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最新专利技术
  • 基于导向自组装的光罩制造方法及使用该方法制造的光罩
    基于导向自组装的光罩制造方法及使用该方法制造的光罩_张江国家实验室_202410815921.7
    本公开提供一种基于导向自组装的光罩制造方法，能够以高生产通量制备出高图形质量的先进节点高端光罩。包括：引导模板制备步骤，在光罩基底上依次层叠旋涂碳膜和减反射层，并在减反射层中形成规定图形，通过涂布中性层或分子刷并退火，制备引导模板；嵌段共聚...
    2026-02-01
  • 具有导流槽的纳米压印模板、其制作方法及应用
    具有导流槽的纳米压印模板、其制作方法及应用_张江国家实验室_202410812213.8
    一种具有导流槽的纳米压印模板、其制作方法及应用，属于纳米压印技术领域。所述纳米压印模板包括一衬底，以及形成在所述衬底下表面上的凸台；所述凸台上设置有具有待转印凹凸结构的微纳米结构；其中，所述凸台的四个角上设置有用于将压印胶中的气泡排出的导流...
    2026-02-01
  • 纳米压印模板、制备方法及采用其的纳米压印设备
    纳米压印模板、制备方法及采用其的纳米压印设备_张江国家实验室_202410812215.7
    一种纳米压印模板、制备方法及采用其的纳米压印设备，属于纳米压印技术领域。所述纳米压印模板包括衬底和形成在衬底下表面上的、具有凹凸结构的待转印微纳米结构；其中，所述纳米压印模板的总厚度为0.3～2.0毫米。本申请的纳米压印模板通过减薄厚度，提...
    2026-02-01
  • 基于薄模板的纳米压印方法
    基于薄模板的纳米压印方法_张江国家实验室_202410812216.1
    一种基于薄模板的纳米压印方法。所述纳米压印方法采用总厚度为0.3～2.0毫米的纳米压印模板，包括：将纳米压印模板装配到纳米压印设备上；通过电致动器使纳米压印模板中心凸起；下压纳米压印模板到预设位置，使其与压印胶贴合；通过紫外光源使压印胶固化...
    2026-02-01
  • 转接吸盘、应用于纳米压印的拼接模板结构及压印设备
    转接吸盘、应用于纳米压印的拼接模板结构及压印设备_张江国家实验室_202410812218.0
    一种转接吸盘、应用于纳米压印的拼接模板结构及压印设备，属于纳米压印模板技术领域。所述拼接模板结构包括吸盘支架和设置在所述吸盘支架上的压印组件；薄模板拼接结构，设置在所述吸盘支架上背离所述压印组件的一侧，所述薄模板拼接结构包括相互之间密封连接...
    2026-02-01
  • 负性感光性着色树脂组合物、固化膜和图案加工方法
    负性感光性着色树脂组合物、固化膜和图案加工方法_武汉柔显科技股份有限公司_202511407328.X
    本申请提供了一种负性感光性着色树脂组合物、固化膜和图案加工方法，涉及OLED显示技术领域。该负性感光性着色树脂组合物包括(a)碱溶性树脂；(b)着色剂分散液；(c)紫外线吸收剂和(d)阻聚剂，紫外线吸收剂选自苯并三唑类化合物、三嗪类化合物、...
    2026-02-01
  • 一种感光树脂组合物及其应用
    一种感光树脂组合物及其应用_武汉尚赛光电科技有限公司_202511418936.0
    本发明属于材料技术领域，具体涉及一种感光树脂组合物及其应用。感光树脂组合物包含以下各组分：碱溶性树脂、树脂单体、固化引发剂、溶剂、助剂。本发明的感光树脂组合物具有优异的光学性能、固化速率及成膜性能，在实际应用中与基板的附着能力好，能够在较低...
    2026-02-01
  • 一种正性光刻胶组合物及其应用
    一种正性光刻胶组合物及其应用_江苏艾森半导体材料股份有限公司_202511428021.8
    本发明提供一种正性光刻胶组合物，以重量份计，所述正性光刻胶组合物包括100份树脂、0.5～10份重氮萘醌化合物、1～10份光致产酸剂和0.01～0.5份氮唑类化合物；所述氮唑类化合物具有式I或式II所示结构。所述采用特定结构的氮唑类化合物与...
    2026-02-01
  • 光刻胶组合物、彩色滤光层及显示面板
    光刻胶组合物、彩色滤光层及显示面板_TCL华星光电技术有限公司_202511467679.X
    本申请公开了一种光刻胶组合物、彩色滤光层及显示面板；光刻胶组合物包括着色材料以及溶剂，着色材料包括含有醚键和酯基的基团，溶剂包括含有醚键和酯基的基团；本申请提供的光刻胶组合物中，着色材料和溶剂中均可以包括含有醚键和酯基的基团，进而可以有效提...
    2026-02-01
  • 一种用于高分辨率显示面板的彩色光刻胶喷涂显影工艺
    一种用于高分辨率显示面板的彩色光刻胶喷涂显影工艺_深圳清荷科技有限公司_202511480784.7
    本发明涉及光刻胶技术领域，具体涉及一种用于高分辨率显示面板的彩色光刻胶喷涂显影工艺，包括以下步骤：S1.制备复合彩色光刻胶；S2.基板预处理；S3.喷涂工艺；S4.预烘烤；S5.曝光；S6.显影；S7.后烘烤；本发明通过优化彩色光刻胶的组分...
