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最新专利技术
  • 一种基于小光斑、低功率脉冲激光的金属模具高质量修复方法
    一种基于小光斑、低功率脉冲激光的金属模具高质量修复方法_苏州匀晶金属科技有限公司_202511888295.5
    本发明提供了一种基于小光斑、低功率脉冲激光的金属模具高质量修复方法。该方法通过小光斑、低功率脉冲激光器输出特定参数的激光束，结合预设的扫描路径与逐层沉积修复策略，能够对金属模具划痕、磨损、微裂纹等细微缺陷实现及时有效的高质量修复，有效规避传...
    2026-03-23
  • 一种具有自修复矿化膜的激光熔覆复合涂层及其制备方法
    一种具有自修复矿化膜的激光熔覆复合涂层及其制备方法_中国人民解放军陆军装甲兵学院_202511866738.0
    本发明属于表面强化与防护技术领域，公开了一种具有自修复矿化膜的激光熔覆复合涂层及其制备方法。本发明设计的韧性层‑功能中间层双层熔覆结构，解决了单一硬质涂层易开裂、剥落的技术难题；在其上制备了自修复矿化膜、密封层，当涂层受损时，无需外部干预，...
    2026-03-23
  • 一种基于实时工艺参数匹配与精确出粉闭环控制的激光熔覆修复方法及激光熔覆修复设备
    一种基于实时工艺参数匹配与精确出粉闭环控制的激光熔覆修复方法及激光熔覆修复设备_河南职业技术学院_202511837932.6
    本发明涉及激光熔覆修复方法及设备领域，具体涉及一种基于实时工艺参数匹配与精确出粉闭环控制的激光熔覆修复方法及设备，包括S1、磨损区域三维数字化建模，S2、自适应分层与路径规划，S3、工艺参数实时匹配与熔覆沉积及在线闭环控制，S4、工艺知识库...
    2026-03-23
  • 一种钛基复合耐磨涂层
    一种钛基复合耐磨涂层_西南大学_202511790379.5
    本发明公开了一种钛基复合耐磨涂层，所述涂层通过如下方法形成：将熔覆材料粉末置于钛基合金表面，在氮气氛围下，熔覆材料通过激光熔覆在钛基合金表面形成所述钛基复合耐磨涂层；其中，熔覆材料由钛合金粉末和铜粉组成，且熔覆材料的组分和钛基合金的组分相同...
    2026-03-23
  • 一种智能激光熔覆非晶涂层的在线动态协同控制方法及系统
    一种智能激光熔覆非晶涂层的在线动态协同控制方法及系统_中南大学_202511612622.4
    本发明提供了一种用于镁锂合金构件的非晶涂层激光熔覆动态协同方法及系统，方法包括：通过飞秒激光在构件表面制备微纳结构；建立机器学习代理模型，确定激光工艺参数与非晶率、界面结合强度的映射关系；采用多目标优化算法，以非晶率和界面结合强度为优化目标...
    2026-03-23
  • 一种高强高韧钛铝涂层、其制备方法及应用
    一种高强高韧钛铝涂层、其制备方法及应用_中国航发北京航空材料研究院_202511583953.X
    本发明提供了一种高强高韧钛铝涂层、其制备方法及应用，包括以下步骤：A)在钛合金构件表面逐层铺设第一混合粉末和第二混合粉末，得到预制钛铝涂层；所述第一混合粉末包括Ti粉末和TC4粉末；所述第二混合粉末包括Al粉和TC4粉末；B)对所述预制钛铝...
    2026-03-23
  • 一种钛合金表面高硬度复合涂层的制备方法
    一种钛合金表面高硬度复合涂层的制备方法_桂林电子科技大学_202511445967.5
    本发明涉及一种钛合金表面高硬度复合涂层的制备方法，对钛合金基材进行预处理去除表面氧化层，得到处理后的钛合金基材；将所配制好的高熵合金粉末进行干燥，均匀铺设在所述处理后的钛合金基材表面，得到铺粉后的钛合金基材；在保护气气氛下对所述铺粉后的钛合...
    2026-03-23
  • 油气输送管件用抗冲蚀涂层及其制备方法
    油气输送管件用抗冲蚀涂层及其制备方法_中国石油天然气集团有限公司_202411011637.0
    本发明公开的油气输送管件用抗冲蚀涂层及其制备方法，包括Ti22AlC5％～30％、Ti22AlN 2％～20％，余量为Ni基合金。本发明采用强韧性Ni基合金为基体，保证涂层的强韧性和耐磨性；选择三元MAX相Ti22AlC、Ti22AlN为增...
    2026-03-23
  • 一种用于回转零件表面耐磨/耐蚀强化的装置及工艺方法
    一种用于回转零件表面耐磨/耐蚀强化的装置及工艺方法_浙江工业大学_202511738684.X
    本发明公开了一种用于回转零件表面耐磨/耐蚀强化的装置及工艺方法，方法包括：S1、设备开机自检；S2、根据回转零件尺寸及材质，夹紧回转零件并设置回转零件转速；S3、根据回转零件转速对预处理模块进行相应参数设置；S4、根据回转零件材质选择喷涂粉...
    2026-03-23
  • 压铸加工的可阳极氧化铝合金及其制备方法
    压铸加工的可阳极氧化铝合金及其制备方法_东莞市桦研新材料科技有限公司_202511609174.2
    本发明涉及铝合金技术领域，尤其涉及一种压铸加工的可阳极氧化铝合金及其制备方法，包括：步骤S1，对压铸铝合金的粗坯进行表面处理和表面特征检测，确定压铸表面高度差数据和第一缺陷特征数据；步骤S2，基于检测数据确定待处理表面厚度；步骤S3，根据待...
