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一种石英环多工序协同加工平台
本申请涉及一种石英环多工序协同加工平台,涉及石英环加工的技术领域,包括旋转式加工台,所述旋转式加工台的表面分别设置有激光粗加工机构、精密磨削机构和机械抛光机构;所述激光粗加工机构、精密磨削机构和机械抛光机构呈半圆形阵列分布在旋转式加工台的表...
一种钢管连续加工装置
本申请公开了一种钢管连续加工装置,涉及钢管加工领域,其包括机体,所述机体用于钢管的连续加工;第二板体,所述第二板体安装在机体上,所述第二板体上开设有通道,所述通道用于钢管通过;驱动组件,所述驱动组件安装在第二板体上;清理单元,所述清理单元环...
履带式钢轨焊接接头打磨设备及作业方法
本发明涉及铁路工务领域,具体涉及一种履带式钢轨焊接接头打磨设备及作业方法。打磨设备包括履带车、机械臂、打磨组件和四个支撑维稳组件,机械臂安装在所述履带车的车架上以被所述履带车承载;打磨组件安装于所述机械臂的末端,包括打磨砂轮和与所述打磨砂轮...
一种定子表面漆瘤打磨除尘一体机
本发明涉及电机加工领域,具体是一种定子表面漆瘤打磨除尘一体机,旋转台,旋转台外圈上均匀开设多个一号滑槽,每个一号滑槽内设有承托定子的底座,底座上端面转动连接有柱状的物料台,物料台底部外圈设有齿环,定子内圈套设在物料台上;电推杆的输出端固接底...
一种基于超临界流体的聚合物抛光装置及抛光方法
本发明公开了一种基于超临界流体的聚合物抛光装置及抛光方法,该装置部分包括雾化转换模块、输送管路模块、抛光加工模块和气体回收装置。所述雾化转换模块用于将输入的液态抛光介质转换为雾化状态,并通过输送管路模块输送至抛光加工模块中。抛光加工模块包括...
一种精密模具表面精加工抛光设备
本发明公开了一种精密模具表面精加工抛光设备,涉及到机械抛光领域,包括底座、工作台、抛光机构和喷淋机构,还包括弹性调节机构、两个激光灯、夹持机构和防护机构;工作台固定设置在底座的上端,工作台的后侧固定连接有L形支撑板,L形支撑板的水平部下端固...
一种液压滑阀用阀套内表面抛光装置
本发明公开了一种液压滑阀用阀套内表面抛光装置。所述装置由旋转抛光组件、底座水槽组件、多向调节组件、阀套夹持组件组成。所述旋转抛光组件由旋转电机带动抛光机构,通过固定底座安装在底座水槽组件的水平导轨上,所述底座水槽组件上安装了万向水龙头提供冷...
抛光用安装机构和具有其的抛光装置以及分步抛光方法
本申请涉及一种抛光用安装机构和具有其的抛光装置以及分步抛光方法,其中抛光用安装机构包括安装结构、限位结构、驱动结构和移动结构。安装结构包括安装辊、安装座和安装架,安装座设置在安装架上,安装座具有安装槽,安装辊包括辊体和限位段,水晶圆环套设在...
一种具有曲面自适应功能的版辊抛光装置
本申请涉及抛光装置技术领域,尤其涉及一种具有曲面自适应功能的版辊抛光装置。其技术方案包括机架、支撑板、安装板以及驱动机构。其创新在于安装板上设有柔性抛光带和施压平衡系统。该系统包含置于抛光带内的弹性囊体,以及用于维持囊体变形时内部压力恒定的...
一种手机壳按键除毛刺及清洁设备
本发明涉及手机壳按键加工技术领域,且公开了一种手机壳按键除毛刺及清洁设备,包括处理台,所述处理台的上表面设置有筛选出料防堵机构。该手机壳按键除毛刺及清洁设备,通过落料机构中的承接块、振动电机、皮带轮一、传动皮带一、皮带轮二、转动杆一、凸轮、...