    2026-02-01
  • 一种银纳米团簇紫外-可见光光引发剂及其光刻胶和方法
    一种银纳米团簇紫外-可见光光引发剂及其光刻胶和方法_浙江大学_202511544657.9
    本发明公开了一种银纳米团簇紫外‑可见光光引发剂及其光刻胶和方法，属于光敏材料技术领域。光引发剂为包括Ag29(NAP)24、Ag29(DHLA)12、NiAg28(NAP)24、NiAg28(DHLA)12在内的水溶性银纳米团簇以及包括Ni...
    2026-02-01
  • 用于MicroLED色转换层的高分辨量子点光刻胶及其制备方法
    用于MicroLED色转换层的高分辨量子点光刻胶及其制备方法_威海恒烁光科新材料有限公司_202511665780.6
    本发明涉及材料领域，公开了一种用于MicroLED色转换层的高分辨量子点光刻胶及其制备方法，量子点光刻胶的制备原料包括功能性组分及可选地溶剂，基于制备原料的总量，功能性成分的量为20‑100wt.%，功能性组分包括量子点、多官能团单体、单官...
    2026-02-01
  • 一种高耐化性感光干膜及其制备方法
    一种高耐化性感光干膜及其制备方法_广东硕成科技股份有限公司_202511473775.5
    本发明涉及印刷电路板制造技术领域，具体为一种高耐化性感光干膜及其制备方法，按重量份计，至少包括以下原料：含苯环单体5‑15份，丙烯酸酯类单体100‑200份，功能性单体20‑70份，溶剂200‑300份，光引发剂0.5‑2份，通过优化产品体...
    2026-02-01
  • 一种生物基、低介电、可光刻图案化树脂及制备和在重布线层中的应用
    一种生物基、低介电、可光刻图案化树脂及制备和在重布线层中的应用_西南科技大学_202511571142.8
    本发明公开了一种生物基、低介电、可光刻图案化树脂及制备和在重布线层中的应用，将萜烯单体与苯并环丁烯基单体的共聚物、光交联剂、光引发剂和有机溶剂复配得到光敏树脂，即生物基、低介电、可光刻图案化树脂；本发明的光敏树脂可用于苯并环丁烯光敏树脂的结...
    2026-02-01
  • 光源及掩模的协同优化方法、设备、介质及产品
    光源及掩模的协同优化方法、设备、介质及产品_深圳晶源信息技术有限公司_202511484105.3
    本申请公开了光源及掩模的协同优化方法、设备、介质及产品，涉及光刻仿真技术领域。该方法包括：确定出便于处理的像素化光源，并在像素化光源中筛选出光强值为第一光强值的像素点，筛选第一光强值的像素点是为了后续在进行成像计算时，仅计算第一光强值的像素...
    2026-02-01
  • 一种用于光刻照明系统的反射式匀光器件制造方法
    一种用于光刻照明系统的反射式匀光器件制造方法_中国科学院光电技术研究所_202511498571.7
    本发明公开了一种用于光刻照明系统的反射式匀光器件制造方法，属于光刻照明技术领域，包括：对球面反射镜进行加工研磨，切割得到多个复眼子单元，对多个复眼子单元的切割面及前后表面精抛加工；将多个复眼子单元根据图纸排列位置放置在玻璃基板上获得反射式匀...
    2026-02-01
  • 获取曝光中热补偿的方法、用于曝光的热补偿系统
    获取曝光中热补偿的方法、用于曝光的热补偿系统_芯恩(青岛)集成电路有限公司_202511622222.1
    本发明提供了一种获取曝光中热补偿的方法、用于曝光的热补偿系统，所述方法包括获取前一批次晶圆和当前批次晶圆的产品信息和曝光时的工艺信息；执行第一判断、第二判断、第三判断及第四判断；若第一判断、第二判断、第三判断及第四判断中任一个的判断结果为否...
    2026-02-01
  • 光刻分辨率增强方法、装置、计算机设备及存储介质
    光刻分辨率增强方法、装置、计算机设备及存储介质_大族安莱(吉安)半导体科技有限公司_202511637661.X
    本申请属于光刻工艺领域，涉及一种光刻分辨率增强方法、装置、计算机设备及存储介质。所述光刻分辨率增强方法包括：获取系统参数信息；根据所述系统参数信息构建正向光刻模型，并基于所述正向光刻模型以进行目标图形为期望输出进行迭代求解，得到最优波前相位...
    2026-02-01
  • 一种用于接近式光刻机的套刻稳定性控制方法
    一种用于接近式光刻机的套刻稳定性控制方法_中国电子科技集团公司第五十五研究所_202511681127.9
    本发明公开了一种用于接近式光刻机的套刻稳定性控制方法，方法在接近式光刻基于图像处理的对准技术基础上，使用预训练的方法提取特征形成标准化的对准模板图像，基于多次工艺实验，构建对准特征模板的支持集，进行训练与迭代优化，以建立对准模板模型库，通过...
    2026-02-01
  • 用于对晶圆进行失焦补偿的方法、半导体器件及相关产品
    用于对晶圆进行失焦补偿的方法、半导体器件及相关产品_合肥晶合集成电路股份有限公司_202511715014.6
    本披露公开了一种用于对晶圆进行失焦补偿的方法、半导体器件及相关产品。该方法包括：确定衬底产品的参考聚焦深度；根据平整的衬底样品在参考聚焦深度和浮动聚焦深度下光刻形成的关键尺寸，构建关键尺寸与变焦幅度的变化曲线；其中，浮动聚焦深度为在参考聚焦...
    2026-02-01
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