    2026-03-23
  • 一种铝合金散热器及表面冷喷铜工艺
    一种铝合金散热器及表面冷喷铜工艺_安徽新富新能源科技股份有限公司_202511568627.1
    本发明公开了一种铝合金散热器及表面冷喷铜工艺，属于散热器加工技术领域。通过选用高纯度球形铜粉，经表面粗化预处理后，在惰性气体保护下，利用400‑600℃的加热气体将铜粉以300‑800m/s速度高速撞击基体，经3‑8次分层喷涂形成0.1‑0...
    2026-03-23
  • 热镀锌工艺钝化液智能闭环控制系统
    热镀锌工艺钝化液智能闭环控制系统_天津市友发德众钢管有限公司_202511352522.2
    本发明公开了热镀锌工艺钝化液智能闭环控制系统，具体涉及工业过程自动控制技术领域，用于解决现有钝化液控制方式滞后于间歇式生产节拍变化导致参数波动大的问题；是通过信号监测模块识别生产节拍周期并计算预估补偿值，熵权生成模块基于符号序列信息熵生成权...
    2026-03-23
  • 一种基于植酸制备的金属防锈蚀处理液的制备方法
    一种基于植酸制备的金属防锈蚀处理液的制备方法_蚌埠学院_202511601621.X
    本发明公开了一种基于植酸制备的金属防锈蚀处理液的制备方法，涉及植物化工与天然产物提取领域。该液体通过植酸与金属离子络合、加入防腐剂和稳定剂，并使用水或水/乙醇作为溶剂，形成均匀致密的保护膜，能有效隔绝腐蚀介质如水分、氧气等。本发明处理液对碳...
    2026-03-23
  • 一种低成本简单工艺制备高熵氧化物陶瓷涂层的方法及应用
    一种低成本简单工艺制备高熵氧化物陶瓷涂层的方法及应用_中国科学院兰州化学物理研究所_202511613034.2
    本发明公开了一种低成本简单工艺制备高熵氧化物陶瓷涂层的制备方法和应用，属于宽温域耐磨防护领域。具体采用溶胶‑凝胶法制备以(Mg0.25(1‑x)0.25(1‑x)Co0.25(1‑x)0.25(1‑x)Ni0.25(1‑x)0.25(1‑x...
    2026-03-23
  • 一种ALD设备的温度控制方法、装置及电子设备
    一种ALD设备的温度控制方法、装置及电子设备_青岛思锐智能科技股份有限公司_202511635579.3
    本申请提供了一种ALD设备的温度控制方法、装置及电子设备，涉及一般控制或调节系统技术领域，在针对下一时刻的ALD设备内的加热装置的功率控制进而控制ALD设备反应腔室内的温度时，通过递推最小二乘算法根据当前时刻的温度实测值、上一时刻的控制输出...
    2026-03-23
  • 一种板式PECVD设备进气与射频系统
    一种板式PECVD设备进气与射频系统_福建省金石能源股份有限公司_202511758908.3
    本发明涉及光伏设备领域，公开了一种板式PECVD设备进气与射频系统，设置于设备的腔盖上，其包括九个特气进气口、四个远程等离子体源进气口以及与特气入口在数量和空间分布上相协同的射频电源馈入系统、具备主动调节能力的多级分流气体管路系统。九个特气...
    2026-03-23
  • 成膜方法、保护膜以及基板处理装置
    成膜方法、保护膜以及基板处理装置_东京毅力科创株式会社_202510956018.7
    本公开提供一种成膜方法、保护膜以及基板处理装置，抑制微粒的产生。一种成膜方法，是在等离子体处理装置中在处理室内的构件的表面形成保护膜的成膜方法，其中，向所述处理室内供给包含第一含硅气体和第一含氧气体的处理气体，并向上部电极供给用于生成等离子...
    2026-03-23
  • 一种PECVD无遮挡全面镀膜工艺结构
    一种PECVD无遮挡全面镀膜工艺结构_无锡爱尔华光电科技有限公司_202511896563.8
    本发明涉及镀膜技术领域，具体为一种PECVD无遮挡全面镀膜工艺结构，其能够保障成膜均匀性，提高基板利用率和生产良率，降低成本，其包括下部电极和遮挡框，所述下部电极上开设有氩气通孔，所述氩气通孔连通氩气进气管，所述电极的上表面边缘设置有绝缘框...
    2026-03-23
  • 一种半导体高纯碳化硅涂层用化学气相沉积装置
    一种半导体高纯碳化硅涂层用化学气相沉积装置_江苏协鑫特种材料科技有限公司_202511789640.X
    本申请涉及化学气相沉积设备技术领域，且公开了一种半导体高纯碳化硅涂层用化学气相沉积装置，包括活动设置在反应箱内的载板，且载板由设置在反应箱内的电机驱动旋转，载板的外边缘固定安装有若干圆周阵列分布的载片装置，所述载片装置包括倾斜设置的基座，基...
    2026-03-23
  • 转盘结构及镀膜设备
    转盘结构及镀膜设备_常州捷佳创精密机械有限公司_202511712602.4
    本发明公开了一种转盘结构及镀膜设备，包括：设置在炉体外的驱动装置，其输出端连接有传动轴，传动轴部分伸入炉体内并连接有第一齿轮组，第一齿轮组连接有基座，基座沿周向并间隔设置有多个电极座，每个电极座或任意两个相邻的电极座之间均与对应的载具电连接...
    2026-03-23
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