Document
拖动滑块完成拼图
专利交易 商标交易 积分商城 国际服务 IP管家助手 科技果 科技人才 会员权益 需求市场 关于龙图腾 更多
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索
  • 我要求购
  • 我要出售
官方微信客服

官方微信客服
官方微信客服

官方微信客服
最新专利技术
  • 一种换流站全景数据纳秒级对时方法、系统、产品及设备
    一种换流站全景数据纳秒级对时方法、系统、产品及设备_国网新疆电力有限公司信息通信公司_202511538372.4
    本发明公开了一种换流站全景数据纳秒级对时方法、系统、产品及设备，涉及计算机技术领域，检测方法包括卫星授时误差建模、通信链路的不对称时延建模、双向加权Kalman融合、对本地高稳频率源进行偏移补偿与频率修正以及同步性能评估；对时系统包括多源授...
    2026-04-28
  • 一种基于宇宙线缪子的时间同步系统及同步方法
    一种基于宇宙线缪子的时间同步系统及同步方法_中国科学技术大学_202511649654.1
    本申请公开了一种基于宇宙线缪子的时间同步系统及同步方法，涉及数字信息传输领域，该系统包括与标准时钟对应设置的时间探测器和径迹探测器、与待校准时钟对应设置的事例匹配模块、时间差计算模块、时间调节模块、时间探测器和径迹探测器；事例匹配模块根据两...
    2026-04-28
  • 一种基于龙芯SOC的多时间源PTP授时电路
    一种基于龙芯SOC的多时间源PTP授时电路_北京计算机技术及应用研究所_202511557454.3
    本发明涉及一种基于龙芯SOC的多时间源PTP授时电路，属于时统技术领域。本发明的授时电路包括：龙芯SOC、FPGA、高稳晶振、RS422收发器、网卡、交换机、计算刀片1‑6以及外部时钟源。本发明设计方案性能稳定可靠，方式新颖，解决了装备发展...
    2026-04-28
  • 一种多源融合抗干扰时间频率校准装置
    一种多源融合抗干扰时间频率校准装置_山东省计量科学研究院_202511642492.9
    本发明公开了一种多源融合抗干扰时间频率校准装置，涉及时间校准相关技术领域，包括框架，框架内安装有校准装置的主体，框架的上端滑动安装有多个信号盒，且信号盒与主体线路连接，信号盒的下端套接有用于屏蔽信号的屏蔽盒，框架内安装有用于控制信号盒上下滑...
    2026-04-28
  • 一种手持式时间同步测试仪
    一种手持式时间同步测试仪_国网四川电力送变电建设有限公司_202511706640.9
    本发明公开了一种手持式时间同步测试仪，涉及信号处理技术领域。测试仪包括多源输入模块、晶振电路调频模块、被测时间同步信号模块和ZYNQ核心模块；多源输入模块接收北斗、PTP、IRIGB三类基准源信号，晶振电路调频模块提供本地时钟信号，被测时间...
    2026-04-28
  • 星载原子钟稳定性测量方法
    星载原子钟稳定性测量方法_中国科学院上海天文台_202511436569.7
    本发明涉及一种星载原子钟稳定性测量方法，包括：获取空间测站和地面测站的接收信号；分别确定空间测站和地面测站的接收信号的频率；确定目标的发射频率；基于目标的发射频率确定空间测站的模型信号和地面测站的模型信号；确定地面测站和空间测站的相关信号；...
    2026-04-28
  • 一种基于深度学习的激光全息像差补偿系统及方法
    一种基于深度学习的激光全息像差补偿系统及方法_北京云汉星驰激光技术有限公司_202511649524.8
    本发明涉及图像处理技术领域，公开了一种基于深度学习的激光全息像差补偿系统及方法，一种基于深度学习的激光全息像差补偿系统，包括：第一模块，确定相位到灰度查找表；第二模块，计算获得堆叠强度；第三模块，通过卷积神经网络回归器获得泽尼克多项式系数；...
    2026-04-28
  • 图像形成装置
    图像形成装置_富士胶片商业创新有限公司_202510150540.6
    本发明公开了一种图像形成装置，所述图像形成装置具备：感光体，所述感光体进行旋转；曝光装置，所述曝光装置从沿着所述感光体的轴向配置的发光元件照射光来形成潜像；间隔维持部件，所述间隔维持部件维持所述感光体与所述曝光装置之间的间隔；以及支承部件，...
    2026-04-28
  • 一种打印机硒鼓清理装置
    一种打印机硒鼓清理装置_珠海今成科技有限公司_202511650071.0
    本发明涉及打印机领域，具体是一种打印机硒鼓清理装置，包括清理座，还包括：夹持机构，夹持机构置于清理座的侧壁上；安装架，安装架滑动设置在清理座顶部；清理机构，清理机构包括：滑动套，滑动套上固定设置有螺纹连接件，吹风管，吹风管嵌入到滑动套内部，...
    2026-04-28
  • 带电辊、处理插件、图像形成装置以及图像形成方法
    带电辊、处理插件、图像形成装置以及图像形成方法_京瓷办公信息系统株式会社_202510920347.6
    本发明提供带电辊、处理插件、图像形成装置以及图像形成方法。带电辊包括：导电性轴；弹性体层，形成在所述导电性轴的外周；以及表层，形成在所述弹性体层的外周。所述表层含有粘合剂树脂以及导电性颗粒。所述粘合剂树脂仅包含热塑性树脂。所述热塑性树脂的水...
