Document
拖动滑块完成拼图
首页 专利交易 IP管家助手 科技果 科技人才 科技服务 国际服务 商标交易 会员权益 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索
最新专利技术
  • 本发明公开了一种合成基钻井液及其制备和应用,其中,该合成基钻井液的原料按其重量份数计包括:基液80‑90份;主乳化剂2‑4份;辅助乳化剂1‑3份;碱度调节剂1‑3份;活度调节剂25‑30份;增粘剂1‑3份;降滤失剂3‑5份;加重剂240‑7...
  • 本发明提供一种LNG复产气井用微乳液型渗吸驱油剂及LNG复产气井的方法,所述微乳液型渗吸驱油剂一剂多能,可减少化学添加剂的种类,提高液体返排率与回采水率,辅助解堵、渗吸与置换。所述LNG复产气井的方法,以LNG为载体,以微乳液型渗吸驱油为主...
  • 本发明提供了一种海水基改性瓜尔胶压裂液及其制备方法,属于海水基压裂液技术领域,压裂液包括体积份数计的如下组分:有机膦酸羟丙基改性瓜尔胶水溶液100份;温度稳定剂0.1‑0.3份;pH调节剂0.4‑1份;破乳助排剂0.3‑0.5份;交联剂0....
  • 本发明提供了一种耐盐型疏水缔合聚合物悬浮乳液及其制备方法和应用,属于油气井压裂技术领域,悬浮乳液包括以下重量份的组分:白油40~50份、悬浮剂4~6份、疏水缔合聚合物粉末40~50份、乳化剂5~10份、调节剂1~2份,防腐剂0.1~0.2份...
  • 本申请公开了复合材料、发光器件及其制备方法、显示装置,所述复合材料包括纳米颗粒和多肽。本申请的复合材料通过在纳米颗粒中加入多肽,可以利用多肽钝化纳米粒子表面的缺陷,固定纳米粒子,从而解决纳米颗粒存在的离子迁移的问题,从而提高复合材料的热稳定...
  • 本申请公开了一种复合材料、墨水、薄膜及光电器件,涉及显示技术领域。复合材料包括第一核壳量子点和第二核壳量子点,第一核壳量子点包括Type I型量子点,第二核壳量子点包括Type II型量子点、反Type I型量子点中的一种或几种。本申请提供...
  • 本申请公开了一种纳米材料及制备方法、光电器件,涉及显示技术领域。纳米材料的制备方法包括提供核溶液,核溶液中包括量子点核和第一溶剂;提供壳源,壳源包括硫化锌前驱体,硫化锌前驱体的结构式如式(Ⅰ)所示: 2025-08-27
  • 本申请提供一种量子点及其制备方法、发光器件。量子点的制备方法包括:将金属元素M1前驱体、羧酸类化合物、溶剂、胺类化合物混合,得到第一反应体系;将非金属元素前驱体与第一反应体系混合,得到量子点。本申请提供的量子点的制备方法可以通过调整羧酸类化...
  • 本申请公开一种复合材料、量子点的纯化方法以及光电器件,所述复合材料包括载体和第一化合物,第一化合物连接于载体的表面,所述复合材料能够用作柱层析的固定相,从而应用于量子点的纯化,能够实现对不同配体含量的量子点进行筛选,提高了溶液法制得的量子点...
  • 本申请提供一种量子点及其制备方法、发光器件。本申请所述的制备方法在形成M1M2N1量子点核后,通过加入金属元素M2第二前驱体,使M1M2N1量子点核的表面富有M2阳离子,可以有效减少晶格缺陷,显著提升量子点的PLQY。
  • 本申请公开了一种复合材料及其制备方法、发光器件。所述复合材料包括量子点和磁性离子液体。本申请所述的复合材料可以使量子点不易发生团聚。
  • 本公开涉及一种化学发光底物液和化学发光检测方法。所述化学发光底物液包括化学发光底物、荧光素和水溶性高分子季铵盐,其中所述化学发光底物选自氯代的具有螺‑金刚烷取代基的二氧杂环丁烷类化合物。所述化学发光底物液具有更宽的线性检测范围。
  • 本发明提供一种钙钛矿量子点材料、其制备方法、其制备装置和应用,所述制备方法包括以下步骤:(1)将钙钛矿量子点的A位前体材料、B位前体材料和包覆原料混合,熔融后得到第一混合料;(2)将钙钛矿量子点的X位卤素材料和包覆原料混合,熔融后得到第二混...
  • 本申请公开一种量子点以及包括量子点的光电器件,所述量子点具有核壳结构,所述量子点的核以及包含镉元素的壳层中镉元素的摩尔百分比逐渐升高,将所述量子点应用于光电器件中,能够提高光电器件的光电性能稳定性。
  • 本发明公开一种锗硅刻蚀液。本发明的刻蚀液,所述刻蚀液包含如下质量分数的组分:1‑10%有机碱、0.001‑0.1%非离子表面活性剂、5‑30%有机溶剂及水,各组分质量分数之和为100%。本发明的刻蚀液能够选择性刻蚀硅,能够对硅的蚀刻速率较高...
  • 本发明公开一种锗硅刻蚀液的制备方法。本发明的刻蚀液的制备方法,其包含如下步骤:将所述的刻蚀液中的各个组分进行混合,得到所述的刻蚀液即可;所述刻蚀液包含如下质量分数的组分:1‑10%有机碱、0.001‑0.1%非离子表面活性剂、5‑30%有机...
  • 本发明公开了一种锗硅刻蚀液的制备方法。本发明的锗硅刻蚀液的方法包括以下步骤:将下述的各组分进行混合,即得到锗硅刻蚀液;所述的锗硅刻蚀液包括下述质量分数的组分:0.1%‑5%的氟化物、5%‑25%的氧化剂、0.5%‑2%抑制剂和水。本发明制备...
  • 本发明公开了一种锗硅刻蚀液。所述的锗硅刻蚀液包括以下质量分数的组分:0.1%‑5%的氟化物、5%‑25%的氧化剂、0.5%‑2%抑制剂和水。本发明的锗硅刻蚀液对硅材料有良好的刻蚀速率;并且本发明的锗硅刻蚀液在加快硅‑锗合金的氧化速率以及氧化...
  • 本发明属于液晶技术领域,具体涉及一种液晶混合物及液晶智能窗。所述液晶混合物,包括向列相液晶和手性剂,所述向列相液晶包括弯曲型单体,所述液晶混合物的反射波长为0.3μm~4μm。本发明液晶混合物通过添加弯曲型单体,可以实现缩短过渡的平面态(b...
  • 本发明提供一种正介电液晶组合物和包含其的液晶显示器件。所述液晶组合物包括:至少一种通式I的化合物;至少一种II类化合物,所述II类化合物选自由通式II‑A的化合物和/或通式II‑B的化合物组成的组;至少一种III类化合物,所述III类化合物...
技术分类