像头模块。一种摄像头模块用弹簧型FPCB，其以内置于摄像头模块的状态弹性支撑透镜模组载架，该摄像头模块包括外壳、以及能够调节位置地设置于外壳内并容纳透镜模组的透镜模组载架，所...
    2026-01-30
  • 显示基板及其制备方法、显示装置
    显示基板及其制备方法、显示装置_京东方科技集团股份有限公司_202480001030.6
    一种显示基板及其制备方法、显示装置，包括：基底以及设置在所述基底上的M行2N列子像素(P)、2M条扫描信号线(Gate)和N+1条数据信号线(Data)；第i行子像素位于第2i‑1条扫描信号线和第2i条扫描信号线之间，且分别与第2i‑1条扫...
    2026-01-30
  • 堆叠式装置
    堆叠式装置_弗莱克英纳宝技术有限公司_202480044037.6
    本发明揭露一种装置、总成、设备及方法，其包括：一堆叠，其包含在一堆叠方向上堆叠的至少第一支撑膜及第二支撑膜；该第一支撑膜支撑垂直于该堆叠方向延伸的至少一第一导体轨道，并且该第二支撑膜支撑垂直于该堆叠方向延伸的至少一第二导体轨道；以及一导电粘...
    2026-01-30
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