    2026-04-28
  • 一种打印设备定影温度预控制方法、电子设备及存储介质
    一种打印设备定影温度预控制方法、电子设备及存储介质_中电长城(长沙)信息技术有限公司_202511693294.5
    本发明提供一种打印设备定影温度预控制方法、电子设备及存储介质，属于打印机技术领域。方法包括：实时采集打印设备的打印任务数据和打印设备的定影装置的定影温度，打印任务数据包括历史打印页数和待打印页数。根据历史打印页数和定影温度的关系，获取在多种...
    2026-04-28
  • 静电荷图像显影用磁性载体
    静电荷图像显影用磁性载体_佳能株式会社_202510935345.4
    本发明涉及静电荷图像显影用磁性载体。一种静电荷图像显影用磁性载体，其中，磁性核颗粒是在表面上具有有机硅树脂的颗粒；涂覆树脂层是包含作为粘结剂树脂的乙烯基系树脂和二氧化硅颗粒的层；并且当将在温度为30℃且相对湿度为80％的第一环境中保持5小时...
    2026-04-28
  • 用于晶圆检测的光源集光调制系统及其方法
    用于晶圆检测的光源集光调制系统及其方法_魅杰半导体设备(无锡)有限公司_202511468647.1
    本发明提供了一种用于晶圆检测的光源集光调制系统及其方法，涉及晶圆检测技术领域，包括：沿光传播方向依次放置的光源模块、集光模块、滤光模块和收光端面；所述光源模块，提供检测光；所述集光模块，收集检测光，并将其导入滤光模块；所述滤光模块，对检测光...
    2026-04-28
  • 一种曝光剂量确定方法、装置、设备及存储介质
    一种曝光剂量确定方法、装置、设备及存储介质_擎方科技(济南)有限公司_202511877495.0
    本发明公开了一种曝光剂量确定方法、装置、设备及存储介质，应用于光刻技术领域，包括：获取目标关键尺寸，以及光刻胶曝光后形成的曝光图案与刻蚀后的功能层图案之间的线宽漂移容忍极限；获取曝光剂量斜率；曝光剂量斜率为基于不同曝光剂量下对应曝光图案的关...
    2026-04-28
  • 一种套刻标记、光罩组件及检测方法
    一种套刻标记、光罩组件及检测方法_合肥晶合集成电路股份有限公司_202511870482.0
    本发明提供一种套刻标记、光罩组件及检测方法，具体涉及半导体领域。所述套刻标记包括第一标记图案和第二标记图案，其中，第一标记图案包括第一拼接图案和第一面内图案，第一面内图案设置在第一拼接图案的一侧；第二标记图案包括第二拼接图案和第二面内图案，...
    2026-04-28
  • 光刻补偿方法、设备和存储介质
    光刻补偿方法、设备和存储介质_全芯智造技术股份有限公司_202511870150.2
    本公开的实施例涉及光刻补偿方法、设备和存储介质。在此提出的方法包括：通过对第一晶圆的多个套刻量测结果分别进行密集化处理，得到多个套刻量测结果的相应套刻密集化结果；基于相应套刻密集化结果中各个套刻密集化结果之间的差异，确定与蚀刻工艺有关的第一...
    2026-04-28
  • 一种专用于软板的防焊光刻设备
    一种专用于软板的防焊光刻设备_深圳市鑫浩自动化技术有限公司_202511850574.2
    本发明涉及一种专用于软板的防焊光刻设备，包括机架，机架上设置有大理石台面，大理石台面上设置有平台移动装置，平台移动装置上安装有曝光平台，所述大理石台面上设置有第一大理石架和第二大理石架，第一大理石架上设置有用于对曝光平台进行定位的CCD定位...
    2026-04-28
  • 曝光方法及曝光装置
    曝光方法及曝光装置_天府兴隆湖实验室_202511817368.1
    本申请提供一种曝光方法及曝光装置，涉及光刻技术领域。所述曝光方法包括：提供一待处理晶圆，将待处理晶圆放置于工件台上；提供一掩模板，掩模板包括至少一个掩模图案区域；将掩模板设置于吸盘靠近待处理晶圆的一侧，吸盘与工件台相对设置；根据第一面型调控...
    2026-04-28
  • 一种扫描干涉光刻装置
    一种扫描干涉光刻装置_吉林建筑大学_202511815470.8
    一种扫描干涉光刻装置，涉及微纳结构制造的干涉光刻技术领域，解决现有扫描干涉光刻系统结构复杂，易受处界环境影响；干涉图样参数调整需要调节两臂光路中的光路元件以及调整过程较为复杂等问题，包括固定于支撑结构上的相位测量元件、相位测量探测器和光阑；...
    2026-04-28
  • 一种双工位全自动曝光机
    一种双工位全自动曝光机_东莞领晟智创科技有限公司_202511715093.0
    本发明涉及曝光设备领域，尤其涉及一种双工位全自动曝光机，包括机架、入料输送装置、出料输送装置和曝光装置，曝光装置下方设置有两个升降平台，升降平台包括设置在机架上的升降结构和曝光平台，所述机架上还设置有用于将基板从入料输送装置吸取到曝光平台上...
    2026-04-28
首页 上一页 18 下一页
技术分类

专利交易买卖与高校科技成果转化平台

主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务

Copyright ©龙图腾网 版权所有  营业执照  | 皖ICP备12007331号-2 lotut.com 皖公网安备 34010402703815号 中华人民共和国增值电信业务经营许可证