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最新专利技术
  • 一种硅光调制器及其行波电极
    一种硅光调制器及其行波电极_可川光子技术(苏州)有限公司_202610432668.6
    本发明公开了一种硅光调制器及其行波电极，涉及光通信技术领域，旨在解决现有硅光调制器因射频信号沿传输路径衰减，导致电极后半段调制效率低下的问题。该行波电极沿传输方向分为第一和第二区段。在第一区段内，中心信号线与地线的间距保持恒定，以确保信号高...
    2026-05-10
  • 一种硅光调制器及其波导芯层
    一种硅光调制器及其波导芯层_可川光子技术(苏州)有限公司_202610450412.8
    本发明公开了一种硅光调制器及其波导芯层，涉及光通信技术领域，硅光调制器包括波导芯层及设于其内的半导体掺杂区，其特征在于半导体掺杂区关于几何中心线呈非对称分布。具体而言，利用P型与N型掺杂对光吸收敏感度的差异，令中等掺杂P+区比N+区更大幅度...
    2026-05-10
  • 防窥组件、背光模组及显示装置
    防窥组件、背光模组及显示装置_长沙惠科光电有限公司_202610231390.6
    本发明公开了一种防窥组件、背光模组及显示装置。其中，防窥组件包括设有第一电极层、设有多个驱动电极的第二电极层、绝缘支撑件、介电层、第一膜层以及驱动装置；第一电极层与第二电极层相对设置；所述第二电极层包括多个驱动电极；绝缘支撑件设于第一电极层...
    2026-05-10
  • 显示装置及阵列基板
    显示装置及阵列基板_深圳市华星光电半导体显示技术有限公司_202610313493.7
    本申请提供一种显示装置及阵列基板，属于显示技术领域。显示装置包括液晶层、衬底以及阵列排布在衬底上的多个子像素，每个子像素包括像素电极，像素电极具有多个显示畴，多个显示畴中的至少两个分别用于驱动液晶层中的液晶分子向不同的方向偏转；相邻的两个颜...
    2026-05-10
  • 显示面板及显示装置
    显示面板及显示装置_武汉华星光电技术有限公司_202610361002.6
    本申请公开了一种显示面板及显示装置。一个子像素区中，沿第一方向的多个第一透光开口以及多个第二透光开口的设计，在一个子像素区形成沿第一方向间隔的多个防窥光栅，收窄沿显示面板的第一方向以及第一方向的反方向的出光角度，实现第一方向以及第一方向的反...
    2026-05-10
  • 显示面板及其制备方法、显示装置
    显示面板及其制备方法、显示装置_惠科股份有限公司_202610419819.4
    本申请提供了一种显示面板及其制备方法、显示装置，显示面板包括承载基板、像素界定层及颜色转换层，像素界定层内设有散射粒子，像素界定层设于承载基板的一侧，且像素界定层阵列设置并形成多个开口区，颜色转换层包括多个颜色转换部，颜色转换部设于承载基板...
    2026-05-10
  • 光源组件、背光模组、显示模组及显示装置
    光源组件、背光模组、显示模组及显示装置_京东方科技集团股份有限公司_202511587612.X
    本公开公开了光源组件、背光模组、显示模组及显示装置。光源组件包括：第一驱动板和设置在驱动板一侧表面、与驱动板电连接的沿第一方向延伸的发光组件，驱动板包括第一基底层、连接发光组件的导电层、及电连接导电层的信号引出部，信号引出部在垂直于第一方向...
    2026-05-10
  • 背光模组及显示装置
    背光模组及显示装置_友达光电(苏州)有限公司_202610360260.2
    本发明提供一种背光模组及显示模组，其中背光模组包含光学膜片组、多个光学膜片固定件，光学膜片组包含多张光学膜片，多个光学膜片固定件用于固定多张光学膜片，光学膜片组设置于导光板上。各光学膜片固定件包含胶体，胶体设置于相邻叠置的两光学膜片之间，胶...
    2026-05-10
  • 一种电极结构和液晶透镜
    一种电极结构和液晶透镜_南昌虚拟现实研究院股份有限公司_202610295872.8
    本申请提供了一种电极结构和液晶透镜，所述电极结构包括多个同心圆弧电极，多个所述圆弧电极的圆心角相同，任意相邻两个所述圆弧电极在径向上的距离相同，相邻所述圆弧电极彼此相连形成连续的螺旋式圆弧电极。本申请不仅能够有效生成近似抛物线的电压分布，同...
    2026-05-10
  • 防护膜组件、曝光原版、曝光装置和半导体装置的制造方法
    防护膜组件、曝光原版、曝光装置和半导体装置的制造方法_三井化学株式会社_202610234194.4
    本发明提供防护膜组件、曝光原版、曝光装置和半导体装置的制造方法。防护膜组件(10)包含防护膜(12)和支撑防护膜的支撑框(14)，防护膜(12)包含碳含有率为40质量%以上的碳系膜，防护膜与支撑框接触，满足下述条件1。〔条件1〕支撑框的与防...
