Document
拖动滑块完成拼图
专利交易 商标交易 积分商城 国际服务 IP管家助手 科技果 科技人才 会员权益 需求市场 关于龙图腾 更多
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索
最新专利技术
  • 本发明涉及有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法及聚合物。本发明提供一种基板(晶圆)上的成膜性(面内均匀性)与填埋特性优异、且抑制EBR步骤时的隆起、且用作多层抗蚀剂用的有机下层膜时的处理裕度优异的有机膜形成用组成物、使用该组成物...
  • 本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中,感度及极限分辨率优良的非化学增幅抗蚀剂组成物,以及使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂组成物,含有:下式(1)、(2)或(3)表示...
  • 本发明涉及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题是在使用高能射线的光学光刻中,提供具有使用感度及极限分辨性优良的非化学增幅抗蚀剂组成物,并将曝光后的抗蚀剂膜利用干蚀刻进行显影而形成正型或负型的抗蚀剂图案的步骤的抗蚀剂图案形成方法。本发明的解决手段...
  • 本发明提供了一种方法。方法包括在基板上旋涂光阻层,对光阻层执行第一图案化工艺以形成光阻图案,其中光阻图案具有第一轮廓。方法包括对光阻图案执行第二图案化工艺,包括旋转基板,将光阻图案暴露于红外光,以及对光阻图案执行显影工艺,其中,在显影工艺之...
  • 本发明涉及一种用于微电刻设备的可调滚轮,其中,该微电刻设备包括平台模块、位移模块、供电模块以及控制模块等,该可调滚轮包括滚轮主体、印模层以及一个或多个可变形结构,该可变形结构响应于控制模块的指令产生形变。本发明还涉及一种包括该可调滚轮的微电...
  • 本发明涉及掩模制造技术领域,具体涉及一种高分辨掩模版及制备方法。包括制备模版,所述模板包括第一衬底,所述第一衬底表面具有第一图形,并在上述第一衬底上形成抗黏层;准备第二衬底,在所述第二衬底上形成增粘层;在所述第一衬底表面喷涂压印胶后,将所述...
  • 本发明涉及纳米压印技术领域,具体是一种大面积气压式纳米压印设备的调平机构,包括调平平台和气压式纳米压印模块,调平平台底部四角通过支撑柱连接楔形位移单元,该单元由水平移动的动楔形调节块和固定的静楔形调节块组成,通过斜面滑动将水平位移转换为垂直...
  • 一种压印模板制备系统和方法、模板及步进式纳米压印方法,属于压印模板制备技术领域。所述压印模板制备系统包括:投影结构,包括空间光调制器,用于生成待投射图案;成像调整结构,包括光学元件组,用于将所述待投射图案进行缩小,其中,所述成像调整结构的入...
  • 一种纳米压印设备及纳米压印方法。其中,纳米压印设备包括料筒、喷胶模块、压印模块、预曝光模块,所述料筒与所述喷胶模块之间设置有传输管路,所述预曝光模块用于在压印之前对传输过程中的压印胶进行预曝光。本发明的技术方案利用压印胶材料的固化特性,控制...
  • 本发明涉及印刷品质量控制技术领域,公开了一种微结构母版修复方法,包括:对微结构母版进行平整度检测,筛选待修复母版;将母版放置于溶剂中去除表面杂物;获取模压样张,并标记模压样张上的微结构瑕疵点区域;对模压样张上的微结构瑕疵点区域做镂空处理,并...
  • 本发明提供一种掩膜版缺陷原位修复方法,通过采用飞秒激光进行缺陷修复,吸收了飞秒激光的所有优势。飞秒激光是一种以“飞秒”为时间单位的超短脉冲激光,其脉冲持续时间极短(飞秒量级)、峰值功率极高(最大可达拍瓦)。因此本发明的修复方法的修复精度可将...
  • 一种掩膜版版图的拆分方法、模块和相关设备,所述掩膜版版图的拆分方法,包括:获取待拆分的掩膜版版图,所述掩膜版版图包括多个主图形;从所述掩膜版版图中获取满足邻近位置关系的多个主图形形成的图形组,并从所述掩膜版版图中获取与所述图形组中的主图形具...
  • 一种版图数据处理方法、装置、存储介质、光掩膜数据和半导体器件的制造方法,方法包括:获取原始版图数据,所述原始版图数据包括晶粒图形和围绕所述晶粒图形设置的划片道图形;形成第一保护环图形,所述第一保护环图形的内周边界与所述晶粒图形的外周边界的尺...
  • 本发明公开一种掩模板、显示面板及其制作方法、投影装置,掩模板包含第一间隔部、第二间隔部以及第三间隔部,第一间隔部及第二间隔部沿第一方向延伸并沿第二方向间隔排列,第一间隔部具有第一侧边,第二间隔部具有第二侧边,第三间隔部沿第二方向延伸并具有相...
  • 本发明涉及半导体领域,公开了对版图进行光学临近效应修正的方法、装置、设备和介质,包括:获取图形单元修正移动量数据库;图形单元修正移动量数据库包括目标图形单元,目标数据信息,目标数据信息包括目标图形单元中每条边的移动量;将版图拆解为单独的图形...
  • 本发明提供了一种SRAF放置规则优化方法、设备、介质及产品。SRAF放置规则优化方法包括:获取半导体电路设计图形;为半导体电路设计图形生成初始待评价SRAF放置规则;以初始待评价SRAF放置规则为起始对半导体电路设计图形的SRAF放置规则进...
  • 本发明提供了一种光刻目标图形的修正方法、计算机程序产品及计算机设备。其中上述方法包括:获取掩模图形在光学邻近修正过程中的光刻目标图形,光刻目标图形为初始光刻目标图形或者上一轮调整后的光刻目标图形;生成光刻目标图形对应的光刻理想轮廓;利用预设...
  • 本发明的反射型掩模坯料包括:基板10;以及多层反射膜50,其设置在所述基板10上且用于反射曝光光并且具有包含低折射率层30和高折射率层20的周期层叠结构部51。低折射率层30含有钌(Ru),并且进一步含有碳(C)和硅(Si)中的一方或双方。
  • 本发明公开了一种可移动式投影机器人,包括有机器人,机器人包括有机壳,机壳内设有能够相对其转动的投影支架,投影支架上设有用于将画面向前方投影的投影装置、用于收集被投射体图像信息的图像收集装置,机壳与投影支架之间设有用于驱动投影支架上下转动的俯...
  • 本发明属于投影显示领域,公开了一种背投影屏幕,包括成像层、黑色吸光层和锯齿形微结构层,所述锯齿形微结构层用于调节投影光线进入屏幕内部的方向;所述黑色吸光层用于调节投影图像的显示亮度均匀性;所述成像层用于呈现投影图像;所述黑色吸光层由沿屏幕横...
技术分类