一种阀杆类零件深窄槽的自动化抛光方法
本发明涉及一种阀杆类零件深窄槽的自动化抛光方法,采用球头拖拽式钝化抛光机;球头拖拽式钝化抛光机的动力主轴输出端均布多个旋转轴2,每个旋转轴端部固定有模块化连接盘;将工件装夹在模块化连接盘上,确保稳固不会产生旋转,在磨料箱中加入准备好的磨料;...
一种长外筒内孔加工磨头
本发明公开了一种长外筒内孔加工磨头,包括本体、油石架、内芯、油石、过渡接头、万向块、万向连接轴、连接轴、顶杆和弹簧;本体上设有轴向通孔和油石架安装槽,油石架安装槽在圆周方向间隔120°分布;油石架通过拉簧弹性连接在油石架安装槽内,本体的轴向...
一种用于旋转件异型齿槽边缘的去毛刺抛光装置及方法
本申请公开了一种用于旋转件异型齿槽边缘的去毛刺抛光装置及方法,属于去毛刺抛光技术领域,包括:基础框架单元;承载运动单元,安装在所述基础框架单元上,用于装夹工件并驱动工件进行回转及倾斜多轴运动;加工执行单元,安装在所述基础框架单元上,包括相对...
一种用于航空发动机榫连接结构的仿形振动抛光方法与装置
本发明公开了一种用于航空发动机榫连接结构的仿形振动抛光方法与装置,属于精密加工技术领域。所述装置包括驱动与振动系统、仿形抛光执行系统、精密力控系统和抛光液循环系统。方法核心是:采用与榫结构型面负形匹配的仿形抛光工具,在其表面附着柔性抛光垫;...
一种光催化辅助超声雾化化学机械抛光设备及抛光方法
本发明公开了一种光催化辅助超声雾化化学机械抛光设备及抛光方法,包括底座和设有设备密封门的罩体;罩体内设有超声雾化施液模块、光催化辅助模块、多自由度抛光执行模块及自适应控制模块。超声雾化模块用于将含光催化剂的抛光液雾化成微米级液滴并均匀喷洒至...
一种印刷辊筒表面研磨设备
本发明公开了一种印刷辊筒表面研磨设备,属于研磨设备领域,包括底座,所述底座的顶部固定连接有收集仓,所述收集仓内底部两侧固定连接有夹持组件,所述收集仓内底部前侧设置有用于对印刷辊研磨的切换组件,所述切换组件包括固定在收集仓内底部前侧的两个固定...
一种双金属杆端面研磨装置
本申请涉及金属材料端面加工技术领域,尤其涉及一种双金属杆端面研磨装置,包括机座底板,其上设置有机座;研磨驱动机构,设于机座上,包括驱动电机、传动组件以及转动空心轴,转动空心轴通过轴承组可转动地设置于机座内;材料固定轴系,同轴穿设于转动空心轴...
研磨垫粘贴平整度的检验系统及方法
本申请提供一种研磨垫粘贴平整度的检验系统及方法,包括:升降器,至少包括相对设置的两个升降杆,升降杆垂直研磨盘,研磨盘设置在两个升降杆之间;激光发射器,与两个升降杆中的任意一个滑动连接,并可沿升降杆上下运动;激光接收器,与两个升降杆中的另一个...
用于化学机械抛光的垫
一种用于化学机械抛光的垫,具体涉及一种适用于对半导体、光学、磁性或机电衬底中的至少一种进行抛光的抛光垫,其包含:包含基质聚合物的抛光层,基质聚合物是氨基甲酸酯‑脲共聚物,氨基甲酸酯‑脲共聚物是含氨基甲酸酯的多元醇预聚物和胺固化剂的固化产物,...
用于化学机械抛光的垫
一种用于化学机械抛光的垫,具体涉及一种适用于对半导体、光学、磁性或机电衬底中的至少一种进行抛光的抛光垫,其包含:抛光层,所述抛光层至少包含三部分共聚物,所述三部分共聚物包含硅酮、聚脲和聚氨酯基团,其中所述三部分共聚物具有被低硅酮区域包围的相...
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