    2026-05-10
  • 一种柱镜光栅立体印刷制版缩放方法
    一种柱镜光栅立体印刷制版缩放方法_四川省宜宾普什集团3D有限公司_202610024924.8
    本发明公开了一种柱镜光栅立体印刷制版缩放方法，包括以下步骤：将一色作为基准色，将其它三色均作为调节色；分别测量原四色色版图文两边的调节色套印线与基准色套印线之间的偏差；计算得到调节色与基准色之间的套印误差值；计算得到缩放后调节色色版图文相对...
    2026-05-10
  • 光刻方法和通过该方法可获得的元件和装置
    光刻方法和通过该方法可获得的元件和装置_湃邦(浙江)新材料有限公司_202411989380.6
    本发明涉及光刻方法，包括使用新型有机金属化合物、通过使一种或多种化合物经受聚合条件而获得的聚合物、包含有机金属化合物和/或聚合物的组合物，并用一种或多种显影剂显影形成的曝光抗蚀剂膜，从而形成图案化的抗蚀剂薄膜。本公开还提供了一种可通过本公开...
    2026-05-10
  • 一种光敏树脂高折射率调控方法
    一种光敏树脂高折射率调控方法_苏州大学_202511950988.2
    本发明公开了一种光敏树脂高折射率调控方法，在10‑25 ℃下向光敏树脂体系中加入折射率调节剂，经超声处理后得到光敏树脂组合物；所述折射率调节剂为正硅酸烷基酯和/或钛酸四烷基酯；通过紫外光照射固化所述光敏树脂组合物，调节固化参数校准光敏树脂组...
    2026-05-10
  • 含疏水树脂的负显影光刻胶组合物及其制备方法和应用
    含疏水树脂的负显影光刻胶组合物及其制备方法和应用_国科天骥(山东)新材料有限责任公司_202511995404.3
    本发明涉及一种含疏水树脂的负显影光刻胶及其制备方法和应用。本发明所述含有疏水树脂的光刻胶组合物在成膜时所述疏水树脂可以自分离到薄膜表面形成保护层。所述光刻胶组合物形成的光刻胶薄膜具有低表面能、高后退接触角(例如大于等于85°)、低滑动角(例...
    2026-05-10
  • 一种感光低介电树脂组合物及其制备方法
    一种感光低介电树脂组合物及其制备方法_惠州市则成技术有限公司_202610259104.7
    本申请属于电子材料技术领域，公开了一种感光低介电树脂组合物及其制备方法，该制备方法包括：将弹性体与改性化合物进行加热、反应，得到改性弹性体；将马来酰亚胺单体与三嗪化合物进行加热、反应，得到马来酰亚胺‑三嗪反应物；将填料先进行活化后，加入至含...
    2026-05-10
  • 感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀剂图案的形成方法及印刷线路板的制造方法
    感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀剂图案的形成方法及印刷线路板的制造方法_株式会社力森诺科_202610278117.9
    本发明提供一种感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀剂图案的形成方法及印刷线路板的制造方法。本发明的感光性树脂组合物含有粘合剂聚合物、光聚合性化合物及光聚合引发剂，所述感光性树脂组合物中，粘合剂聚合物包含源自具有二环戊基的(甲基)丙烯酸酯化合物...
    2026-05-10
  • 光学邻近效应修正模型的训练方法、使用方法及电子设备
    光学邻近效应修正模型的训练方法、使用方法及电子设备_深圳市鹏芯微集成电路制造有限公司_202411548555.X
    本公开提供了一种光学邻近效应修正模型的训练方法、使用方法及电子设备，涉及光刻工艺技术领域，所述方法包括：获取第一图形的图形特征，其中，第一图形的第一量测点位的掩膜误差增强因子MEEF估计值与第一量测点位的MEEF理论值之间的差的绝对值大于第...
    2026-05-10
  • 一种针对干法显影的随机仿真方法及相关产品
    一种针对干法显影的随机仿真方法及相关产品_中国科学院微电子研究所_202610095712.9
    本申请公开了一种针对干法显影的随机仿真方法及相关产品，可应用于半导体技术领域，该方法包括：首先基于目标光刻胶结构，利用预设光刻胶聚合模型确定所述目标光刻胶结构所对应的核心聚合情况。然后基于所述核心聚合情况构建目标三维网格。其中，所述目标三维...
    2026-05-10
  • 一种超精密三轴气浮平台
    一种超精密三轴气浮平台_广州科技贸易职业学院_202610193807.4
    本发明公开了一种超精密三轴气浮平台，采用真空预压气浮导轨与多孔质节流气浮轴承协同设计，结合高精度线性光栅尺的纳米级反馈与闭环控制系统调节，实现XY平面纳米级位置重复精度及Z轴±1nm以内的升降精度；全气浮无接触结构消除机械摩擦，气膜的弹性缓...
    2026-05-10
  • 数据处理方法、电子设备、存储介质以及光刻设备
    数据处理方法、电子设备、存储介质以及光刻设备_全芯智造技术股份有限公司_202610261037.2
    本公开的示例实施例涉及数据处理方法、电子设备、存储介质以及光刻设备。该数据处理方法包括：针对目标版图的每个块，按照缺陷类型对每个块内的缺陷点的缺陷值进行排序，以获得每个块的排序后的缺陷数据，其中缺陷值指示缺陷的严重程度；基于与每个块内的缺陷...
    2026-05-10
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